專利名稱：液晶面板及其制作方法
液晶面板及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶面板技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種均勻配向膜的液晶面板制作方法。
背景技術(shù)：
液晶面板為液晶顯示器的重要組件，液晶面板主要包含數(shù)組基板、彩模基板與封閉在數(shù)組基板與彩?；逯g的液晶。液晶通過涂覆在數(shù)組基板和彩模基板上的配向?qū)舆M行配向，控制液晶分子的排列方向，并提供液晶顯示器結(jié)構(gòu)所需的預(yù)傾角(pre-tileangle),以達到液晶面板的顯示效果。一般常用的配向膜為聚亞酰胺(polyimide, PI)材料，其具有高耐熱性、耐化學(xué)溶劑與輻射線與電器絕緣特性佳等性質(zhì)。然而，在涂覆配向液形成配向?qū)訒r，考慮到聚亞酰胺絕緣性與框膠黏著性較差等 特性，不易控制配向膜邊緣的擴散，導(dǎo)致邊緣不平整且尺寸控制不易的缺點。當(dāng)配向膜超出框膠的區(qū)域時，會降低框膠的強度而影響框膠的質(zhì)量。另一方面，配向液在干燥過程為由外向內(nèi)干燥，這樣會造成配向膜邊緣厚度比中央?yún)^(qū)域厚度高的現(xiàn)象。而且，由于配向膜的厚度不均勻，容易導(dǎo)致配向不均的問題因而影響顯示質(zhì)量。為了解決上述的問題，傳統(tǒng)的方法是設(shè)置結(jié)構(gòu)阻止配向膜與框膠重迭。圖IA為傳統(tǒng)數(shù)組基板的結(jié)構(gòu)剖面圖，如圖IA所示，在數(shù)組(array)基板IOA的側(cè)邊形成溝槽102A，溝槽102A可以吸收容納向外擴散的配向液104A，使配向液104A不會進一步擴散到溝槽102A外的框膠106A。然而若是配向液104A過量，還是有可能溢過溝槽102A，擴散到溝槽102A外的框膠106A。另一種傳統(tǒng)方法是在數(shù)組基板的側(cè)邊形成凸塊，圖IB為另一傳統(tǒng)數(shù)組基板的結(jié)構(gòu)剖面圖，如圖IB所示，數(shù)組基板IOB的凸塊102B可以阻擋配向液104B流至框膠106B的區(qū)域。但是在配向液104B靠近凸塊102B的區(qū)域，有可能因為配向液104B過量而流至框膠106B的區(qū)域。而且，由于形成的溝槽或凸塊的段差比較小，配向液很容易溢過溝槽或凸塊而使設(shè)計失敗。因此存在一種需求，在數(shù)組基板上設(shè)計可以有較大段差的結(jié)構(gòu)，阻止配向液外溢。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的一個目的在于提供一種防止配向液擴散到框膠的結(jié)構(gòu)，影響框膠的黏著性。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明構(gòu)造了一種液晶面板，其包含上基板、下基板與框膠。所述下基板包含顯示區(qū)域、非顯示區(qū)域、第一限制組件與第二限制組件。非顯示區(qū)域鄰近于顯示區(qū)域，且在非顯示區(qū)域上設(shè)置框膠。第一限制組件位于非顯示區(qū)域的邊緣。第二限制組件位于顯示區(qū)域與第一限制組件之間。藉由第一限制組件與第二限制組件的組合，在涂布一配向膜于下基板時，讓配向膜不會擴散至非顯示區(qū)域。本發(fā)明的另一個目的在于提供一種液晶面板的制作方法，制作出一種結(jié)構(gòu)可以防止配向液外溢，減小有效顯示區(qū)域邊緣與面板邊緣距離，實現(xiàn)超窄邊框設(shè)計。
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明構(gòu)造了一種液晶面板的制作方法，其特征在于包含下列步驟分別在上基板與下基板上堆棧多層薄膜；在框膠的側(cè)邊形成第一限制組件；在下基板形成多層薄膜時，在框膠的側(cè)邊保留部分的多層薄膜，以形成第一限制組件；在下基板上涂布一配向膜，以形成配向?qū)樱唤逵傻谝幌拗平M件與第二限制組件的結(jié)構(gòu)，在涂布配向膜的過程中，第一限制組件與第二限制組件用于阻擋配向膜擴散到框膠的區(qū)域，避免配向膜與框膠重迭。為讓本發(fā)明的上述內(nèi)容能更明顯易懂，下文特舉優(yōu)選實施例，并配合所附圖式，作詳細說明如下

圖IA為傳統(tǒng)數(shù)組基板的結(jié)構(gòu)剖面圖；圖IB為另一傳統(tǒng)數(shù)組基板的結(jié)構(gòu)剖面圖；圖2為根據(jù)本發(fā)明較佳實施例的液晶面板的結(jié)構(gòu)剖面圖； 圖3為本發(fā)明液晶面板的下基板的結(jié)構(gòu)剖面圖；以及圖4為本發(fā)明之液晶面板的溝槽與擋墻形成的步驟流程圖。
具體實施方式
