專利名稱：光波導(dǎo)路的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種廣泛用于光通信、光信息處理、位置傳感器及其它普通光學(xué)裝置的光波導(dǎo)路的制造方法。
背景技術(shù)：
光波導(dǎo)路通常如下地構(gòu)成，S卩，在下包層的上表面上將作為光的通路的芯形成為規(guī)定的突出圖案，以覆蓋該芯的狀態(tài)形成上包層。在制作上述光波導(dǎo)路時，通常在不銹鋼箔等的基板上，以感光性樹脂組合物等作為形成材料，利用光刻法等按照下包層、芯、上包層的順序?qū)盈B形成上述下包層、芯、上包層。在將上述光波導(dǎo)路用作觸摸面板的接觸位置傳感器等情況下，有時將上包層中的光出射部和光入射部形成為透鏡形狀，在如上所述地上包層為特定的形狀的情況下，在形成上包層時，使用成型模具。作為使用上述成型模具的光波導(dǎo)路的制造方法，例如，作為該成型模具，準(zhǔn)備形成有凹部的成型模具，該凹部具有與上包層的表面形狀相對應(yīng)的模具表面。然后，在基板上依次形成下包層和芯后，以覆蓋該芯的方式涂布上包層形成用的感光性樹脂組合物等，用上述成型模具按壓該涂布層而使其形成為上包層的形狀。在該狀態(tài)下，使該成形的上述涂布層的部分固化，從而形成為上包層(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。在其它的例中，作為上述成型模具，準(zhǔn)備形成有與上述凹部相連通的貫通孔的模具，使該成型模具的上述凹部的開口面緊貼在上包層的上表面上，在該狀態(tài)下自上述貫通孔向上述凹部內(nèi)注入了上包層形成用的感光性樹脂組合物等后，使該感光性樹脂組合物固化而形成為上包層(例如，參照專利文獻(xiàn)2)。在上述制造方法中，上述成型模具的定位通常是以突出形成在下包層的上表面上的對準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)來進行的。該對準(zhǔn)標(biāo)記通常是在芯形成時利用光刻法由芯形成用的材料形成。而且，為了提高上述成型模具的定位精度及縮短生產(chǎn)間隔時間，進行由CCD攝像機自動識別上述對準(zhǔn)標(biāo)記的操作。專利文獻(xiàn)1 日本特開2008-203431號公報專利文獻(xiàn)2 日本特開2008-281654號公報然而，即使由CXD攝像機自動識別上述對準(zhǔn)標(biāo)記而進行上述成型模具的定位，也存在有上包層相對于芯的對準(zhǔn)精度降低、或者在成型模具的定位過程中需要時間的問題。 當(dāng)如上所述上包層相對于芯的對準(zhǔn)精度降低時，從上包層中的光出射部出射的光的強度降低，當(dāng)將上述光波導(dǎo)路用作觸摸面板的接觸位置傳感器時，傳感器性能降低。此外，當(dāng)如上所述在成型模具的定位過程中需要時間時，光波導(dǎo)路的生產(chǎn)率降低。因此，本發(fā)明人深究上述對準(zhǔn)精度降低等的原因，其結(jié)果發(fā)現(xiàn)，存在難以由CCD攝像機自動識別上述對準(zhǔn)標(biāo)記的情況。即，利用光刻法，例如，如圖6的(a)所示，使上述對準(zhǔn)標(biāo)記形成為圓柱形狀，自正上方由CXD攝像機拍攝該圓柱形狀的對準(zhǔn)標(biāo)記8，自動識別上述圓柱形狀的對準(zhǔn)標(biāo)記8的頂面8a的圓部分，但是在由該CCD攝像機進行自動識別時的照明是同軸落射照明等相對于上述圓柱形狀的對準(zhǔn)標(biāo)記8的周側(cè)面8b的照明角度為0°的照明 (從正上方進行的照明)的情況下，在上述CCD攝像機的圖像中，如圖6的(b)所示可知， 上述圓柱形狀的頂面8a的圓部分與其周圍的部分(下包層1的上表面la)的反差不明顯。 在該情況下可知，由于上述圓部分的周端緣(與周圍的部分的分界線)8c不清晰，因此產(chǎn)生誤識別或者識別需要時間，以該誤識別等為原因，引起了上述對準(zhǔn)精度下降等?；谏鲜鰡栴}點存在改善的余地。此外，在圖6的(a)中，附圖標(biāo)記2為芯，附圖標(biāo)記10為基板。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述見解而完成的，其目的在于提供一種在使用成型模具形成上包層的情況下能夠利用CCD攝像機等識別裝置容易地識別定位該成型模具時所使用的對準(zhǔn)標(biāo)記的光波導(dǎo)路的制造方法。