專(zhuān)利名稱(chēng)：光遮蔽裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
根據(jù)示范性實(shí)施例的裝置和方法涉及一種光學(xué)裝置及其制造方法，更具體地，涉及一種光遮蔽裝置及其制造方法。
背景技術(shù)：
光遮蔽裝置是任意類(lèi)型的用于遮蔽光的裝置。光學(xué)快門(mén)，其是一種光學(xué)遮蔽裝置，選擇性地允許光從其通過(guò)。例如，照相機(jī)中的光學(xué)快門(mén)可以阻擋已經(jīng)經(jīng)過(guò)照相機(jī)透鏡朝向圖像傳感器的光或允許該光通過(guò)。此外，通過(guò)調(diào)節(jié)操作速度和照相機(jī)透鏡的遮蔽面積(也就是，照相機(jī)透鏡的開(kāi)口尺寸)中的至少一個(gè)，光學(xué)快門(mén)可以控制接收光的時(shí)間和將要接收的光的量中的至少一個(gè)。光學(xué)遮蔽裝置諸如光學(xué)快門(mén)可以應(yīng)用于除照 相機(jī)之外的任意電子設(shè)備(例如，光學(xué)開(kāi)關(guān)器件)，其利用臨時(shí)的、永久的或選擇性的光遮蔽功能。光學(xué)快門(mén)可以分為機(jī)械型和電子型。通過(guò)控制圖像傳感器的操作狀態(tài)，電子光學(xué)快門(mén)能夠控制接收光的圖像傳感器和該圖像傳感器接收光的時(shí)間中的至少一個(gè)。由于電子光學(xué)快門(mén)被電路驅(qū)動(dòng)，所以電子光學(xué)快門(mén)已經(jīng)通常用于在照相機(jī)模塊尺寸上存在限制的便攜式數(shù)字照相機(jī)。然而，隨著照相機(jī)模塊在電子光學(xué)快門(mén)中的像素?cái)?shù)目的增大，移動(dòng)物體變形可能發(fā)生。根據(jù)嵌入在移動(dòng)設(shè)備中的照相機(jī)模塊的分辨率的增加，再次對(duì)機(jī)械光學(xué)快門(mén)產(chǎn)生關(guān)注。由于包括數(shù)字照相機(jī)的電子設(shè)備變得緊湊且薄，所以機(jī)械光學(xué)快門(mén)也必須小且薄并提供快速的響應(yīng)(也就是，關(guān)閉)速度。通過(guò)引用整體結(jié)合于此的標(biāo)題為“快門(mén)和具有該快門(mén)的微照相機(jī)模塊”的韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)No. 2009-0055996引入了機(jī)械光學(xué)快門(mén)的示例，其能夠利用多個(gè)上卷葉片提供快速的響應(yīng)速度。機(jī)械光學(xué)快門(mén)可以被靜電力驅(qū)動(dòng)。具體地，當(dāng)不施加驅(qū)動(dòng)電壓時(shí)，機(jī)械光學(xué)快門(mén)將上卷葉片保持在上卷?xiàng)l件，此時(shí)，光被允許經(jīng)過(guò)基板的光透射部分。此外，當(dāng)驅(qū)動(dòng)電壓施加在下電極(例如，透明基板)和上電極(例如，上卷葉片)之間時(shí)，產(chǎn)生靜電力，從而使上卷葉片變平坦。平坦的上卷葉片阻擋了基板的光透射部分，因此光能夠被遮蔽。

發(fā)明內(nèi)容
一個(gè)或多個(gè)示范性實(shí)施例提供了一種光遮蔽裝置及其制造方法，其能夠防止在上卷葉片的長(zhǎng)期使用期間發(fā)生的粘附現(xiàn)象。根據(jù)示范性實(shí)施例的方面，提供一種光遮蔽裝置，包括基底板，包括第一電極；至少一個(gè)材料層，在基底板上；上卷葉片，配置為對(duì)應(yīng)于基底板的光透射部分設(shè)置并包括第二電極；驅(qū)動(dòng)單元，配置為電連接到第一電極和第二電極；以及防粘附結(jié)構(gòu)，提供為防止上卷葉片與至少一個(gè)材料層之間的粘附。根據(jù)另一示范性實(shí)施例的方面，提供一種制造光遮蔽裝置的方法，該方法包括制備具有光透射部分的基底板；在基底板上提供至少一個(gè)材料層；在至少一個(gè)材料層上提供犧牲層以覆蓋至少光透射部分；增加犧牲層的表面粗糙度或在犧牲層上形成突出部分和凹入部分中的至少一個(gè)；在犧牲層上提供上卷葉片；以及去除犧牲層。根據(jù)另一示范性實(shí)施例的方面，提供一種制造光遮蔽裝置的方法，該方法包括制備具有光透射部分的基底板；在基底板上提供至少一個(gè)材料層；在至少一個(gè)材料層上提供犧牲層以覆蓋至少光透射部分；在犧牲層上提供金屬薄膜；通過(guò)進(jìn)行等離子體工藝形成具有多孔結(jié)構(gòu)的防粘附層；在防粘附層上提供上卷葉片；以及去除犧牲層。根據(jù)另一示范性實(shí)施例的方面，提供一種光遮蔽裝置，該光遮蔽裝置包括基底板，包括第一電極；至少一個(gè)材料層，在基底板上；上卷葉片，包括第二電極，并配置為對(duì)應(yīng)于基底板的光透射部分設(shè)置；以及防粘附結(jié)構(gòu)，當(dāng)上卷葉片處于遮蔽光的平坦?fàn)顟B(tài)時(shí)減少上卷葉片與至少一個(gè)材料層之間的接觸面面積。其他的特征和方面可以從以下的具體描述、附圖和權(quán)利要求而顯然。


圖I是示出根據(jù)示范性實(shí)施例的遮蔽光的光遮蔽裝置的示例的透視圖；圖2是截面圖，示出根據(jù)示范性實(shí)施例的圖I所示的光遮蔽裝置的示例，該遮蔽裝置處于允許光透射的狀態(tài)；圖3是根據(jù)另一示范性實(shí)施例的光遮蔽裝置的示例的截面圖；圖4A是示出根據(jù)示范性實(shí)施例的光遮蔽裝置的另一示例的透視圖，該光遮蔽裝置處于遮蔽光的狀態(tài)；圖4B是示出根據(jù)示范性實(shí)施例的光遮蔽裝置的示例的透視圖，該光遮蔽裝置處于允許光透射的狀態(tài)；圖5是示出根據(jù)示范性實(shí)施例的包括光遮蔽裝置的圖像裝置的示例的截面圖；圖6A至6E是光遮蔽裝置的截面圖，用于解釋制造根據(jù)示范性實(shí)施例的光遮蔽裝置的方法的示例；圖7A至7F是光遮蔽裝置的截面圖，用于解釋制造根據(jù)另一示范性實(shí)施例的光遮蔽裝置的方法的示例；圖8A至8F是光遮蔽裝置的截面圖，用于解釋制造根據(jù)另一示范性實(shí)施例的光遮蔽裝置的方法的示例；以及圖9是根據(jù)示范性實(shí)施例的當(dāng)在圖8D所示的工藝之后進(jìn)行附加的熱工藝時(shí)光遮蔽裝置的示例的截面圖。除非另外地描述，否則，貫穿附圖和詳細(xì)描述的始終，相同的附圖標(biāo)記將被理解為指代相同的元件、特征和結(jié)構(gòu)。為了清晰、說(shuō)明和方便，這些元件的相對(duì)尺寸和圖示可以被夸大。
具體實(shí)施例方式以下的描述被提供來(lái)幫助讀者獲得對(duì)這里描述的方法、裝置和/或系統(tǒng)的全面的理解。因而，這里描述的方法、裝置和/或系統(tǒng)的各種變化、變型和等同物將被建議給本領(lǐng)域普通技術(shù)人員。此外，為了增加的清晰性和簡(jiǎn)潔性，對(duì)公知功能和構(gòu)造的描述可以被省略。諸如中的至少一個(gè)”的表述，當(dāng)在一系列元件之前時(shí)，修飾了元件的整個(gè)列表但不修飾該列表的單個(gè)元件。
