技術(shù)總結(jié)
一種電連接結(jié)構(gòu)，所述電連接結(jié)構(gòu)包括電連接單元、位于所述電連接單元一側(cè)的干涉層以及位于所述電連接單元遠(yuǎn)離所述干涉層的一側(cè)并覆蓋所述電連接單元的絕緣覆蓋層，所述電連接單元包括金屬層，所述干涉層靠近所述絕緣覆蓋層的一側(cè)對光線的反射率與所述金屬層對光線的反射率相同。本發(fā)明還提供一種陣列基板。本發(fā)明由于設(shè)置了干涉層，能夠降低反射至絕緣覆蓋層的光線強(qiáng)度，使絕緣覆蓋層不易被光線破壞，進(jìn)而得到平坦的絕緣覆蓋層。

技術(shù)研發(fā)人員：廖金閱;劉家麟;戴延樘;呂宏哲
受保護(hù)的技術(shù)使用者：鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
文檔號碼：201510284428
技術(shù)研發(fā)日：2015.05.29
技術(shù)公布日：2017.01.04