為了達(dá)成上述的目的，本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法包括在下包層的上表面上利用光刻法突出形成芯和對準(zhǔn)標(biāo)記、并以該對準(zhǔn)標(biāo)記為記號定位上包層形成用的成型模具而形成上包層的工序，其中，作為用于上述光刻法的光掩模，使用對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案由開口部和該開口部周圍的、開口率被設(shè)定在大于10%且小于80%的范圍內(nèi)的透光量減少區(qū)域構(gòu)成的光掩模，以透過上述透光量減少區(qū)域的照射線的減少為起因，對準(zhǔn)標(biāo)記的周側(cè)面形成為傾斜面，提高了識別裝置對于對準(zhǔn)標(biāo)記的識別性。本發(fā)明人在使用成型模具形成上包層的光波導(dǎo)路的制造方法中，為了提高CCD攝像機等識別裝置對定位該成型模具時所使用的對準(zhǔn)標(biāo)記的識別性，基于上述見解，構(gòu)思使對準(zhǔn)標(biāo)記的周側(cè)面形成為傾斜面，且對形成該傾斜面的方法進行反復(fù)研究。其結(jié)果查明，作為用于形成對準(zhǔn)標(biāo)記的光掩模，當(dāng)使用對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案由開口部和該開口部周圍的、開口率被設(shè)定在大于10%且小于80%的范圍內(nèi)的透光量減少區(qū)域構(gòu)成的光掩模時， 對準(zhǔn)標(biāo)記的由透過上述透光量減少區(qū)域的照射線形成的部分形成為傾斜的周側(cè)面，該對準(zhǔn)標(biāo)記例如形成為圓錐臺狀。而且，發(fā)現(xiàn)該具有傾斜的周側(cè)面的對準(zhǔn)標(biāo)記能夠容易被CCD攝像機等識別裝置識別，從而完成本發(fā)明。S卩，透過光掩模的上述透光量減少區(qū)域的照射線的強度減弱，因此利用該強度減弱的照射線形成的對準(zhǔn)標(biāo)記的周側(cè)面形成為傾斜面。而且，當(dāng)利用CCD攝像機等識別裝置從正上方自動識別上述對準(zhǔn)標(biāo)記時，無論此時的照明是同軸落射照明還是其它照明角度的照明，上述對準(zhǔn)標(biāo)記的上述傾斜部分(周側(cè)面)以與對準(zhǔn)標(biāo)記的水平部分(頂面等)和下包層的水平部分(上表面)具有明顯的反差的狀態(tài)映出在上述識別裝置的圖像中。因此， 該圖像中的對準(zhǔn)標(biāo)記的周端緣(與周圍的部分的分界線)清晰，上述對準(zhǔn)標(biāo)記能夠更容易地被上述識別裝置識別。在本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法中，作為用于形成突出狀的對準(zhǔn)標(biāo)記的光掩模， 使用對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案由開口部和該開口部周圍的、開口率被設(shè)定在大于10%且小于80%的范圍內(nèi)的透光量減少區(qū)域構(gòu)成的光掩模，因此，能夠使對準(zhǔn)標(biāo)記的周側(cè)面形成為傾斜面，并使該對準(zhǔn)標(biāo)記整體例如成為圓錐臺狀。因此，在利用CCD攝像機等識別裝置識別上述對準(zhǔn)標(biāo)記時，對準(zhǔn)標(biāo)記的上述圓錐臺狀的傾斜面部分、對準(zhǔn)標(biāo)記的水平部分(頂面等)及下包層的水平部分(上表面)的反差變得明顯，能夠容易地識別上述對準(zhǔn)標(biāo)記。其結(jié)果，既能夠防止對準(zhǔn)標(biāo)記的誤識別還能夠防止識別過程需要時間，能夠高效地生產(chǎn)上包層相對于芯的對準(zhǔn)精度優(yōu)良的光波導(dǎo)路。特別地，在上述透光量減少區(qū)域是許多個微小開口部隔開規(guī)定間隔形成而成的區(qū)域的情況下，能夠容易地將上述透光量減少區(qū)域中的開口率設(shè)定為規(guī)定值。