圖I示出根據(jù)示范性實(shí)施例的光遮蔽裝置100的示例的透視圖，圖2示出圖I所示的光遮蔽裝置100的示例的截面圖。示于圖I所示的示例中的光遮蔽裝置100處于遮蔽光的狀態(tài)，示于圖2所示的示例中的光遮蔽裝置100處于允許光通過(guò)的狀態(tài)。此外，為了描述的方便，上卷葉片130被示出為與基底板110和材料層120分離。光遮蔽裝置100自身可以用作完整的光學(xué)快門(mén)，或者可以是光學(xué)快門(mén)的一部分(見(jiàn)圖4A和4B)。參照?qǐng)DI和圖2，光遮蔽裝置100可以包括基底板110、材料層120、上卷葉片130和驅(qū)動(dòng)單元140 (為了圖示的方便，驅(qū)動(dòng)單元140沒(méi)有在圖2中示出)。此外，光遮蔽裝置100還可以包括防粘附結(jié)構(gòu)150，用于防止上卷葉片130粘附到材料層120。防粘附結(jié)構(gòu)150可以指材料層120和上卷葉片130中至少一個(gè)的固有表面屬性，或者形成在材料層120和上卷葉片130中至少一個(gè)上的額外材料層或材料圖案，其將在以下描述。此外，防粘附結(jié)構(gòu)150可以指材料層120和上卷葉片130中至少一個(gè)的固有表面屬性和形成在材料層120和上卷葉片130中至少一個(gè)上的額外材料層或材料圖案的結(jié)合。
基底板110可以包括允許光從其通過(guò)的光透射部分110a，光透射部分I IOa可以是透明的或半透明的。當(dāng)上卷葉片130如圖2所示向上卷起時(shí)，光透射部分IlOa允許光從其通過(guò)。例如，在光遮蔽裝置100作為成像設(shè)備的光學(xué)快門(mén)(見(jiàn)圖5)操作時(shí)，基底板110的光透射部分IlOa可以位于光路上，因此經(jīng)過(guò)光透射部分IlOa的光可以經(jīng)由光學(xué)透鏡到達(dá)圖像傳感器。此外，當(dāng)上卷葉片130如圖I所示驅(qū)動(dòng)時(shí)，平坦的上卷葉片130可以部分地或完全阻擋光透射部分110a，因此可以調(diào)節(jié)經(jīng)過(guò)光透射部分IlOa的光的量?；装?10的除光 透射部分I IOa之外的其余部分可以是光透明的或不透明的?；装?10可以是如圖I所示的示例中所示的平坦形狀，為了說(shuō)明的目的而提供該示例。將理解，根據(jù)一個(gè)或多個(gè)其他的示范性實(shí)施例，基底板110可以是幾乎任何其他的形狀而沒(méi)有限制(例如，曲線(xiàn)形狀、彎曲形狀、波紋形狀等)。此外，光透射部分IlOa不限于其形狀，可以是矩形、圓形、橢圓形、多邊形、扇形等?；装?10可以包括基板112和下電極114。整個(gè)基板112可以由透明或半透明材料形成，或者至少基板112的包括光透射部分IlOa的部分可以由透明或半透明材料制成。基板112可以是玻璃基板，但不限于此，在一個(gè)或多個(gè)其他示范性實(shí)施例中，基板112可以由例如石英、塑料、硅石等形成。下電極114可以是透明的或半透明的導(dǎo)電材料。例如，下電極114可以包括銦錫氧化物(ΙΤ0)、透明或半透明的2110、51102、碳納米管(0見(jiàn)')、導(dǎo)電聚合物等。下電極114可以與驅(qū)動(dòng)單元140電連接以用作用于驅(qū)動(dòng)光遮蔽裝置100 (更具體地，上卷葉片130)的驅(qū)動(dòng)電極。下電極114可以形成在基板112的頂表面上。此外，下電極114可以形成為覆蓋光透射部分IlOa的整個(gè)表面或者以預(yù)定圖案覆蓋光透射部分110的一部分。通常，與當(dāng)下電極114被設(shè)計(jì)為覆蓋光透射部分110的一部分時(shí)相比，當(dāng)下電極114被設(shè)計(jì)為覆蓋光透射部分110的整個(gè)表面時(shí)，較強(qiáng)的力可以產(chǎn)生在下電極114與上卷葉片130之間。下電極114與上卷葉片130之間的較強(qiáng)的力可以導(dǎo)致上卷葉片130在上卷狀態(tài)和平坦?fàn)顟B(tài)之間較快速的移動(dòng)(或響應(yīng))。然而，下電極114不限于以上示例，根據(jù)一個(gè)或多個(gè)其他示范性實(shí)施例，下電極114可以形成為覆蓋光透射部分IlOa的一部分或者覆蓋光透射部分IlOa和光透射部分IlOa的周邊區(qū)域。下電極114可以具有約1000至約3000埃(A )的厚度，例如約2000 A，這僅是說(shuō)明性的，將理解，一個(gè)或多個(gè)其他的示范性實(shí)施例不限于此。如圖I和圖2所舉例說(shuō)明的，一個(gè)或多個(gè)材料層120形成在基底板110上。材料層120還可以由光透射材料或者透明部分和不透明部分的組合形成。例如，材料層120可以由透明或半透明的SiO、SiN或AlN形成。材料層120不僅可以保護(hù)基底板110的下電極114，而且防止下電極114和上卷葉片130之間由于其間的物理接觸而發(fā)生導(dǎo)電。為此，材料層120可以包括一個(gè)或多個(gè)絕緣層。材料層120可以為約1000至約2000 A的厚度，例如約1500 A,這僅是說(shuō)明性的，將理解，一個(gè)或多個(gè)其他的示范性實(shí)施例不限于此。上卷葉片130設(shè)置在基底板110之上。如果沒(méi)有驅(qū)動(dòng)力施加在上卷葉片130與基底板110之間，上卷葉片130可以以預(yù)定曲率保持上卷(見(jiàn)圖2)。當(dāng)上卷葉片130向上卷時(shí)，至少基底板110的光透射部分IlOa被暴露，使得入射光可以經(jīng)過(guò)光透射部分110a。另一方面，當(dāng)預(yù)定驅(qū)動(dòng)力施加在上卷葉片130和基底板110之間時(shí)，上卷葉片130變平坦(見(jiàn)圖I)。當(dāng)上卷葉片130變平坦時(shí)，基底板110的光透射部分IlOa被上卷葉片130覆蓋。然而，不同于圖I所示的示例，通過(guò)調(diào)節(jié)使上卷葉片130變平坦的程度，光透射部分110可以被上卷葉片130部分地遮住(未示出)?！と鐖DI所示的示例所示，平坦的上卷葉片130可以防止光穿過(guò)光透射部分110a。為此，上卷葉片130可以包括防止光透射的至少一個(gè)材料層從而遮蔽入射光。此外，光遮蔽裝置100可以包括單個(gè)上卷葉片130，如圖I和2所示，其足夠大以覆蓋整個(gè)光透射部分110a，或者可以包括多個(gè)上卷葉片，該多個(gè)上卷葉片通過(guò)劃分多個(gè)區(qū)域來(lái)覆蓋光透射部分110a，如圖4A和4B所示。上卷葉片130可以包括固定部分130a和移動(dòng)部分130b。上卷葉片130的固定部分130a可以附著到材料層120并固定到基底板110的位于光透射部分IlOa外面的邊緣部分。作為另一示例，固定部分130a可以固定到基底板110的外面或者在包括于光遮蔽裝置100中的結(jié)構(gòu)(未示出)中。移動(dòng)部分130b是上卷葉片130的除固定部分130a之外的其余部分，并在驅(qū)動(dòng)單元140的控制下變平坦或上卷。響應(yīng)于由驅(qū)動(dòng)單元140施加的驅(qū)動(dòng)電壓，相反的電勢(shì)形成在基底板110與上卷葉片130之間，更具體地，在下電極114與用作上電極的上卷葉片130之間，因此吸引力產(chǎn)生在基底板110與上卷葉片130之間。由于該吸引力的存在，移動(dòng)部分130b可以從上卷狀態(tài)變?yōu)槠教範(fàn)顟B(tài)并覆蓋光透射部分110a。