專利名稱：掩膜版的晾干裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及晾干技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜版的晾干裝置。
背景技術(shù)：
掩模版photomask,也稱光罩、光學(xué)掩模版,常見的掩模版有鉻版(chrome mask)、干版(emulsion mask)、菲林(film mask)等,是指在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。掩膜版制造過(guò)程的最后需要對(duì)掩膜版進(jìn)行清洗干燥，目前掩膜版常規(guī)清洗干燥技術(shù)是把掩膜版直接放入到烘箱中進(jìn)行烘烤，這樣的結(jié)果是使掩膜版表面凈化度達(dá)到顧客使用要求。

實(shí)用新型內(nèi)容為此，本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種掩膜版的晾干裝置，使得晾干后的掩膜版表面沒(méi)有化學(xué)物質(zhì)殘留。本實(shí)用新型提供了一種掩膜版的晾干裝置，包括設(shè)置在該晾干裝置上方用于從上往下送風(fēng)的FFU(Fan Filter Units，風(fēng)機(jī)濾器機(jī)組)機(jī)組、設(shè)置在FFU機(jī)組出風(fēng)口上用于調(diào)整風(fēng)速風(fēng)向參數(shù)的整流罩和設(shè)置在該晾干裝置內(nèi)可使掩膜版傾斜擺放在其上的晾版架。其中，所述晾干架為L(zhǎng)形，包括成90度角的底盤和背板，底盤和背板上均設(shè)置有用于放置掩膜版的阻滑條，底盤上還裝置有導(dǎo)風(fēng)孔。所述晾干架還包括可將晾干架懸掛在該晾干裝置內(nèi)壁上的掛件。所述背板為開口箱形，其開口處用于接收FFU機(jī)組的出風(fēng)，箱形背板的一面設(shè)置有導(dǎo)風(fēng)孔槽和所述用于放置掩膜版的阻滑條。本實(shí)用新型所述掩膜版的晾干裝置，通過(guò)在FFU機(jī)組出風(fēng)口上設(shè)置用于調(diào)整風(fēng)速風(fēng)向參數(shù)的整流罩和在該晾干裝置內(nèi)設(shè)置可使掩膜版傾斜擺放在其上的晾干架，使得掩膜版經(jīng)過(guò)這樣的晾干裝置晾干后掩膜版表面凈化度達(dá)到顧客使用要求。

圖I為本實(shí)用新型實(shí)施例所述掩膜版的晾干裝置結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖I所示晾干裝置內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為圖2中A部局部放大圖。
具體實(shí)施方式
下面，結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)描述。如圖I所示，本實(shí)施例提供了一種掩膜版的晾干裝置，包括設(shè)置在該晾干裝置上方用于從上往下送風(fēng)的FFU (Fan Filter Units，風(fēng)機(jī)濾器機(jī)組)機(jī)組11、設(shè)置在FFU機(jī)組11出風(fēng)口上用于調(diào)整風(fēng)速風(fēng)向參數(shù)的整流罩12和設(shè)置在該晾干裝置內(nèi)可使掩膜版20傾斜擺放在其上的晾干架13。其中，整流罩12，可以根據(jù)掩膜版的大小、以及需要晾干的品質(zhì)需求任意調(diào)整風(fēng)速、風(fēng)向參數(shù)。如圖2所示，晾干架13為L(zhǎng)形，包括成90度角的底盤131和背板132，底盤131和背板132上均設(shè)置有用于放置掩膜版20的阻滑條133，底盤131上還裝置有導(dǎo)風(fēng)孔134。晾干架13可以放置在本實(shí)施例所述晾干裝置內(nèi)，也可以懸掛在該晾干裝置內(nèi)壁上，為此，晾干架13還可以進(jìn)一步包括可將晾干架懸掛在該晾干裝置內(nèi)壁上的掛件135。