圖1的(a) 圖1的(c)是示意性表示本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法的一實施方式的一部分的說明圖。圖2的(a)是示意性放大表示在上述光波導(dǎo)路的制造方法中形成芯和對準(zhǔn)標(biāo)記時所使用的光掩模的對準(zhǔn)標(biāo)記形成部分的俯視圖，圖2的(b)是示意性放大表示圖2的(a) 的透光量減少區(qū)域部分的俯視圖。圖3的(a) 圖3的(c)是示意性表示接著上述圖1所示的工序的光波導(dǎo)路的制造方法的一部分的說明圖。圖4的(a)是示意性表示本發(fā)明的對準(zhǔn)標(biāo)記的識別圖像的說明圖，圖4的(b) 圖4的(c)是示意性表示接著上述圖3所示的工序的光波導(dǎo)路的制造方法的一部分的說明圖。圖5的(a) 圖5的(c)是示意性表示本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法的其它實施方式的一部分的說明圖。圖6的(a)是示意性表示以往的光波導(dǎo)路的制造方法中的芯及對準(zhǔn)標(biāo)記形成工序的說明圖，圖6的(b)是示意性表示以往的制造方法中的對準(zhǔn)標(biāo)記的識別圖像的說明圖。附圖標(biāo)記說明
1下包層
2-I-H 心
10基板
20光掩模
23開口圖案
23a開口部
23b透光量減少區(qū)域
具體實施例方式接下來，基于附圖對本發(fā)明的實施方式進行詳細(xì)說明。圖1 圖4表示本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法的一實施方式。該實施方式的光波導(dǎo)路的制造方法，概括來說，首先，在形成于基板10之上的下包層1的上表面上形成用于形成芯2和對準(zhǔn)標(biāo)記3的感光性樹脂層2A(參照圖1的(a) 圖1的(b))。接下來，利用光刻法，由上述感光性樹脂層2A形成芯2和對準(zhǔn)標(biāo)記3 (參照圖3的(a))，該光刻法使用形成有芯形成用的開口圖案22和對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的獨特的開口圖案23的光掩模20 (參照圖1 的(c) 圖2的(b))。接下來，以覆蓋了上述芯2和對準(zhǔn)標(biāo)記3的狀態(tài)形成由上包層4的形成材料構(gòu)成的涂布層4A(參照圖3的(b))。然后，以由CCD攝像機等自動識別的上述對準(zhǔn)標(biāo)記3為記號，定位成型模具30 (參照圖3的(c) 圖4的(a))，在該定位狀態(tài)下，用上述成型模具30按壓上述涂布層4A而使其形成為上包層4的形狀(參照圖4的(b))。之后，進行脫模，獲得上包層4(參照圖4的(C))。如上所述，在上述基板10上制作了光波導(dǎo)路。上述光波導(dǎo)路的制造方法的特征在于，形成上述對準(zhǔn)標(biāo)記3所使用的光掩模20的對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案23由開口部23a和該開口部23a周圍的、開口率被設(shè)定在大于 10%且小于80%的范圍內(nèi)的透光量減少區(qū)域2 構(gòu)成(參照圖1的(C)、圖2的(a)、圖2 的(b))。即，通過使用形成有上述對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的獨特的開口圖案23的光掩模20，透過該光掩模20的上述透光量減少區(qū)域23b的照射線L的強度減弱(參照圖1的(C))，對準(zhǔn)標(biāo)記3的由該強度較弱的照射線L形成的部分形成為傾斜的周側(cè)面3b(參照圖3的(a))。 由于該傾斜的周側(cè)面北的形成，在使用CCD攝像機等識別裝置識別上述對準(zhǔn)標(biāo)記3時，對準(zhǔn)標(biāo)記3的上述傾斜面部分(周側(cè)面3b)、對準(zhǔn)標(biāo)記3的水平部分(頂面3a等)及下包層 1的水平部分(上表面la)的反差變得明顯，能夠提高識別裝置對于上述對準(zhǔn)標(biāo)記3的識別性(參照圖3的(c))。而且，通過如上所述地提高對準(zhǔn)標(biāo)記3的識別性，防止了對準(zhǔn)標(biāo)記3的誤識別，從而能夠使上包層4相對于芯2形成在正確的位置(參照圖4的(C))。此外，通過如上所述地提高對準(zhǔn)標(biāo)記3的識別性，能夠在短時間內(nèi)定位成型模具30，從而能夠提高光波導(dǎo)路的