上卷葉片130可以包括由單個(gè)導(dǎo)電材料形成的上電極或者形成為由兩個(gè)或更多導(dǎo)電材料制成的多層的上電極，使得吸引力能夠施加在其上。具體地，上卷葉片130可以包括形成為單層或多層的薄膜，該多層的每個(gè)層由單個(gè)材料制成。例如，上卷葉片130可以形成為單層或兩個(gè)或更多層，其每個(gè)由不透明金屬材料諸如Mo、Al、Ti、Ta、Cr、Au、Cu等或這些材料的合金制成。響應(yīng)于去除由驅(qū)動(dòng)單元140施加的驅(qū)動(dòng)電壓，上卷葉片130的移動(dòng)部分130b返回到上卷狀態(tài)。為此，形成為單個(gè)薄層的上卷葉片130可以被配置為具有聚集在該薄層的上部上的內(nèi)應(yīng)力梯度以能夠使上卷葉片130自發(fā)地以預(yù)定曲率上卷。在上卷葉片130形成為多個(gè)薄膜的情形下，上卷葉片130可以配置為在上薄膜與下薄膜之間具有殘余應(yīng)力差異。例如，在上薄膜具有殘余張應(yīng)力的情形下，下薄膜可以具有殘余壓應(yīng)力、沒(méi)有殘余應(yīng)力或者具有小于上薄膜中的殘余張應(yīng)力的殘余張應(yīng)力。如上所述，光透射裝置100還可以包括防止上卷葉片130粘附到材料層120的防粘附結(jié)構(gòu)150。靜電光遮蔽裝置100可以包括具有絕緣層的材料層120以防止下電極114與上卷葉片130之間的物理接觸。光遮蔽裝置的重復(fù)驅(qū)動(dòng)可以引起電介質(zhì)充電，在其中電荷被捕獲在絕緣層中。此外，累積在絕緣層中的電荷的量隨著電介質(zhì)充電持續(xù)的時(shí)間而增力口。因此，即使當(dāng)去除驅(qū)動(dòng)電壓時(shí)，上卷葉片130可能被粘附在材料層120上而不返回到初始狀態(tài)(也就是，上卷狀態(tài))。這樣的粘附現(xiàn)象會(huì)降低光遮蔽裝置100的壽命，因此提供防粘附結(jié)構(gòu)150來(lái)防止粘附從而增加上卷葉片100的壽命。在圖I和圖2所示的示例中，上卷葉片130可以具有粗糙的外周表面132，作為防粘附結(jié)構(gòu)150的示例?！按植诒砻妗笨梢灾竵?lái)自特定尺寸的視圖(例如，微尺度視圖)的表面性質(zhì)，并且是與具有小于幾十納米的平均粗糙度的精細(xì)表面或平滑表面相反的概念。粗糙外周表面132可以具有約30nm或更大的粗糙度(也就是，從峰到谷的距離)，例如約50nm至約lOOOnm，這僅是說(shuō)明性的，將理解，一個(gè)或多個(gè)其他的示范性實(shí)施例不限于此。由于上卷葉片130的粗糙外周表面132，減小了上卷葉片130與材料層120之間的實(shí)際接觸面積。因而，盡管大量電荷累積在材料層120上，但是可以防止或至少減少上卷葉片130的粘附現(xiàn)象。
上卷葉片130的粗糙外周表面132可以有利于減少散射反射。如果上卷葉片130的外周表面132是光滑的，則大部分入射光可以從外周表面132反射。一些反射光可以行進(jìn)到上卷葉片130外面，或者其他反射光，特別地，從處于上卷狀態(tài)的上卷葉片130的一側(cè)(上卷葉片130的垂直于光透射部分IlOa的部分)反射的光可以穿過(guò)光透射部分110a。穿過(guò)光透射部分IlOa的反射光是不期望的光學(xué)成分。例如，如果光遮蔽裝置100用作成像設(shè)備的光學(xué)快門(mén)，則如上所述的反射光被圖像傳感器接收，導(dǎo)致重影。為了防止反射光穿過(guò)光透射部分110a，上卷葉片130可以設(shè)置得相對(duì)遠(yuǎn)離光透射部分110a。隨著上卷葉片130與光透射部分IlOa之間的距離增大，上卷葉片130的尺寸(長(zhǎng)度)增大，因?yàn)榭讖匠叽缭龃?。在此情形下，上卷葉片130的響應(yīng)速度與長(zhǎng)度成反比例。然而，上卷葉片130的粗糙外周表面132可以防止重影而不降低驅(qū)動(dòng)速度。光遮蔽裝置100的上卷葉片130可以不限于具有粗糙外周表面132。例如，材料層120的頂表面122可以是粗糙的，或者上卷葉片130的外周表面132和材料層120的頂表面122兩者可以是粗糙的。然而，在材料層120的頂表面122是粗糙的情形下，穿過(guò)光透射部分IlOa的光會(huì)被散射。因此，對(duì)于某些應(yīng)用例如更重視圖像質(zhì)量的成像設(shè)備，僅上卷葉片130的外周表面132為粗糙的，這會(huì)是更有利的，因?yàn)椴牧蠈?20的粗糙頂表面122會(huì)導(dǎo)致穿過(guò)光透射部分IlOa的光的散射。這樣，防粘附結(jié)構(gòu)150可以指上卷葉片130和材料層120中至少一個(gè)的表面的固有屬性。圖3示出根據(jù)另一示范性實(shí)施例的包括上卷葉片130'的光遮蔽裝置的示例的側(cè)視圖，該上卷葉片的表面屬性被用作防粘附結(jié)構(gòu)。為了便于說(shuō)明，上卷葉片130'被示出為平坦的。參照?qǐng)D3，上卷葉片130'不是在其整個(gè)長(zhǎng)度上是平坦的，而是具有突出部分A。上卷葉片130'的具有突出部分A的表面可以用作防粘附結(jié)構(gòu)，因?yàn)橥怀霾糠諥減小了上卷葉片13(V與材料層120之間的接觸面積。在圖3所示的示例中，上卷葉片130'的外周表面132'是起伏的具有多個(gè)突出部分A。參照?qǐng)D3，上卷葉片130'具有在外周表面132'上的突出部分A。然而，將理解，一個(gè)或多個(gè)其他示范性實(shí)施例不限于此。例如，根據(jù)另一示范性實(shí)施例，外周表面132'可以具有凹入部分，或者具有突出部分和凹入部分兩者(例如，壓花和凹痕)，其包括在上卷葉片130'的起伏表面的變型中。此外，根據(jù)一個(gè)或多個(gè)其他示范性實(shí)施例，起伏表面不限于形成在上卷葉片130'的圓周表面上，而是材料層122的頂表面或者上卷葉片130'的圓周表面和材料層120的頂表面兩者可以形成為起伏的。在上卷葉片13(V的外周表面132'上的突出部分A和凹入部分(未示出)中的至少一個(gè)可以導(dǎo)致上卷葉片130'與材料層120之間的實(shí)質(zhì)接觸面積的減小(見(jiàn)圖I)。因此，可以防止由于電介質(zhì)充電引起的上卷葉片130'的粘附現(xiàn)象。這樣的點(diǎn)形式的突出部分A(或凹入部分)可以是均勻地、不均勻地或隨機(jī)地分布在上卷葉片13(V的外周表面132'的部分或整個(gè)上。此外，突出部分A可以具有或者可以不具有均勻的尺寸。并且，突出部分A可以是線(xiàn)形的(例如，直線(xiàn)或彎曲線(xiàn))，上卷葉片130'的外周表面132'可以為具有線(xiàn)形突出部分A的各種形狀，包括波狀形狀。不同于上述示例(其中上卷葉片和材料層中至少一個(gè)的表面的形狀用作防粘附結(jié) 構(gòu))，光遮蔽裝置100的防粘附結(jié)構(gòu)可以為進(jìn)一步形成在上卷葉片的外周表面和材料層的頂表面中的至少一個(gè)上的預(yù)定額外材料層(防粘附層)或材料圖案(防粘附圖案)。在此示例中，上卷葉片的外周表面或者材料層的頂表面可以不是防粘附結(jié)構(gòu)，或者可以包括與額外材料層或材料圖案結(jié)合的防粘附結(jié)構(gòu)。“防粘附圖案”和“防粘附層”是相對(duì)于彼此而言的，其中防粘附層具有比防粘附圖案相對(duì)更大的面積。