一種投影式曝光設(shè)備及使用方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種投影式曝光設(shè)備及使用方法，包括光源、空間光調(diào)制器和曝光板材；在此基礎(chǔ)上，還包括吹氣管，吹氣管安裝在曝光板材表面的前方，吹氣管上開有多個出風口，所述的出風口的出風位置對應(yīng)曝光板材表面易堆積贓物的區(qū)域。本發(fā)明通過在曝光板材表面的前方增加了吹氣管，在光束二到達待曝光板材表面的同時，吹氣管出風，經(jīng)由出風口對曝光板材表面易堆積贓物區(qū)域進行吹掃，待贓物全清除后停止出風，從而避免了因贓物污染，導(dǎo)致光束無法直接照射到板材表面，從而贓物覆蓋處無法發(fā)生化學感光聚合反應(yīng)，出現(xiàn)圖形的缺失而引起一系列的品質(zhì)缺陷的情況的發(fā)生，降低了報廢率的同時，提升了PCB良率，具有廣泛的市場前景和使用價值。
【專利說明】一種投影式曝光設(shè)備及使用方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種利用氣流清潔板材提升良率的方法，具體是一種投影式曝光設(shè) 備，其特及使用方法，屬于印刷電路板中曝光【技術(shù)領(lǐng)域】。

【背景技術(shù)】
[0002] 目前印刷電路板（PCB)圖像轉(zhuǎn)移設(shè)備有兩大類：傳統(tǒng)的投影式曝光設(shè)備和激光直 接成像設(shè)備（LDI)。傳統(tǒng)的投影式曝光設(shè)備將圖形印制在菲林底片上，通過投影菲林底片將 圖形轉(zhuǎn)移到感光干膜上；另外一類是激光直寫式曝光設(shè)備，激光束將曝光圖形通過空間光 調(diào)制器直接掃描成像在感光干膜上。
[0003] 激光直寫式曝光設(shè)備使用空間光調(diào)制器（SLM，Special Light Modulator)來代替 菲林底片圖形，光束通過空間光調(diào)制器反射，經(jīng)過光路到達待曝光基底表面，利用化學聚合 反應(yīng)將圖形轉(zhuǎn)移到待曝光板材表面，所述的待曝光板材采用壓有感光干膜的PCB板，空間 光調(diào)制器上的圖形與待曝光基底之間做相對運動；曝光基底在隨著平臺運動過程中，由于 操作人員、環(huán)境等影響，板材上會發(fā)生贓物污染，如毛發(fā)、干膜碎屑、灰塵等覆蓋，此時會使 光束無法直接照射到板材表面，從而贓物覆蓋處無法發(fā)生化學感光聚合反應(yīng)，導(dǎo)致圖形的 缺失而引起一系列的品質(zhì)缺陷（開路、缺口、短路、多銅)，據(jù)PCB生產(chǎn)統(tǒng)計：贓物的影響會導(dǎo) 致報廢率上升1%以上。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 針對上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本發(fā)明提供一種投影式曝光設(shè)備及使用方法及裝 置，提升PCB良率，降低報廢率。
[0005] 為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明包括光源、空間光調(diào)制器和曝光板材；在此基礎(chǔ)上，還 包括吹氣管，吹氣管安裝在曝光板材表面的前方，吹氣管上開有多個出風口，所述的出風口 的出風位置對應(yīng)曝光板材表面易堆積贓物的區(qū)域。
[0006] 進一步，曝光板材為PCB板，表面壓有一層感光干膜。
[0007] 根據(jù)本發(fā)明中投影式曝光設(shè)備的機構(gòu)，其具體的使用方法如下： (1) 光源發(fā)出光束一，光束一經(jīng)過光路到空間光調(diào)制器； (2) 空間光調(diào)制器將光束一反射形成光束二； (3) 吹氣管出風，經(jīng)由出風口對曝光板材表面易堆積贓物的區(qū)域進行吹掃，待贓物完全 清除后停止出風； (4) 與步驟三同步，光束二到達待曝光板材表面，利用化學感光聚合反應(yīng)將圖形轉(zhuǎn)移到 待曝光基底的表面，空間光調(diào)制器上的圖形與待曝光基底之間做相對運動，完成整體操作。
[0008] 作為另外一種使用方式，具體的使用方法如下： (1) 吹氣管出風，經(jīng)由出風口對曝光板材表面易堆積贓物的區(qū)域進行吹掃，待贓物（7) 完全清除后停止出風； (2) 光源發(fā)出光束一，光束一經(jīng)過光路到空間光調(diào)制器； (3) 空間光調(diào)制器將光束一反射形成光束二； (4) 光束二到達待曝光板材表面，利用化學感光聚合反應(yīng)將圖形轉(zhuǎn)移到待曝光基底的 表面，空間光調(diào)制器上的圖形與待曝光基底之間做相對運動，完成整體操作。
[0009] 對比現(xiàn)有技術(shù)，同時結(jié)合本發(fā)明的結(jié)構(gòu)和具體的是方法，本發(fā)明在曝光板材表面 的前方增加了吹氣管，在光束二到達待曝光板材表面的同時，吹氣管出風，經(jīng)由出風口對曝 光板材表面易堆積贓物區(qū)域進行吹掃，待贓物全清除后停止出風，從而避免了因贓物污染， 導(dǎo)致光束無法直接照射到板材表面，從而贓物覆蓋處無法發(fā)生化學感光聚合反應(yīng)，出現(xiàn)圖 形的缺失而引起一系列的品質(zhì)缺陷(如開路、缺口、短路、多銅等）的情況的發(fā)生，降低了報 廢率的同時，提升了 PCB良率，具有廣泛的市場前景和使用價值。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010] 圖1為現(xiàn)有投影式曝光設(shè)備的工作流程示意圖； 圖2為本發(fā)明的工作流程示意圖。