生產(chǎn)率。以下對上述光波導(dǎo)路的制造方法進行詳細(xì)說明。首先，準(zhǔn)備形成下包層1時所使用的平板狀的基板10(參照圖1的(a))。作為該基板10的形成材料，例如舉出玻璃、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)或者聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等樹脂、不銹鋼等金屬、石英、硅等?；?0的厚度例如被設(shè)定在20μπι 1. 5mm 的范圍內(nèi)。接下來，如圖1的(a)所示，在上述基板10的上表面上形成下包層1。作為該下包層1的形成材料，能夠舉出熱固化性樹脂組合物或者感光性樹脂組合物。在使用上述熱固化性樹脂組合物的情況下，通過在涂布了該熱固化性樹脂組合物后加熱該涂布層，從而形成下包層1。另一方面，在使用上述感光性樹脂組合物的情況下，通過在涂布了該感光性樹脂組合物后利用紫外線等照射線使該涂布層曝光，從而形成下包層1。下包層1的厚度例如被設(shè)定在5 μ m 60 μ m的范圍內(nèi)。接下來，如圖1的(b)所示，在上述下包層1的上表面上涂布作為芯2和對準(zhǔn)標(biāo)記 3(參照圖3的(a))的形成材料的感光性樹脂組合物，從而形成該感光性樹脂層2A。然后，如圖1的(c)所示，在上述感光性樹脂層2A的上方配置形成有與芯2和對準(zhǔn)標(biāo)記3的圖案相對應(yīng)的開口圖案22、23的光掩模20，隔著該光掩模20利用紫外線等照射線L使上述感光性樹脂層2A曝光。在這里，對于上述光掩模20，先前已經(jīng)描述，將其一部分放大的俯視圖如圖2的 (a)所示，對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案23由開口部23a和該開口部23a周圍的、開口率被設(shè)定在大于10%且小于80%的范圍內(nèi)的透光量減少區(qū)域2 構(gòu)成。本發(fā)明的一大特征在于， 使用形成有上述獨特的對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案23的上述光掩模20。 此外，在該實施方式中，上述對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案23的開口部23a形成為圓形，該開口部23a周圍的上述透光量減少區(qū)域2 形成為圓環(huán)狀。此外，在該實施方式中，上述透光量減少區(qū)域23b的進一步放大的俯視圖如圖2的(b)所示，該透光量減少區(qū)域 2 是多個四邊形的微小開口部23c隔開規(guī)定間隔形成的區(qū)域。而且，在該實施方式中，將上述透光量減少區(qū)域2 處的開口率設(shè)定為上述范圍內(nèi)的規(guī)定的恒定值。在如上所述隔著上述光掩模20曝光后，如圖3的(a)所示，使用顯影液進行顯影， 從而溶解并除去上述感光性樹脂層2A中的未曝光部分，殘存的感光性樹脂層2A形成為芯 2和對準(zhǔn)標(biāo)記3的圖案。之后，利用加熱處理除去殘留在該殘存感光性樹脂層2A的表面等處的顯影液而使上述殘存感光性樹脂層2A形成為芯2和對準(zhǔn)標(biāo)記3。以上述方式形成的上述對準(zhǔn)標(biāo)記3的周側(cè)面北是由透過上述光掩模20的透光量減少區(qū)域2 且強度減弱的照射線L形成的，因此該周側(cè)面北形成為傾斜面。其結(jié)果，上述對準(zhǔn)標(biāo)記3形成為圓錐臺狀。如上所述，本發(fā)明的一大特征在于，通過使用形成有上述獨特的對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案23的光掩模20，從而使對準(zhǔn)標(biāo)記3的周側(cè)面北形成為傾斜面。這里，對于上述光掩模20的透光量減少區(qū)域23b，如上所述，多個微小開口部23c 隔開規(guī)定間隔形成，從而將開口率設(shè)定在大于10%且小于80%的范圍內(nèi)。