例如，在防粘附層可以形成在上卷葉片和材料層的至少一個(gè)的整個(gè)表面上或者形成在對(duì)應(yīng)于基底板的光透射部分的預(yù)定區(qū)域上的情形下，多個(gè)防粘附圖案可以在上卷葉片和材料層的至少一個(gè)的頂表面上以島(例如，點(diǎn)型)或線(xiàn)的形式形成。作為防粘附結(jié)構(gòu)的額外防粘附層或防粘附圖案可以由導(dǎo)電材料制成。此外，形成在上卷葉片的外周表面上的防粘附層或防粘附圖案可以由不透明材料制成，但不限于此。然而，形成在絕緣層的頂表面上的防粘附層或防粘附圖案可以由透明材料、不透明材料、或者兩者的結(jié)合、或者包括透明部分和不透明部分的復(fù)合材料制成。只要滿(mǎn)足上述特性，包括在防粘附層或防粘附圖案中的材料的類(lèi)型沒(méi)有限制。例如，防粘附層或防粘附圖案可以由AgO或CuClx (其中X可以為1、2、3或4)制成，這將在下面參照?qǐng)D8A至8F和圖9來(lái)描述。額外的防粘附層或防粘附圖案可以具有與參照?qǐng)DI至3所述的上卷葉片的外周表面相同的表面特性，從而用作防粘附結(jié)構(gòu)。例如，防粘附層或防粘附圖案可以具有粗糙的表面(見(jiàn)圖7E)。作為另一示例，盡管防粘附層具有從微觀圖上的平滑表面，但是防粘附層可以具有突出部分和凹入部分的至少一個(gè)在表面上的結(jié)構(gòu)，也就是起伏的表面。作為另一示例，形成在上卷葉片的平滑外周表面上的防粘附圖案可以是突出部分(見(jiàn)圖9)。另一方面，額外的防粘附層可以是多孔的，因?yàn)檫@樣的多孔防粘附層可以減少接觸面積(見(jiàn)圖8F)。仍參照?qǐng)DI和圖2，驅(qū)動(dòng)單元140可以電連接到基底板110的下電極114和包括在上卷葉片130中的上電極。此外，驅(qū)動(dòng)單元140可以施加相反電勢(shì)的驅(qū)動(dòng)電壓到下電極114和上卷葉片130的上電極以使上卷葉片130的移動(dòng)部分130b變平坦。圖4A和4B示出根據(jù)另一示范性實(shí)施例的光遮蔽裝置的示例的透視圖。在圖4A中，光遮蔽裝置200處于遮蔽光的狀態(tài)，在圖4B中，光遮蔽裝置200處于允許光透射的狀態(tài)。圖4A和4B所示的光遮蔽裝置200可以用作成像設(shè)備的機(jī)械光學(xué)快門(mén)，這僅是說(shuō)明性的，將理解，一個(gè)或多個(gè)其他的示范性實(shí)施例不限于此。
如圖4A和4B所示，光遮蔽裝置200可以包括多個(gè)上卷葉片230。每個(gè)上卷葉片230可以包括移動(dòng)部分和固定部分，上卷葉片230的固定部分都沿基底板210的圓形光透射部分210a的邊緣固定。每個(gè)上卷葉片220的移動(dòng)部分從基底板210的光透射部分210a的中心徑向地布置，如圖4A所示。整個(gè)光透射部分210a被多個(gè)上卷葉片230覆蓋，其中每個(gè)上卷葉片230的移動(dòng)部分覆蓋光透射部分210a的被徑向分隔的區(qū)域中的一個(gè)。圖I和圖2所示的光遮蔽裝置可以被認(rèn) 為是構(gòu)造圖4A和圖4B所示的光遮蔽裝置200的上卷葉片230中的一個(gè)的放大圖。在下文，將集中在與圖I和圖2所示的光遮蔽裝置100的差異來(lái)描述光遮蔽裝置200。參照?qǐng)D4A和4B，光遮蔽裝置200可以包括具有光透射部分210a的基底板。光透射部分210a可以是圓形、橢圓形、多邊形等。基底板210可以包括透明基板以及設(shè)置在透明基板上的下電極?；装?10可以具有形成在其上的材料層220，其可以覆蓋光透射部分210a的至少一部分或全部。例如，根據(jù)示范性實(shí)施例，材料層220可以覆蓋光透射部分210a的全部。此外，根據(jù)另一示范性實(shí)施例，材料層220可以?xún)H覆蓋光透射部分210a的被處于遮蔽狀態(tài)的上卷葉片230交疊的部分。例如，光透射部分210a的沒(méi)有被處于遮蔽狀態(tài)的兩個(gè)相鄰上卷葉片230交疊的部分(例如，兩個(gè)相鄰上卷葉片230之間的間隙、折縫、邊界線(xiàn)或未覆蓋區(qū)域)可以沒(méi)有被材料層220覆蓋。在此情形下，光透射部分210a的這些未覆蓋部分可以本身是不透明的，或者可以具有從其突出且被材料層220圍繞的不透明突起(例如，金屬突起)。此外，在此情形下，材料層220自身可以覆蓋光透射部分210a的全部，但是可以在對(duì)應(yīng)于光透射部分210a的沒(méi)有被上卷葉片230交疊的部分的那些區(qū)域上是不透明的。材料層220可以包括由例如絕緣材料形成的絕緣層。光遮蔽裝置200可以包括多個(gè)上卷葉片230。每個(gè)上卷葉片230可以具有形成作為防粘附結(jié)構(gòu)的外周表面232。然而，為了圖示的方便，具有防粘附結(jié)構(gòu)的外周表面232的細(xì)節(jié)沒(méi)有在圖4B中示出。例如，每個(gè)上卷葉片230的外周表面232可以是粗糙的或起伏的。作為另一示例，防粘附層或防粘附圖案可以設(shè)置在每個(gè)上卷葉片230的外周表面232上。每個(gè)上卷葉片230的作為上卷致動(dòng)器的固定部分可以固定地布置在基底板210或材料層220上以形成各種形狀的光透射部分210a (例如，圓形、橢圓形、多邊形等)。此外，當(dāng)上卷葉片230被驅(qū)動(dòng)單元240驅(qū)動(dòng)時(shí)，上卷葉片230的移動(dòng)部分如圖4A所示變平坦。上卷葉片230的每個(gè)移動(dòng)部分可以具有餅形(也就是，三角形)，該餅形的拐角可以以預(yù)定角度基本對(duì)準(zhǔn)在光透射部分210a的中央處。將理解，一個(gè)或多個(gè)其他的示范性實(shí)施例不限于餅形的移動(dòng)部分。也就是，根據(jù)一個(gè)或多個(gè)其他的示范性實(shí)施例，移動(dòng)部分可以是任意形狀，不同上卷葉片230的移動(dòng)部分可以是不同的形狀。上卷葉片230的每個(gè)移動(dòng)部分覆蓋光透射部分210a的被劃分區(qū)域的相應(yīng)一個(gè)。當(dāng)上卷葉片230變平時(shí)，在相鄰上卷葉片230之間或者至少在相鄰上卷葉片230的移動(dòng)部分之間可以存在間隙。備選地，相鄰上卷葉片230的固定部分可以通過(guò)例如在相鄰上卷葉片230的移動(dòng)部分之間形成機(jī)械耦接而沒(méi)有間隙地布置。參照?qǐng)D4A和4B所示的示例，光透射裝置200可以包括電連接到基底板210和上卷葉片230的驅(qū)動(dòng)單元240。當(dāng)存在由驅(qū)動(dòng)單元240控制的驅(qū)動(dòng)力時(shí)，上卷葉片230的移動(dòng)部分可以如圖4A所示變平坦。驅(qū)動(dòng)單元240可以同時(shí)或單獨(dú)地控制上卷葉片230。此外，驅(qū)動(dòng)單元240能夠調(diào)節(jié)上卷葉片230上卷或變平坦的程度以控制光透射部分210a的開(kāi)口孔徑的尺寸。當(dāng)沒(méi)有來(lái)自驅(qū)動(dòng)單元240的驅(qū)動(dòng)電壓時(shí)，上卷葉片230的移動(dòng)部分由于上卷葉片230中的殘余應(yīng)力的存在而保持在如圖4B所示的上卷狀態(tài)。上卷葉片230的材料層的殘余應(yīng)力之間的差異可以導(dǎo)致每個(gè)上卷葉片230的驅(qū)動(dòng)部分的上卷。