[0011] 圖中：1、光源；2、光束一 ；3、空間光調(diào)制器；4、光束二；5、曝光板材；6、曝光基底； 7、贓物；8、吹氣管。

【具體實施方式】
[0012] 下面結(jié)合附圖對本發(fā)明做進一步說明。
[0013] 如圖2所示，一種投影式曝光設(shè)備，包括光源1、空間光調(diào)制器3和曝光板材5 ;還 包括吹氣管8,所述的吹氣管8安裝在曝光板材5表面的前方，吹氣管8上開有多個出風口， 所述的出風口的出風位置對應(yīng)曝光板材5表面易堆積贓物7的區(qū)域。
[0014] 作為本發(fā)明優(yōu)選的方式，所述的曝光板材5為PCB板，表面壓有一層感光干膜。
[0015] 結(jié)合圖2所示，投影式曝光設(shè)備的使用方法如下： (1) 光源1發(fā)出光束一 2,光束一經(jīng)過光路到空間光調(diào)制器3 ; (2) 空間光調(diào)制器將光束一 2反射形成光束二4 ; (3) 吹氣管8出風，經(jīng)由出風口對曝光板材5表面易堆積贓物7的區(qū)域進行吹掃，待贓 物7完全清除后停止出風； (4) 與步驟三同步，光束二4到達待曝光板材表面5,利用化學感光聚合反應(yīng)將圖形轉(zhuǎn) 移到待曝光基底6的表面，空間光調(diào)制器3上的圖形與待曝光基底6之間做相對運動，完成 整體操作。
[0016] 作為另一種方式，其具體的使用方法如下： (1) 吹氣管8出風，經(jīng)由出風口對曝光板材5表面易堆積贓物7的區(qū)域進行吹掃，待贓 物7完全清除后停止出風； (2) 光源1發(fā)出光束一 2,光束一經(jīng)過光路到空間光調(diào)制器3 ; (3) 空間光調(diào)制器將光束一 2反射形成光束二4 ; (4) 光束二4到達待曝光板材表面5,利用化學感光聚合反應(yīng)將圖形轉(zhuǎn)移到待曝光基底 6的表面，空間光調(diào)制器3上的圖形與待曝光基底6之間做相對運動，完成整體操作。
[0017] 對比圖1的現(xiàn)有技術(shù)，結(jié)合本發(fā)明的結(jié)構(gòu)和具體的是方法，本發(fā)明在曝光板材表 面的前方增加了吹氣管8,在光束二4到達待曝光板材表面的同時，吹氣管8出風，經(jīng)由出風 口對曝光板材5表面易堆積贓物7區(qū)域進行吹掃，待贓物7全清除后停止出風，從而避免了 因贓物7污染，導(dǎo)致光束無法直接照射到板材表面，從而贓物覆蓋處無法發(fā)生化學感光聚 合反應(yīng)，出現(xiàn)圖形的缺失而引起一系列的品質(zhì)缺陷（如開路、缺口、短路、多銅等）的情況的 發(fā)生，降低了報廢率的同時，提升了 PCB良率，具有廣泛的市場前景和使用價值。
【權(quán)利要求】
1. 一種投影式曝光設(shè)備，包括光源（1)、空間光調(diào)制器（3)和曝光板材（5); 其特征在于，還包括吹氣管（8)，所述的吹氣管（8)安裝在曝光板材（5)表面的前方，吹 氣管（8)上開有多個出風口，所述的出風口的出風位置對應(yīng)曝光板材（5)表面易堆積贓物 (7)的區(qū)域。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種投影式曝光設(shè)備，其特征在于，所述的曝光板材（5)為 PCB板，表面壓有一層感光干膜。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種投影式曝光設(shè)備，其特征在于，具體的使用方法如下： (1) 光源（1)發(fā)出光束一（2)，光束一經(jīng)過光路到空間光調(diào)制器（3); (2) 空間光調(diào)制器將光束一（2)反射形成光束二（4); (3) 吹氣管（8)出風，經(jīng)由出風口對曝光板材（5)表面易堆積贓物（7)的區(qū)域進行吹掃， 待贓物（7)完全清除后停止出風； (4) 與步驟三同步，光束二（4)到達待曝光板材表面（5)，利用化學感光聚合反應(yīng)將圖 形轉(zhuǎn)移到待曝光基底（6)的表面，空間光調(diào)制器（3)上的圖形與待曝光基底（6)之間做相對 運動，完成整體操作。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種投影式曝光設(shè)備，其特征在于，具體的使用方法如下： (1)吹氣管（8)出風，經(jīng)由出風口對曝光板材（5)表面易堆積贓物（7)的區(qū)域進行吹掃， 待贓物（7)完全清除后停止出風； (2 )光源（1)發(fā)出光束一（2 )，光束一經(jīng)過光路到空間光調(diào)制器（3 ); (3) 空間光調(diào)制器將光束一（2)反射形成光束二（4); (4) 光束二（4)到達待曝光板材表面（5)，利用化學感光聚合反應(yīng)將圖形轉(zhuǎn)移到待曝光 基底（6)的表面，空間光調(diào)制器（3)上的圖形與待曝光基底（6)之間做相對運動，完成整體 操作。
【文檔編號】G03F7/20GK104216240SQ201410472609
【公開日】2014年12月17日 申請日期:2014年9月17日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月17日
【發(fā)明者】王宇航, 曹旸 申請人:江蘇影速光電技術(shù)有限公司