其理由在于，當(dāng)上述開口率脫離上述范圍時，對準(zhǔn)標(biāo)記3的周側(cè)面北不能形成為傾斜面，從而，在之后的對準(zhǔn)標(biāo)記識別工序中，不能獲得明顯的反差，不能改善對準(zhǔn)標(biāo)記3的識別性。在如上所述地形成上述芯2和對準(zhǔn)標(biāo)記3之后，如圖3的(b)所示，以覆蓋上述芯 2和對準(zhǔn)標(biāo)記3的方式涂布作為上包層4的形成材料的樹脂組合物，形成該涂布層4A。作為該形成材料，與下包層1同樣地能夠舉出熱固化性樹脂組合物或者感光性樹脂組合物。此外，在接下來的工序中，需要透過上述涂布層4A地用CXD攝像機等識別裝置從正上方自動識別對準(zhǔn)標(biāo)記3，因此上述涂布層4A具有透光性。然后，如圖3的(c)所示，準(zhǔn)備形成有凹部31的成型模具30，該凹部31具有與上包層4的表面形狀相對應(yīng)的模具表面。在該實施方式中，上述成型模具30的模具表面中的、 與芯2的前端部相對應(yīng)的部分形成為透鏡曲面31a。此外，如接下來說明的那樣，使上述涂布層4A固化的處理因上包層4的形成材料而異，因此在使用感光性樹脂組合物作為該形成材料的情況下，作為上述成型模具30，由于需要使曝光用的照射線透過，因此使用具有透光性的、例如石英制的成型模具，在使用熱固化性樹脂組合物作為上述形成材料的情況下，例如使用石英制、聚合物制、金屬制的成型模具。接下來，透過上述涂布層4A，用CXD攝像機等識別裝置從正上方自動識別對準(zhǔn)標(biāo)記3，基于該自動識別出的上述對準(zhǔn)標(biāo)記3的位置，定位上述成型模具30。這里，在由上述CXD攝像機等識別裝置進行上述對準(zhǔn)標(biāo)記3的自動識別的過程中， 不論那時的照明是同軸落射照明還是其它照明角度的照明，如圖4的(a)所示，上述對準(zhǔn)標(biāo)記3的上述傾斜部分(周側(cè)面3b)在與對準(zhǔn)標(biāo)記3的水平部分(頂面3a等)和下包層1 的水平部分(上表面la)具有明顯的反差的狀態(tài)下，映出在上述識別裝置的圖像上。因此， 該圖像中的對準(zhǔn)標(biāo)記3的周端緣(與周圍的部分的分界線)3c變得清晰，能夠利用上述識別裝置容易地識別上述對準(zhǔn)標(biāo)記3。如上所述，本發(fā)明的一大特征在于，通過使對準(zhǔn)標(biāo)記3 的周側(cè)面北形成為傾斜面，從而利用CXD攝像機等識別裝置易于識別對準(zhǔn)標(biāo)記3。然后，在以上述方式定位了成型模具30的狀態(tài)下，如圖4的(b)所示，用上述成型模具30按壓上述涂布層4A而使其形成為上包層4的形狀。在該狀態(tài)下，使該成形的上述涂布層4A的部分固化而使其形成為上包層4。在使用熱固化性樹脂組合物作為上包層4的形成材料的情況下，上述涂布層4A的固化是通過加熱進行的，在使用感光性樹脂組合物的情況下，上述涂布層4A的固化是透過上述成型模具30地用紫外線等照射線曝光來進行的。
之后，如圖4的(c)所示，通過進行脫模而獲得相對芯2適當(dāng)?shù)乇欢ㄎ坏纳习鼘?。 如上所述，能夠在上述基板10的上表面上制作由下包層1、芯2、對準(zhǔn)標(biāo)記3和上包層4構(gòu)成的光波導(dǎo)路。 此外，雖然在上述實施方式中，光掩模20中的對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案23的中央的開口部23a的形狀為圓形，對準(zhǔn)標(biāo)記3形成為圓錐臺狀，但是上述開口部23a和對準(zhǔn)標(biāo)記3也可以為其它形狀，例如上述開口部23a的形狀也可以為三角形、四邊形等多邊形、十字形等，對準(zhǔn)標(biāo)記3也可以形成為三角錐臺狀、四角錐臺狀等多角錐臺狀、十字錐臺狀等。 此外，雖然形成在該開口部23a周圍的透光量減少區(qū)域2 處的多個微小開口部23c的形狀為四邊形，但是該微小開口部23c也可以為其它形狀，例如能夠舉出圓形、三角形或者五邊形等多邊形等。另外，雖然將上述透光量減少區(qū)域2 處的開口率設(shè)定為大于10%且小于80%的范圍內(nèi)的規(guī)定的恒定值，但是也可以對該開口率進行如下設(shè)定，S卩，該開口率伴隨著朝向透光量減少區(qū)域23b的外側(cè)而逐漸在上述范圍內(nèi)減少。