以下各實施例的說明是參考附加的圖式，用以例示本發(fā)明可用以實施的特定實施例。本發(fā)明所提到的方向用語，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「側(cè)面」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用以說明及理解本發(fā)明，而非用以限制本發(fā)明。在圖中，結(jié)構(gòu)相似的單元是以相同標(biāo)號表示。圖2為根據(jù)本發(fā)明較佳實施例的液晶面板的剖面結(jié)構(gòu)圖。如圖2所示，液晶面板20主要包含上基板202、下基板204與框膠206。上基板202為彩色濾光片(Color Filer,CF)，其主要包含遮光黑矩陣(Black Matrix，BM)2021、濾色層2022、透明導(dǎo)電(或稱氧化銦錫 Indium Tin Oxide, I TO)層 2023、間隔子層(Photo Spacer, PS) 2024、第一配向膜 2025與玻璃基板2026等。遮光黑矩陣2021在上基板202的功能為光源的遮蔽，防止入射光的泄漏而影響色澤性。濾色層2022藉由光及液晶扭轉(zhuǎn)產(chǎn)生加乘混合，以獲得彩色化效果。透明導(dǎo)電層2023提供電極給液晶面板20之液晶分子的感應(yīng)，以控制液晶分子的旋轉(zhuǎn)。間隔子層2024的功能是維持上基板202與下基板204的距離(Cell Gap)。下基板204為數(shù)組(Array)基板，其主要包含玻璃基板2045與設(shè)置于玻璃基板2045上的絕緣層2041、保護層2042、薄膜晶體管(Thin Film Transistor) 2043、第二配向膜2044等。在此需要說明的是，上述只是簡略說明液晶面板20的主要結(jié)構(gòu)，并非用于局限本發(fā)明的液晶面板僅包含上述的結(jié)構(gòu)。而且各層薄膜在上基板202與下基板204的形成方式為熟悉此技藝者所熟知，在此不再贅述。依舊參閱圖2，在本發(fā)明的較佳實施例中，在下基板204上堆棧形成薄膜晶體管2043時，將制作薄膜晶體管2043的各薄膜層在下基板204的同一個地方保留下來，藉以形成第一限制組件208。一般而言，薄膜晶體管2043主要是由部分的絕緣層2041、部分的保護層2042、第一金屬層2046、第二金屬層2047、非晶硅層2048與氧化銦錫(ITO)層2049所組成。絕緣層2041覆蓋于玻璃基板2045與第一金屬層2046上,而保護層2042堆棧于絕緣層2041與第二金屬層2047上。在接近框膠206的邊緣處，在制作薄膜晶體管的過程中同時將上述各層的一小部分保留下來，不需額外的制程步驟而形成具有相對較高高度的第一限制組件208，如圖中所示。本實施例中雖以薄膜晶體管為例，但本發(fā)明并不限于此。在本發(fā)明中，第一限制組件208可形成為一擋墻，或可為一凸塊等，在此并不局限。另外，在第一限制組件208的前側(cè)，以蝕刻的方式形成下凹的第二限制組件210，在本發(fā)明中，第二限制組件210可為一溝槽，或可為一凹槽等，在此并不局限。此第二限制組件210可以容納向外擴散的第二配向膜2047，而且配合第一限制組件208的設(shè)置，讓第二配向膜2047更不容易越過第一限制組件208與第二限制組件210所組合的結(jié)構(gòu)，避免第二配向膜2047與框膠206交迭，影響框膠206的黏著性。另外，第一限制組件208的堆棧方式并不局限于圖中所示的形狀，在不同實施例中，可以調(diào)整堆棧的方式，形成不同形狀或高度的第一限制組件208。而且，也可以更改蝕刻的深度或?qū)挾?，蝕刻不同的薄膜層形成不同深度或不同寬度的第二限制組件210。舉例來說，可以蝕刻至絕緣層2041上方，或蝕刻至下基板204上方，可以依據(jù)實際需求蝕刻不同深度的第二限制組件210。圖3為本發(fā)明液晶面板的下基板的剖面結(jié)構(gòu)圖。如圖3所示，在此實施例的下基板 30涂布配向膜302的區(qū)域為顯示區(qū)域304，而沒有涂布配向膜302的地方，也就是框膠306的區(qū)域為非顯示區(qū)域308。下基板30的第一限制組件310設(shè)置在非顯示區(qū)域308的邊緣，第一限制組件310可為擋墻或凸塊等，在此并不局限。而第二限制組件312是設(shè)置在第一限制組件310與顯示區(qū)域304之間，第二限制組件312可為溝槽或凹槽等，在此并不局限。由于第一限制組件310與第二限制組件312的設(shè)計，讓配向膜302不會從顯示區(qū)域304擴散到未顯示區(qū)域308，阻止配向膜302與框膠306重迭。另一方面來說，相較于傳統(tǒng)僅用第一限制組件310或第二限制組件312的結(jié)構(gòu)，在本發(fā)明中第一限制組件310與第二限制組件312的組合可以達到更大的段差，阻止配向膜302外溢效果更佳。圖4為本發(fā)明之液晶面板的溝槽與擋墻形成的步驟流程圖。如圖4所示，在步驟402中，分別在上基板與下基板上堆棧多層薄膜，上基板為彩色濾光片側(cè)的玻璃基板，下基板為數(shù)組側(cè)的玻璃基板。