背板132可以是開口箱形，其開口處136處用于接收FFU機(jī)組11的出風(fēng)，箱形背 板的一面設(shè)置有導(dǎo)風(fēng)槽137和所述用于放置掩膜版的阻滑條133。如圖I所示，F(xiàn)FU機(jī)組11的出風(fēng)通過(guò)整流罩12出風(fēng)后，一部分直接吹向掩膜版正面，另一部分通過(guò)背板132的開口進(jìn)入到背板中，并通過(guò)背板上的導(dǎo)風(fēng)槽137出來(lái)，對(duì)掩膜版背面進(jìn)行吹風(fēng)。這樣的晾干過(guò)程，使得掩膜版表面沒(méi)有化學(xué)物質(zhì)殘留。在實(shí)際使用過(guò)程中，本實(shí)施例所述掩膜版的晾干裝置，晾干的掩膜版表面無(wú)化學(xué)物質(zhì)殘留，比背景技術(shù)中所述烘箱耗能低，干燥時(shí)間也由原來(lái)的15到30分鐘縮短到5到15分鐘，實(shí)用性明顯。綜上所述，本實(shí)施例所述掩膜版的清洗干燥裝置，通過(guò)此方案在FFU機(jī)組出風(fēng)口上設(shè)置用于調(diào)整風(fēng)速風(fēng)向參數(shù)的整流罩和在該晾干裝置內(nèi)設(shè)置可使掩膜版傾斜擺放在其上的晾干架，使得掩膜版通過(guò)風(fēng)吹晾干裝置晾干后掩膜版表面凈化度達(dá)到顧客使用要求。以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種掩膜版的晾干裝置，其特征在于，包括設(shè)置在該晾干裝置上方用于從上往下送風(fēng)的FFU機(jī)組、設(shè)置在FFU機(jī)組出風(fēng)口上用于調(diào)整風(fēng)速風(fēng)向參數(shù)的整流罩和設(shè)置在該晾干裝置內(nèi)可使掩膜版傾斜擺放在其上的晾干架。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的掩膜版的晾干裝置，其特征在于，所述晾干架為L(zhǎng)形，包括成90度角的底盤和背板，底盤和背板上均設(shè)置有用于放置掩膜版的阻滑條，底盤上還裝置有導(dǎo)風(fēng)孔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜版的晾干裝置，其特征在于，所述晾干架還包括可將晾干架懸掛在該晾干裝置內(nèi)壁上的掛件。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜版的晾干裝置，其特征在于，所述背板為開口箱形，其開口處用于接收FFU機(jī)組的出風(fēng)，箱形背板的一面設(shè)置有導(dǎo)風(fēng)孔槽和所述用于放置掩膜版的阻滑條。
專利摘要本實(shí)用新型提供了一種掩膜版的清洗干燥裝置，包括設(shè)置在該晾干裝置上方用于從上往下送風(fēng)的FFU(FanFilterUnits，風(fēng)機(jī)濾器機(jī)組)機(jī)組、設(shè)置在FFU機(jī)組出風(fēng)口上用于調(diào)整風(fēng)速風(fēng)向參數(shù)的整流罩和設(shè)置在該晾干裝置內(nèi)可使掩膜版傾斜擺放在其上的晾干架。本實(shí)用新型所述掩膜版的晾干裝置，通過(guò)在FFU風(fēng)機(jī)組出風(fēng)口上設(shè)置用于調(diào)整風(fēng)速風(fēng)向參數(shù)的整流罩和在該晾干裝置內(nèi)設(shè)置可使掩膜版傾斜擺放在其上的晾干架，使得掩膜版經(jīng)過(guò)這樣的晾干裝置晾干后掩膜版表面凈化度達(dá)到顧客使用要求。
文檔編號(hào)G03F1/82GK202494861SQ20122010638
公開日2012年10月17日 申請(qǐng)日期2012年3月20日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月20日
發(fā)明者侯廣杰, 游定平 申請(qǐng)人:深圳市龍圖光電有限公司