此外，也可以代替上述實施方式的上包層形成用的成型模具30，如圖5的(a)所示，使用在該成型模具40的凹部41連通有貫通孔42的模具。在使用上述成型模具40形成上包層4的情況下，與上述實施方式同樣地、如圖5的(b)所示，進行如下操作基于由 C⑶攝像機等識別裝置自動識別的對準(zhǔn)標(biāo)記3的位置，在定位了上述成型模具40的狀態(tài)下， 使該成模具40的上述凹部41的開口面緊貼在下包層1的上表面上，在該狀態(tài)下，如圖5的 (c)所示，自上述貫穿孔42向上述凹部41內(nèi)注入上包層4的形成材料后，使該形成材料固化，從而形成上包層4。接下來，結(jié)合比較例對實施例進行說明。但是，本發(fā)明并不限定于實施例。實施例上包層的形成材料成分A(固體環(huán)氧樹脂)包含芳香環(huán)骨架的環(huán)氧樹脂(三菱化學(xué)公司制，環(huán)氧樹脂(Epikote) 1002) 70 質(zhì)量份成分B(固體環(huán)氧樹脂)包含脂環(huán)骨架的環(huán)氧樹脂(大賽璐化學(xué)工業(yè)公司制， EHPE3150)30 質(zhì)量份成分C (光產(chǎn)酸劑)三芳基锍鹽的50% 3-戊酮碳酸鹽(propione carbonate)溶液(san-apro公司制，CPI-200K) 2質(zhì)量份使上述成分A C在55質(zhì)量份的乳酸乙酸(武藏野化學(xué)研究所公司制)中攪拌溶解(溫度80°C，攪拌250rpmX3小時)，調(diào)制成下包層的形成材料(感光性樹脂組合物)。芯的形成材料成分D 鄰甲酚酚醛清漆縮水甘油醚(ο- ” >、f -，” ^ 'J ν ” A工一 r ^)(新日鐵化學(xué)公司制，YDCN-700-10) 100質(zhì)量份使該成分D和1質(zhì)量份上述成分C在60質(zhì)量份的乳酸乙酸(武藏野化學(xué)研究所公司制)中攪拌溶解(溫度80°C，攪拌250rpmX3小時)，調(diào)制成芯的形成材料(感光性樹脂組合物)。
實施例1上包層的形成在SUS304箔(東洋制箔公司制，厚度為20 μ m)的表面上使用旋涂器(米卡薩公司制，1X-DX》涂布上述下包層的形成材料后，進行130°C X 10分鐘的干燥處理，形成感光性樹脂層。接下來，使用曝光機(米卡薩公司制，MA-60F)和超高壓水銀燈(USHI0電機公司制，USH-250D)，對上述感光性樹脂層照射紫外線(波長365nm)且進行累積光量2000mJ/ cm2的曝光。接下來，進行130°C X 10分鐘的加熱處理而形成下包層(參照圖1的(a))。用于形成芯和對準(zhǔn)標(biāo)記的光掩模準(zhǔn)備形成有與芯和對準(zhǔn)標(biāo)記的圖案相對應(yīng)的開口圖案的光掩模。對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案是由直徑0. 6mm的圓形的開口部和該開口部周圍的、外徑0. 8mm的圓環(huán)狀的透光量減少區(qū)域構(gòu)成的。上述透光量減少區(qū)域通過隔開7 μ m間距形成多個3 μ mX 3 μ m的四邊形狀的微小開口部而將開口率設(shè)定為15% (參照圖2的(a)、圖2的(b))。芯和對準(zhǔn)標(biāo)記的形成接下來，在上述下包層的上表面上，在使用上述旋涂器涂布上述芯的形成材料后， 進行130°C X5分鐘的干燥處理，形成感光性樹脂層(參照圖1的(b))。接下來，隔著上述光掩模，使用上述曝光機和上述超高壓水銀燈照射紫外線(波長365nm)，進行累積光量 4000mJ/cm2的曝光(參照圖1的(c))。接下來，進行130°C X 15分鐘的加熱處理。之后， 通過使上述感光性樹脂層在Y-丁內(nèi)酯(三菱化學(xué)公司制)的顯影液內(nèi)浸漬三分鐘而進行顯影(浸漬顯影)，溶解去除未曝光部分，之后進行120°C X 10分鐘的加熱處理，從而在上述下包層的上表面上形成芯和對準(zhǔn)標(biāo)記(參照圖3的(a))。實施例2在上述實施例1中，使用如下的光掩模以7 μ mX7 μ m的大小和Ilym的間距形成在對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案的透光量減少區(qū)域處形成的多個四邊形的微小開口部，從而將該透光量減少區(qū)域的開口率設(shè)定為40%。