每個(gè)上卷葉片230的移動(dòng)部分如圖4B所示從光透射部分210a的中心朝外向上卷起，其中基底板210的光透射部分210a完全暴露到入射光，從而允許光通過(guò)光透射部分210a。當(dāng)驅(qū)動(dòng)電壓通過(guò)驅(qū)動(dòng)單元240施加在基底板210與上卷葉片230之間時(shí)，上卷葉片230的移動(dòng)部分如圖4A所示變平以覆蓋光透射部分210a,從而防止光通過(guò)光透射部分210a。圖5示出根據(jù)示范性實(shí)施例的包括光遮蔽裝置的成像設(shè)備C的示例的截面圖。參照?qǐng)D5，成像設(shè)備C可以包括光遮蔽裝置310、透鏡單元320和圖像傳感器330。光遮蔽單元310可以類(lèi)似于圖4A和4B所示的光遮蔽裝置200，但不限于此。為了圖示的方便，光遮蔽裝置310的驅(qū)動(dòng)單元沒(méi)有示出。在光遮蔽裝置310中，每個(gè)上卷葉片314的外周表面314a可以是粗糙的或起伏的，或者可以具有形成在其上的防粘附層或防粘 附圖案(未不出)。再次參照?qǐng)D5，間隔框架316可以設(shè)置在光遮蔽裝置310的基底板312上以保護(hù)上卷葉片314。例如，間隔框架316可以位于基底板312的沒(méi)有被上卷葉片314覆蓋的邊緣部分上，如圖5所示。備選地，替代間隔框架316，透明蓋(未示出)可以位于基底板312上，透明蓋能夠覆蓋整個(gè)基底板312同時(shí)為上卷葉片314的移動(dòng)提供足夠的內(nèi)部空間。其他的光學(xué)部件，諸如濾光器、透鏡等，用于調(diào)節(jié)通過(guò)光透射部分的光的量，可以進(jìn)一步設(shè)置在光遮蔽裝置310的基底板312上。透鏡單元320是將通過(guò)基底板312的光透射部分的光聚焦在圖像傳感器330上的光學(xué)聚焦系統(tǒng)。透鏡單元320可以包括一個(gè)或多個(gè)透鏡，并且可以包括能夠調(diào)節(jié)成像設(shè)備C的焦距的器件。額外的透鏡單元(未示出)可以進(jìn)一步設(shè)置在光遮蔽裝置310上方。圖像傳感器330可以接收穿過(guò)光透射部分的光并形成圖像，圖像傳感器330可以具有多個(gè)像素。用于圖5所示的示例中的圖像傳感器330不限于特定的類(lèi)型。例如，圖像傳感器330可以是互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)圖像傳感器、電荷耦合器件(CXD)等。當(dāng)上卷葉片314處于變平狀態(tài)時(shí)，整個(gè)光透射部分被上卷葉片314覆蓋，圖像傳感器330不接收光。圖6A至6E示出光遮蔽裝置的截面圖，用于說(shuō)明制造根據(jù)示范性實(shí)施例的光遮蔽裝置的方法的示例，該光遮蔽裝置具有其外周表面用作防粘附結(jié)構(gòu)的上卷葉片130。示于圖6A至6E所示的示例中的光遮蔽裝置可以是圖I和2所示的光遮蔽裝置100或者圖3所示的光遮蔽裝置200。在下文，將參照?qǐng)D6A至6E描述圖I和2所示的光遮蔽裝置100的制造方法。參照?qǐng)D6A，提供基底板110?？梢允褂酶鞣N方法來(lái)形成基底板110。例如，基底板110可以通過(guò)將下電極114設(shè)置在包括透明或半透明的光透射部分的基板112上而形成。整個(gè)基板112可以是透明的玻璃基板。下電極114可以由透明導(dǎo)電材料諸如ITO或者半透明導(dǎo)電材料制成?？梢允褂迷诨?12上形成下電極114的各種方法。例如，可以利用通常的半導(dǎo)體制造方法諸如物理氣相沉積(PVD)、蒸發(fā)等。下電極114可以具有從約1000人至約3000 A的厚度，例如約2000 A的厚度。
然后，材料層120例如絕緣層可以形成或提供在下電極114上。此外，在形成材料層120之前或之后，可以進(jìn)一步形成一個(gè)或多個(gè)材料層(未示出)。材料層120可以由透明或半透明絕緣材料制成。例如，材料層120可以由SiO、SiN, SiON, AlN等形成。形成包括絕緣層的材料層120的方法可以不受限制，可以使用通常的半導(dǎo)體制造方法諸如化學(xué)氣相沉積(CVD)。材料層120可以具有從約1000 A至約4000 A的厚度，例如約1500 A。在形成材料層120之前，用于將下電極114電連接到外部單元(例如，圖I所示的驅(qū)動(dòng)單元140)的電極焊墊(未示出)可以額外地設(shè)置在下電極114的端部(例如，除光透射部分之外的部分)上。參照?qǐng)D6B，犧牲層160形成或提供在絕緣層120上。犧牲層160可以由具有實(shí)質(zhì)上不同于將形成在犧牲層160上方的上卷葉片130的熱膨脹系數(shù)(CTE)的材料制成。在已經(jīng)形成上卷葉片130之后，犧牲層160將被去除。因此，犧牲層160可以由關(guān)于基底板110、材料層120和隨后形成的上卷葉片130具有高蝕刻選擇性的材料或者能夠被容易地去除的 材料制成。例如，犧牲層160可以由通過(guò)灰化工藝容易地去除的材料、或者具有比導(dǎo)電金屬材料相對(duì)更大的CTE的材料諸如聚對(duì)二甲苯基聚合物、丙烯酸基光致抗蝕劑、線(xiàn)型酚醛樹(shù)HMnovolak)基光致抗蝕劑等制成。犧牲層160可以被設(shè)計(jì)或提供來(lái)覆蓋至少基底板110的光透射部分。例如，犧牲層160可以形成或提供在部分材料層120上，如圖6B所示。犧牲層160可以不設(shè)置在光透射部分的邊緣上，也就是材料層120的除光透射部分之外的剩余部分上(見(jiàn)圖6D)，在該剩余部分上設(shè)置上卷葉片130的固定部分。犧牲層160可以通過(guò)一般的半導(dǎo)體制造工藝?yán)缥g刻工藝(其中額外的材料層形成在材料層120的整個(gè)表面上并被部分地蝕刻掉)或者通過(guò)選擇性地沉積或施加犧牲層160在材料層120上的方法而部分地形成在材料層120上。參照?qǐng)D6C，執(zhí)行了增加犧牲層160的表面粗糙度的工藝。通過(guò)此工藝，可以使?fàn)奚鼘?60具有粗糙的表面。可以使用各種方法來(lái)使?fàn)奚鼘?60的表面粗糙。例如，可以執(zhí)行利用等離子態(tài)的惰性氣體諸如氬等離子體的物理蝕刻工藝來(lái)增加表面粗糙度。參照?qǐng)D6D，上卷葉片130形成或提供在由圖6C的工藝導(dǎo)致的結(jié)構(gòu)上，更具體地，在暴露的材料層120和犧牲層160上。上卷葉片130可以形成為由Mo、Al、Ti、Ta、Cr、Au、Cu或其組合制成的單個(gè)不透明金屬層，或者可以形成為由具有不同殘余應(yīng)力的各種材料形成的多個(gè)材料層。此外，在如圖4A和4B所示的多個(gè)上卷葉片130的情形下，單個(gè)金屬材料薄膜可以被形成然后通過(guò)一般的半導(dǎo)體蝕刻工藝?yán)绺煞ㄎg刻等被圖案化。這樣，上卷葉片130形成在犧牲層160上。因此，可以使上卷葉片130的表面，更具體地，上卷葉片130的下表面，具有從犧牲層160的頂表面轉(zhuǎn)移的特性。在圖6A至6E所示的示例中，犧牲層160的頂表面具有由圖6C所示的工藝導(dǎo)致的粗糙表面，因而，上卷葉片130的下表面(也就是，外周表面)能夠具有粗糙的表面。為了在如圖3所示的上卷葉片130的一個(gè)表面上形成突出部分和凹入部分中的至少一個(gè)，凹入部分和突出部分中的至少一個(gè)形成在如圖6C所示的犧牲層160的頂表面上，然后上卷葉片形成在其上。可以使用各種方法來(lái)形成凹入部分和突出部分。