光掩膜版用涂膠卡盤的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及集成電路領(lǐng)域，特別地，涉及一種光掩膜版用涂膠卡盤。
【背景技術(shù)】
[0002]光掩膜版是集成電路制造工藝中的重要部件，一塊光掩膜版就是一塊普通玻璃或石英玻璃，玻璃的一面印有以金屬鉻為圖層的幾何圖形，光掩膜版同時(shí)包含了設(shè)計(jì)者的版圖信息和必要的硅片代工廠工藝修正信息，工廠通過光刻工藝將這些掩膜版的圖形投影到硅片上，以便在硅片上進(jìn)行選擇性摻雜，互連，從而制成半導(dǎo)體器件和集成電路。
[0003]這個(gè)過程就與現(xiàn)代印刷工業(yè)類似，光掩膜版相當(dāng)于印刷母板。有別于傳統(tǒng)的矩形光掩膜版，環(huán)形光掩膜版可用于環(huán)形集成電路等領(lǐng)域?？ūP(chuck)作為光掩膜版涂覆光刻膠的載體，其形狀能影響高速旋轉(zhuǎn)的產(chǎn)品片周圍的流場(chǎng)，對(duì)光掩膜版光刻膠膜層均勻性、無缺陷性具有重要作用。
[0004]矩形光掩膜版在高速旋轉(zhuǎn)時(shí)，由于是放置于卡盤矩形凹槽內(nèi)，光掩膜版與卡盤之間不會(huì)產(chǎn)生軸向相對(duì)位移，而環(huán)形光掩膜版由于是放入卡盤環(huán)形凹槽內(nèi)，在卡盤較大的速度和加速度下，光掩膜版與卡盤之間易產(chǎn)生軸向相對(duì)位移，從而影響環(huán)形光掩膜版涂覆光刻膠的均勻性；且由于環(huán)形光掩膜版涂膠區(qū)域窄，故在涂覆光刻膠過程中極易出現(xiàn)內(nèi)外邊緣變色(因膠厚不均勻?qū)е履z面顏色不一致的現(xiàn)象)、膠面紊亂等問題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型提供了一種光掩膜版用涂膠卡盤，以解決現(xiàn)有的卡盤由于光掩膜版與卡盤之間易產(chǎn)生軸向相對(duì)位移，從而影響光掩膜版涂覆光刻膠的均勻性的技術(shù)問題。
[0006]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下:
[0007]—種光掩膜版用涂膠卡盤，包括卡盤本體，卡盤本體上設(shè)有用于卡持待涂膠的光掩膜版的第一凹槽，第一凹槽呈與光掩膜版相適應(yīng)的環(huán)形，第一凹槽的底部設(shè)有用于與裝設(shè)于第一凹槽內(nèi)的光掩膜版的底部抵觸以提供靜摩擦力的摩擦件。
[0008]進(jìn)一步地，第一凹槽的底部設(shè)有用于安裝摩擦件的第二凹槽，摩擦件卡緊于第二凹槽內(nèi)且延伸出第二凹槽外0.5mm?Imm0
[0009]進(jìn)一步地，第二凹槽呈環(huán)形且與第一凹槽同軸，摩擦件呈與第二凹槽相匹配的環(huán)形。
[0010]進(jìn)一步地，摩擦件為環(huán)形橡膠密封圈。
[0011]進(jìn)一步地，卡盤本體呈圓盤狀，其上表面上具有用于與光掩膜版的內(nèi)環(huán)相配合的第一圓臺(tái)，第一圓臺(tái)位于卡盤本體的中心；卡盤本體的上表面還設(shè)有第一凹槽，第一凹槽圍設(shè)于第一圓臺(tái)外。
[0012]進(jìn)一步地，第一圓臺(tái)的直徑比光掩膜版的內(nèi)環(huán)的內(nèi)徑小Imm?2mm。
[0013]進(jìn)一步地，第一凹槽的深度等于或小于光掩膜版的厚度。
[0014]進(jìn)一步地，第一凹槽的深度為4mm?6_ ;第一凹槽的寬度為20_?30_。
[0015]進(jìn)一步地，卡盤本體為鋁合金卡盤本體。
[0016]進(jìn)一步地，卡盤本體的上表面上加工有多條第三凹槽，第三凹槽的兩端分別與第一凹槽和卡盤本體的外周緣連通。
[0017]本實(shí)用新型具有以下有益效果:
[0018]采用本實(shí)用新型的光掩膜版用涂膠卡盤時(shí)，由于第一凹槽的底部設(shè)有用于與裝設(shè)于第一凹槽內(nèi)的光掩膜版的底部抵觸以提供靜摩擦力的摩擦件，故當(dāng)光掩膜版裝設(shè)于第一凹槽內(nèi)時(shí)，由于摩擦件與光掩膜版底部的靜摩擦力，從而使當(dāng)卡盤具有較高的速度和加速度時(shí)，光掩膜版與卡盤之間不會(huì)出現(xiàn)沿軸線方向的相對(duì)移動(dòng)，從而提高環(huán)形光掩膜版涂覆光刻膠的均勻性。