在步驟404中，在下基板形成多層薄膜時，在框膠的側(cè)邊保留部分的多層薄膜以形成一第一限制組件，此第一限制組件是藉由保留部分的多層薄膜而形成，舉例來說，保留下基板之部分的絕緣層與/或保護層以形成第一限制組件。第一限制組件較佳為一擋墻，或可為一凸塊，在此并不局限。在步驟406中，蝕刻下基板上方的多層薄膜以形成一第二限制組件，第二限制組件較佳為一溝槽，或可為一凹槽，在此并不局限。另夕卜，第二限制組件是在鄰近于第一限制組件的區(qū)域形成。在步驟408中，在下基板上涂布配向膜，以形成配向?qū)?。藉由第一限制組件與第二限制組件的結(jié)構(gòu)，在涂布配向膜的過程中，第一限制組件與第二限制組件可以阻擋配向膜擴散到框膠的區(qū)域，避免配向膜與框膠的重迭。另一方面，藉由第一限制組件與第二限制組件的設(shè)置，可以達到均勻涂布配向膜的目的，也可以減小有效顯示區(qū)域邊緣與面板邊緣的距離，進而使超窄邊框更容易實現(xiàn)。綜上所述，雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實施例揭露如上，但上述優(yōu)選實施例并非用以限制本發(fā)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍以權(quán)利要求界定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種液晶面板,其包含一上基板、一下基板與至少一框膠,其特征在于,所述下基板包含 一顯示區(qū)域； 一非顯示區(qū)域，其鄰近于所述顯示區(qū)域； 一第一限制組件，其位于所述非顯示區(qū)域的邊緣而凸起；以及 一第二限制組件，其位于所述顯示區(qū)域與所述第一限制組件之間而凹陷； 其中藉由所述第一限制組件與所述第二限制組件的組合，在涂布一配向膜于所述下基板時，讓所述配向膜不會擴散至所述非顯示區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液晶面板，其特征在于，所述第一限制組件是由所述下基板上的多層薄膜堆棧而成。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液晶面板，其特征在于，所述第一限制組件是形成為一凸塊。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液晶面板，其特征在于，所述第一限制組件是形成為一擋墻。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液晶面板，其特征在于，所述第二限制組件是藉由蝕刻所述下基板的多層薄膜所形成。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液晶面板，其特征在于，所述第二限制組件是形成為一凹槽。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液晶面板，其特征在于，所述第二限制組件是形成為一溝槽。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液晶面板，其特征在于，在所述非顯示區(qū)域上設(shè)置至少一框膠。
9.一種液晶面板的制造方法，其特征在于所述制造方法包含下列步驟 分別在一上基板與一下基板上堆棧多層薄膜； 在所述下基板形成所述多層薄膜時，在一框膠的側(cè)邊保留部分的所述多層薄膜，以形成一第一限制組件； 蝕刻所述下基板上方的所述多層薄膜以形成一第二限制組件；以及 在所述下基板上涂布一配向膜，以形成一配向?qū)樱? 其中，藉由所述第一限制組件與所述第二限制組件的組合，在涂布所述配向膜的過程中，所述第一限制組件與所述第二限制組件用于阻擋所述配向膜擴散到所述框膠的區(qū)域，避免所述配向膜與所述框膠重迭。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液晶面板的制造方法，其特征在于，所述蝕刻步驟是在所述液晶面板的一顯示區(qū)域與所述第一限制組件之間形成所述第二限制組件。
全文摘要
本發(fā)明提供一種液晶面板，其包含上基板、下基板與框膠。所述下基板包含顯示區(qū)域、非顯示區(qū)域、第一限制組件與第二限制組件。非顯示區(qū)域鄰近于顯示區(qū)域，且在非顯示區(qū)域上設(shè)置框膠。第一限制組件位于非顯示區(qū)域的邊緣。第二限制組件位于顯示區(qū)域與第一限制組件之間。藉由第一限制組件與第二限制組件的組合，在涂布一配向膜于下基板時，讓配向膜不會擴散至非顯示區(qū)域。
文檔編號G02F1/1333GK102799028SQ201210292358
公開日2012年11月28日 申請日期2012年8月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月16日
發(fā)明者施明宏, 廖作敏 申請人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司