上卷葉片130中的殘余應(yīng)力和所導(dǎo)致的應(yīng)力梯度可以通過(guò)調(diào)節(jié)形成在上卷葉片130下面的犧牲層的CTE和厚度的至少一個(gè)來(lái)控制。上卷葉片130的曲率，其是在去除犧牲層160之后上卷葉片130自發(fā)上卷的程度，可以用上卷葉片130中的應(yīng)力梯度來(lái)控制。備選地，在上卷葉片130形成為多個(gè)層的情形下，上卷葉片130的制造條件和每層的厚度中的至少一個(gè)可以被調(diào)節(jié)以控制每層中的殘余應(yīng)力。參照?qǐng)D6E，犧牲層160從由圖6D所示的工藝導(dǎo)致的結(jié)構(gòu)去除。可以使用各種方法來(lái)去除犧牲層160，可以包括諸如灰化工藝的聚合物去除工藝和諸如濕法蝕刻的半導(dǎo)體蝕刻工藝。一旦犧牲層160被去除，上卷葉片130由于其中殘余應(yīng)力的存在而自發(fā)地上卷。上卷葉片130的外周表面132是粗糙的，其可以用作防粘附結(jié)構(gòu)。如上所述，犧牲層160的表面粗糙度被增大，然后上卷葉片130形成在犧牲層160上使得上卷葉片130的外周表面132能夠是粗糙的。備選地，凹入部分和突出部分中的至少一個(gè)形成在犧牲層160的頂表面上，使得上卷葉片130的外周表面132可以具有與犧牲層160相反的突出部分和凹入部分中的至少一個(gè)。作為用于使上卷葉片130的外周表面132粗糙的另一示例，在圖6A所示的工藝中形成材料層120之后可以額外地進(jìn)行粗糙化工藝。更具體地，在圖6A所示的工藝之后，材 料層120的頂表面的表面粗糙度增大(或者形成凹入部分或突出部分)，然后犧牲層160如圖6B所示形成在材料層120的粗糙化的頂表面上。之后，沒(méi)有圖6C所示的工藝，上卷葉片130直接形成在犧牲層160上。在此情形下，材料層120的粗糙表面被轉(zhuǎn)移到犧牲層160，因而，形成在犧牲層160上的上卷葉片130的外周表面132可以是粗糙的(或者具有突出部分或凹入部分)。圖7A至7F示出光遮蔽裝置的截面圖，用于解釋制造根據(jù)另一示范性實(shí)施例的光遮蔽裝置的方法的示例。圖7A至7F所示的光遮蔽裝置可以具有額外地形成在上卷葉片430的外周表面上的防粘附結(jié)構(gòu)450。將集中于與圖6A至6E所示的示例中示出的方法的差異來(lái)描述圖7A至7E所示的示例中示出的方法。參照?qǐng)D7A，提供基底板410?？梢允褂酶鞣N方法來(lái)形成基底板410。例如，基底板410可以通過(guò)在具有透明或半透明的光透射部分的基板412上設(shè)置下電極414而形成。然后，絕緣層420形成在基底板410上。絕緣層420可以由透明或半透明的絕緣材料制成。參照?qǐng)D7B，犧牲層460可以形成在絕緣層420上。參照?qǐng)D7C，可以進(jìn)行用于增加犧牲層460的表面粗糙度(也就是，使?fàn)奚鼘?60具有粗糙的表面)的工藝?？梢允褂酶鞣N方法來(lái)粗糙化犧牲層460的表面。例如，可以進(jìn)行利用等離子體狀態(tài)的惰性氣體諸如氬等離子體的物理蝕刻工藝來(lái)增加犧牲層460的表面粗糙度。參照?qǐng)D7D，用作防粘附結(jié)構(gòu)的預(yù)定額外材料層，也就是防粘附層450，可以形成在犧牲層460的粗糙表面上。防粘附層450可以具有從犧牲層460轉(zhuǎn)移的粗糙表面。防粘附層450可以由導(dǎo)電材料或任何其他材料制成。由于防粘附層450在工藝完成之后保留在上卷葉片430的外周表面上，所以防粘附層450可以制造得盡可能薄以最小化驅(qū)動(dòng)速度的降低。另一方面，防粘附圖案(未示出)諸如突出部分可以額外地形成在犧牲層460上，其中突出部分可以在犧牲層460被去除之后保留在上卷葉片430的外周表面上。參照?qǐng)D7E，上卷葉片430可以形成在防粘附層450 (其是由圖7D所示的工藝所得的結(jié)構(gòu))上。參照?qǐng)D7F，犧牲層460從圖7E所示的結(jié)構(gòu)選擇性地去除?？梢允褂酶鞣N方法來(lái)去除犧牲層，可以包括諸如灰化工藝的聚合物去除工藝和諸如濕法蝕刻的半導(dǎo)體蝕刻工藝。一旦犧牲層460被去除，上卷葉片430如圖7F所示由于內(nèi)部殘余應(yīng)力的存在而自發(fā)地上卷，其中上卷葉片430的外周表面具有帶有粗糙表面的防粘附層450或形成在其上的防粘附圖案。圖8A至8F示出光遮蔽裝置的截面圖，用于解釋制造根據(jù)另一示范性實(shí)施例的光遮蔽裝置的方法的示例。圖8A至8F所示的光遮蔽裝置可以包括形成在上卷葉片530的外周表面上的防粘附結(jié)構(gòu)550。參照?qǐng)D8A，提供基底板510?？梢杂懈鞣N方法來(lái)形成基底板510。例如，基底板510可以通過(guò)在具有透明或半透明光透射部分的基板512上設(shè)置下電極514而形成。然后，包括絕緣層的材料層520可以形成在基底板510上。材料層520的絕緣層可以由透明或半透明絕緣材料制成。參照?qǐng)D8B，犧牲層560可以形成在材料層520上。犧牲層560可以形成為至少覆蓋基底板510的光透射部分。可以進(jìn)一步進(jìn)行用于增大犧牲層560的表面粗糙度的工藝。
參照?qǐng)DSC，金屬薄膜552可以設(shè)置在犧牲層560上。金屬薄膜552可以由Ag或Cu制成，這將在下面詳細(xì)描述。金屬薄膜552可以制造得盡可能薄以通過(guò)等離子體工藝轉(zhuǎn)變?yōu)槎嗫捉Y(jié)構(gòu)并且最小化上卷葉片的驅(qū)動(dòng)速度的降低。等離子體工藝將在下面描述。參照?qǐng)D8D，預(yù)定的等離子體表面工藝在圖SC所示的金屬薄膜552上進(jìn)行，使得防粘附結(jié)構(gòu)形成在犧牲層560上。防粘附結(jié)構(gòu)可以是具有由等離子體工藝增大粗糙度的表面的金屬薄膜。備選地，防粘附結(jié)構(gòu)可以是通過(guò)氧或氯等離子體工藝而轉(zhuǎn)變成多孔結(jié)構(gòu)的防粘附層550。具有多孔結(jié)構(gòu)的防粘附層550也可以具有粗糙的表面。金屬薄膜552可以由具有對(duì)諸如氧或氯的氣體具有高響應(yīng)性的金屬材料制成，使得它可以轉(zhuǎn)變成具有由于氧或氯等離子體工藝導(dǎo)致的粗糙表面的防粘附結(jié)構(gòu)或轉(zhuǎn)變成具有多孔結(jié)構(gòu)的防粘附層550。例如，金屬薄膜552可以由Ag或Cu制成。由Ag形成的金屬薄膜552可以與氧反應(yīng)以產(chǎn)生AgO，由Cu形成的金屬薄膜552可以與氯反應(yīng)以產(chǎn)生CuCl。作為另一示例，由Ag或Cu形成的金屬薄膜552可以具有在產(chǎn)生AgO或CuCl時(shí)而被轉(zhuǎn)變成多孔結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)。具有多孔結(jié)構(gòu)的防粘附層550，例如由AgO形成的防粘附層550，可以進(jìn)一步經(jīng)受熱工藝(thermal process)。關(guān)于AgO的熱工藝可以利用Ag進(jìn)行。通過(guò)熱工藝,具有多孔結(jié)構(gòu)的防粘附層550可以改變?yōu)槿鐖D9所示的多個(gè)島形式的防粘附圖案550’。防粘附圖案550’可以隨機(jī)地、均勻地或不均勻地分布在犧牲層560的整個(gè)表面上。