[0019]除了上面所描述的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)之外，本實(shí)用新型還有其它的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)。下面將參照?qǐng)D，對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
【附圖說明】
[0020]構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分的附圖用來提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，本實(shí)用新型的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本實(shí)用新型，并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0021]圖1是本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的光掩膜版用涂膠卡盤的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；以及
[0022]圖2是圖1中的卡盤本體的剖視主視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]圖例說明
[0024]1、卡盤本體；101、第一凹槽；102、第二凹槽；103、第一圓臺(tái)；104、第三凹槽；2、摩擦件。
【具體實(shí)施方式】
[0025]以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明，但是本實(shí)用新型可以由權(quán)利要求限定和覆蓋的多種不同方式實(shí)施。
[0026]如圖1和圖2所示，本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例提供了一種光掩膜版用涂膠卡盤，包括卡盤本體I，卡盤本體I上設(shè)有用于卡持待涂膠的光掩膜版的第一凹槽101，第一凹槽101呈與光掩膜版相適應(yīng)的環(huán)形，第一凹槽101的底部設(shè)有用于與裝設(shè)于第一凹槽101內(nèi)的光掩膜版的底部抵觸以提供靜摩擦力的摩擦件2。采用本實(shí)用新型的光掩膜版用涂膠卡盤時(shí)，由于第一凹槽101的底部設(shè)有用于與裝設(shè)于第一凹槽101內(nèi)的光掩膜版的底部抵觸以提供靜摩擦力的摩擦件2，故當(dāng)光掩膜版裝設(shè)于第一凹槽101內(nèi)時(shí)，由于摩擦件2與光掩膜版底部的靜摩擦力，從而使當(dāng)卡盤具有較高的速度和加速度時(shí)，光掩膜版與卡盤之間不會(huì)出現(xiàn)沿軸線方向的相對(duì)移動(dòng)，從而提高環(huán)形光掩膜版涂覆光刻膠的均勻性。
[0027]具體地，本實(shí)用新型中，如圖2所示，第一凹槽101的底部設(shè)有用于安裝摩擦件2的第二凹槽102，摩擦件2卡緊于第二凹槽102內(nèi)且延伸出第二凹槽102外0.5mm?Imm0本實(shí)用新型中，摩擦件2卡緊于第二凹槽102內(nèi)且延伸至第二凹槽102外，摩擦件2延伸至第二凹槽102外的高度為0.5mm?1mm，一方面與裝設(shè)于第一凹槽101內(nèi)的光掩膜版的底部抵觸以提供接觸靜摩擦力；另一方面用于隔開光掩膜版和卡盤，使光掩膜版的底部不與第一凹槽101的底部接觸，防止光掩膜版與卡盤之間出現(xiàn)軸線方向的相對(duì)移動(dòng)。
[0028]優(yōu)選地，本實(shí)用新型中，第二凹槽102呈環(huán)形且與第一凹槽101同軸，摩擦件2呈與第二凹槽102相匹配的環(huán)形。
[0029]更優(yōu)選地，本實(shí)用新型具體的實(shí)施例中，摩擦件2為環(huán)形橡膠密封圈，取材方便，且與光掩膜版的底部接