如以上示例所述的防粘附結(jié)構(gòu)可以隨機(jī)地、均勻地或不均勻地分布在上卷葉片或犧牲層的整個(gè)表面上。然而，根據(jù)一個(gè)或多個(gè)其它的示范性實(shí)施例，防粘附結(jié)構(gòu)可以選擇性地均勻或隨機(jī)地設(shè)置在上卷葉片或犧牲層的部分表面上。參照?qǐng)DSE，上卷葉片530可以形成在從圖8D所示的工藝導(dǎo)致的結(jié)構(gòu)上，更具體地，在犧牲層560上，其上有多孔結(jié)構(gòu)的防粘附層550 (或如圖9所示的島形式的防粘附圖案550’)。參照?qǐng)D8F，犧牲層560從圖SE所示的工藝導(dǎo)致的結(jié)構(gòu)選擇性地去除。一旦犧牲層560被去除，上卷葉片530由于其中應(yīng)力梯度的存在而自發(fā)地上卷。具有多孔結(jié)構(gòu)的防粘附層550或防粘附圖案550’可以額外地形成在上卷葉片530的外周表面上。在此示例中，防粘附層550或防粘附圖案550’可以被制造而沒(méi)有額外的光刻，因此可以降低制造成本。如上所述，即使當(dāng)靜電光遮蔽裝置長(zhǎng)時(shí)間操作，上卷葉片也被防止粘附到絕緣層上，因此可以延長(zhǎng)光遮蔽裝置的壽命。
將理解，一個(gè)或多個(gè)其它示范性實(shí)施例不限于上述防粘附結(jié)構(gòu)，可以包括材料層和上卷葉片中至少一個(gè)的表面的任何結(jié)構(gòu)或任何固有屬性，其導(dǎo)致材料層和上卷葉片之間的接觸面積的減小。例如，可以提供使接觸面積在大于或等于材料層和上卷葉片之間的總交疊面積的O. 1%且小于或等于50%的范圍內(nèi)的任何防粘附結(jié)構(gòu)。上述的方法和/或操作可以被記錄、存儲(chǔ)或固定在一個(gè)或多個(gè)計(jì)算機(jī)可讀的存儲(chǔ)介質(zhì)中，該介質(zhì)包括由計(jì)算機(jī)執(zhí)行的程序指令以使得處理器執(zhí)行或運(yùn)行程序指令。該介質(zhì)還可以包括單獨(dú)的程序指令、數(shù)據(jù)文件、數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)等，或程序指令、數(shù)據(jù)文件、數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)等的任意組合。計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)的示例包括磁介質(zhì)，諸如硬盤(pán)、軟盤(pán)和磁帶；光學(xué)介質(zhì)諸如CD ROM盤(pán)和DVD ;磁光介質(zhì)，諸如光盤(pán)；以及特別配置為存儲(chǔ)和執(zhí)行程序指令的硬件裝置，諸如只讀存儲(chǔ)器(ROM)、隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM)、快閃存儲(chǔ)器等。程序指令的示例包括諸如由編譯器產(chǎn)生的機(jī)器代碼，以及包含高等級(jí)代碼的文件，該高等級(jí)代碼可被利用解譯器的計(jì)算機(jī)執(zhí)行。上述硬件裝置可以配置為用作一個(gè)或多個(gè)軟件模塊，從而執(zhí)行上述操作和方法，反之亦然。此外，計(jì)算機(jī)可讀的存儲(chǔ)介質(zhì)可以分布在通過(guò)網(wǎng)絡(luò)連接的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中，計(jì)算機(jī)可讀代碼或程序指令可以以分散的方式被存儲(chǔ)和執(zhí)行。
以上已經(jīng)描述了一些示例。然而，應(yīng)當(dāng)理解，可以進(jìn)行各種變型。例如，如果所述的技術(shù)以不同的次序進(jìn)行和/或如果所述系統(tǒng)、架構(gòu)、裝置或電路中的部件以不同的方式組合和/或被其他的部件或其等同物替代或補(bǔ)充，則可以實(shí)現(xiàn)合適的結(jié)果。因而，其他的實(shí)施方式在權(quán)利要求書(shū)的范圍內(nèi)。本申請(qǐng)要求于2011年6月24日在韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)No. 10-2011-0061747的優(yōu)先權(quán)，其全部公開(kāi)內(nèi)容通過(guò)引用結(jié)合于此用于所有的目的。
權(quán)利要求
1.一種光遮蔽裝置，包括 基底板，包括第一電極； 至少一個(gè)材料層，在所述基底板上； 上卷葉片，包括第二電極，并配置為對(duì)應(yīng)于所述基底板的光透射部分設(shè)置； 驅(qū)動(dòng)單元，配置為電連接到所述第一電極和所述第二電極以控制所述上卷葉片在透射光的上卷狀態(tài)和遮蔽光的平坦?fàn)顟B(tài)之間；以及 防粘附結(jié)構(gòu)，當(dāng)所述上卷葉片被控制為處于所述上卷狀態(tài)時(shí)防止所述上卷葉片與所述至少一個(gè)材料層之間的粘附。
2.如權(quán)利要求I所述的光遮蔽裝置，其中所述防粘附結(jié)構(gòu)減少了所述上卷葉片與所述至少一個(gè)材料層之間的接觸面積。
3.如權(quán)利要求I所述的光遮蔽裝置，其中所述至少一個(gè)材料層包括絕緣層。
4.如權(quán)利要求I所述的光遮蔽裝置，其中所述防粘附結(jié)構(gòu)包括所述上卷葉片的粗糙外周表面和所述至少一個(gè)材料層的面對(duì)該上卷葉片的粗糙表面中的至少一個(gè)。
5.如權(quán)利要求4所述的光遮蔽裝置，其中所述上卷葉片的粗糙外周表面和所述至少一個(gè)材料層的粗糙表面中的至少一個(gè)具有約30nm或更大的粗糙度。
6.如權(quán)利要求I所述的光遮蔽裝置，其中所述防粘附結(jié)構(gòu)包括所述上卷葉片的起伏的外周表面和所述至少一個(gè)材料層的面對(duì)該上卷葉片的起伏表面中的至少一個(gè)。
7.如權(quán)利要求I所述的光遮蔽裝置，其中所述防粘附結(jié)構(gòu)包括防粘附層和防粘附圖案中的至少一個(gè)，其額外地設(shè)置在所述上卷葉片的外周表面和所述至少一個(gè)材料層的面對(duì)該上卷葉片的表面中的至少一個(gè)上。
8.如權(quán)利要求7所述的光遮蔽裝置，其中所述防粘附層包括設(shè)置在所述上卷葉片的外周表面上的具有粗糙表面的材料層或多孔材料層。
9.如權(quán)利要求7所述的光遮蔽裝置，其中所述防粘附圖案包括分布在所述上卷葉片的外周表面上的多個(gè)突出部分。
10.如權(quán)利要求9所述的光遮蔽裝置，其中所述多個(gè)突出部分包括AgO或CuCl。
11.如權(quán)利要求I所述的光遮蔽裝置，其中所述防粘附結(jié)構(gòu)均勻地分布在所述上卷葉片的表面和所述材料層的表面中的至少一個(gè)上。
12.如權(quán)利要求I所述的光遮蔽裝置，其中所述防粘附結(jié)構(gòu)分布在所述上卷葉片的表面和所述材料層的表面中的至少一個(gè)的一部分上。
13.如權(quán)利要求I所述的光遮蔽裝置，其中所述上卷葉片包括固定部分和移動(dòng)部分，該固定部分固定地布置在所述光透射部分的邊緣上，當(dāng)所述上卷葉片被控制為處于上卷狀態(tài)時(shí)所述移動(dòng)部分朝向所述固定部分上卷。
14.如權(quán)利要求I所述的光遮蔽裝置，其中所述驅(qū)動(dòng)單元被配置為驅(qū)動(dòng)所述上卷葉片以可變地調(diào)節(jié)穿過(guò)所述光透射部分的光的量。
15.如權(quán)利要求I所述的光遮蔽裝置，其中所述上卷葉片包括完全覆蓋所述光透射部分的至少一個(gè)上卷葉片。
16.如權(quán)利要求I所述的光遮蔽裝置，其中 所述上卷葉片包括第一上卷葉片和鄰近該第一上卷葉片的第二上卷葉片，在該第一和第二上卷葉片之間具有間隙；并且所述至少一個(gè)材料層包括對(duì)應(yīng)于所述間隙的不透明部分，所述基底板包括對(duì)應(yīng)于所述間隙的不透明部分，或者不透明的突起被提供為從所述基底板的對(duì)應(yīng)于所述間隙的部分突出。
17.如權(quán)利要求I所述的光遮蔽裝置，其中所述第一電極與所述光透射部分整個(gè)地交疊。
18.如權(quán)利要求I所述的光遮蔽裝置，其中所述驅(qū)動(dòng)單元施加驅(qū)動(dòng)電壓，使得相反的電勢(shì)形成在所述第一電極與所述第二電極之間以控制所述上卷葉片處于所述平坦?fàn)顟B(tài)。
19.如權(quán)利要求I所述的光遮蔽裝置，其中所述上卷葉片包括兩個(gè)或更多導(dǎo)電材料的多個(gè)層。
20.如權(quán)利要求2所述的光遮蔽裝置，其中所述防粘附結(jié)構(gòu)使得所述接觸面積大于或等于當(dāng)所述上卷葉片處于平坦?fàn)顟B(tài)時(shí)所述上卷葉片與所述至少一個(gè)材料層之間的總交疊面積的O. 1%且小于或等于該總交疊面積的50%。
21.—種成像設(shè)備，包括 圖像傳感器； 基底板，包括第一電極，并設(shè)置在所述圖像傳感器上； 至少一個(gè)材料層，在所述基底板上； 上卷葉片，包括第二電極并配置為對(duì)應(yīng)于所述基底板的光透射部分設(shè)置； 驅(qū)動(dòng)單元，配置為電連接到所述第一電極和所述第二電極以控制所述上卷葉片在透射光的上卷狀態(tài)與遮蔽光的平坦?fàn)顟B(tài)之間；以及 防粘附結(jié)構(gòu)，當(dāng)所述上卷葉片被控制為處于所述上卷狀態(tài)時(shí)防止所述上卷葉片與所述至少一個(gè)材料層之間的粘附。
22.如權(quán)利要求21所述的成像設(shè)備，其中所述防粘附結(jié)構(gòu)包括所述上卷葉片的粗糙外周表面和所述至少一個(gè)材料層的面對(duì)該上卷葉片的粗糙表面中的至少一個(gè)。
23.如權(quán)利要求21所述的成像設(shè)備，其中所述防粘附結(jié)構(gòu)包括所述上卷葉片的起伏的外周表面和所述至少一個(gè)材料層的面對(duì)該上卷葉片的起伏表面中的至少一個(gè)。
24.如權(quán)利要求21所述的成像設(shè)備，其中所述防粘附結(jié)構(gòu)包括防粘附層和防粘附圖案中的至少一個(gè)，其額外地設(shè)置在所述上卷葉片的外周表面和所述至少一個(gè)材料層的面對(duì)該上卷葉片的表面中的至少一個(gè)上。
25.如權(quán)利要求21所述的成像設(shè)備，其中所述防粘附結(jié)構(gòu)包括額外地提供在所述上卷葉片的外周表面和所述至少一個(gè)材料層的面對(duì)該上卷葉片的表面中的至少一個(gè)上的突出部分。
26.—種制造光遮蔽裝置的方法，該方法包括 制備具有光透射部分的基底板； 在所述基底板上提供至少一個(gè)材料層； 在所述至少一個(gè)材料層上提供犧牲層以覆蓋對(duì)應(yīng)于至少所述光透射部分的區(qū)域；增加所述犧牲層的表面粗糙度或在所述犧牲層上形成突出部分和凹入部分中的至少一個(gè)； 在所述犧牲層上提供上卷葉片；以及 去除所述犧牲層。
27.如權(quán)利要求26所述的方法，其中所述增加表面粗糙度包括利用等離子體狀態(tài)的惰性氣體蝕刻所述犧牲層的表面。
28.如權(quán)利要求26所述的方法，還包括 在提供所述上卷葉片之前，在所述犧牲層上提供薄膜。
29.一種制造光遮蔽裝置的方法，該方法包括 制備具有光透射部分的基底板； 在所述基底板上提供至少一個(gè)材料層； 在所述至少一個(gè)材料層上提供犧牲層以覆蓋對(duì)應(yīng)于至少所述光透射部分的區(qū)域； 在所述犧牲層上提供金屬薄膜； 通過(guò)在所述金屬薄膜上進(jìn)行等離子體工藝而形成具有多孔結(jié)構(gòu)的防粘附層； 在所述防粘附層上提供上卷葉片；以及 去除所述犧牲層。
30.如權(quán)利要求29所述的方法，其中所述金屬薄膜包括Ag，所述防粘附層利用氧等離子體形成。
31.如權(quán)利要求30所述的方法，還包括 通過(guò)在所形成的具有所述多孔結(jié)構(gòu)的防粘附層上進(jìn)行熱工藝而形成防粘附圖案。
32.如權(quán)利要求29所述的方法，其中所述金屬薄膜包括Cu，所述防粘附層利用氯等離子體形成。
33.一種光遮蔽裝置，包括 基底板，包括第一電極； 至少一個(gè)材料層，在所述基底板上； 上卷葉片，包括第二電極，并配置為對(duì)應(yīng)于所述基底板的光透射部分設(shè)置；以及 防粘附結(jié)構(gòu)，當(dāng)所述上卷葉片處于遮蔽光的平坦?fàn)顟B(tài)時(shí)減少所述上卷葉片與所述至少一個(gè)材料層之間的接觸表面面積。
34.如權(quán)利要求33所述的光遮蔽裝置，其中所述防粘附結(jié)構(gòu)使得所述接觸表面面積大于或等于當(dāng)所述上卷葉片處于平坦?fàn)顟B(tài)時(shí)所述上卷葉片與所述至少一個(gè)材料層之間的總交疊面積的O. 1%且小于或等于該總交疊面積的50%。
35.如權(quán)利要求33所述的光遮蔽裝置，其中所述防粘附結(jié)構(gòu)包括所述上卷葉片的粗糙外周表面和所述至少一個(gè)材料層的面對(duì)該上卷葉片的粗糙表面中的至少一個(gè)。
36.如權(quán)利要求33所述的光遮蔽裝置，其中所述防粘附結(jié)構(gòu)包括所述上卷葉片的起伏的外周表面和所述至少一個(gè)材料層的面對(duì)該上卷葉片的起伏表面中的至少一個(gè)。
37.如權(quán)利要求33所述的光遮蔽裝置，其中所述防粘附結(jié)構(gòu)包括防粘附層和防粘附圖案中的至少一個(gè)，其額外地設(shè)置在所述上卷葉片的外周表面和所述至少一個(gè)材料層的面對(duì)該上卷葉片的表面中的至少一個(gè)上。
全文摘要
本發(fā)明提供了光遮蔽裝置及其制造方法。該光遮蔽裝置包括基底板，包括第一電極；至少一個(gè)材料層，在基底板上；上卷葉片，包括第二電極并配置為對(duì)應(yīng)于基底板的光透射部分設(shè)置；驅(qū)動(dòng)單元，配置為電連接到第一電極和第二電極；以及防粘附結(jié)構(gòu)，防止上卷葉片與材料層之間的粘附。該防粘附結(jié)構(gòu)可以指上卷葉片和材料層中至少一個(gè)的表面結(jié)構(gòu)(粗糙表面或起伏結(jié)構(gòu))或者防粘附圖案，該防粘附圖案額外地形成在上卷葉片的外周表面和材料層的表面中的至少一個(gè)上。
文檔編號(hào)G03B9/00GK102841482SQ20121019260
公開(kāi)日2012年12月26日 申請(qǐng)日期2012年6月12日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月24日
發(fā)明者洪碩佑, 金載興 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社