除此之外與上述實施例1相同地在下包層的上表面上形成芯和對準(zhǔn)標(biāo)記。實施例3在上述實施例1中，使用如下的光掩模以10 μ mX 10 μ m的大小和13 μ m的間距形成在對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案的透光量減少區(qū)域處形成的多個四邊形的微小開口部， 從而將該透光量減少區(qū)域的開口率設(shè)定為60%。除此之外與上述實施例1相同地在下包層的上表面上形成芯和對準(zhǔn)標(biāo)記。比較例1在上述實施例1中，使用如下的光掩模以3 μ mX 3 μ m的大小和9 μ m的間距形成在對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案的透光量減少區(qū)域處形成的多個四邊形的微小開口部，從而將該透光量減少區(qū)域的開口率設(shè)定為10%。除此之外與上述實施例1相同地在下包層的上表面上形成芯和對準(zhǔn)標(biāo)記。比較例2在上述實施例1中，使用如下的光掩模以10 μ mX 10 μ m的大小和12 μ m的間距形成在對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案的透光量減少區(qū)域處形成的多個四邊形的微小開口部， 從而將該透光量減少區(qū)域的開口率設(shè)定為80%。除此之外與上述實施例1相同地在下包層
9的上表面上形成芯和對準(zhǔn)標(biāo)記。對準(zhǔn)標(biāo)記的識別件利用CXD攝像機(夏普工業(yè)控制系統(tǒng)公司制，IV-S210X)自動識別上述實施例1 實施例3及比較例1、比較例2的對準(zhǔn)標(biāo)記。此時，CXD攝像機圖像為灰度圖(grayscale)， 利用直徑0. 6mm的圓形搜索器(円寸一 + )進行對準(zhǔn)標(biāo)記的檢測。其結(jié)果，將能夠在1秒以內(nèi)自動識別的情況評價為良，用〇表示，將即使經(jīng)過5秒也不能自動識別的情況評價為不容許，用X表示，將上述評價表示在下述的表1中。表 權(quán)利要求
1.一種光波導(dǎo)路的制造方法，其包括利用光刻法在下包層的上表面上突出形成芯和對準(zhǔn)標(biāo)記、且將該對準(zhǔn)標(biāo)記作為記號來定位上包層形成用的成型模具而形成上包層的工序， 其特征在于，作為用于上述光刻法的光掩模，使用對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案由開口部和該開口部周圍的、開口率被設(shè)定在大于10%且小于80%的范圍內(nèi)的透光量減少區(qū)域構(gòu)成的光掩模， 以透過上述透光量減少區(qū)域的照射線的減少為起因，對準(zhǔn)標(biāo)記的周側(cè)面形成為傾斜面，從而提高識別裝置對于對準(zhǔn)標(biāo)記的識別性。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光波導(dǎo)路的制造方法，其中，上述透光量減少區(qū)域是多個微小開口部隔開規(guī)定間隔形成而成的區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光波導(dǎo)路的制造方法，其中，周側(cè)面形成為傾斜面的上述對準(zhǔn)標(biāo)記為圓錐臺狀或者棱錐臺狀。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光波導(dǎo)路的制造方法，其能夠在使用成型模具形成上包層的情況下利用CCD攝像機等識別裝置容易地識別定位該成型模具時所使用的對準(zhǔn)標(biāo)記。在形成于基板(10)上的下包層(1)的上表面上，利用光刻法突出形成芯(2)和對準(zhǔn)標(biāo)記，使用將該對準(zhǔn)標(biāo)記作為記號進行定位的成型模具形成上包層，其中，在形成上述對準(zhǔn)標(biāo)記時，作為光掩模(20)，使用對準(zhǔn)標(biāo)記形成用的開口圖案(23)由開口部(23a)和該開口部(23a)周圍的、開口率被設(shè)定在大于10％且小于80％的范圍內(nèi)的透光量減少區(qū)域(23b)構(gòu)成的光掩模，對準(zhǔn)標(biāo)記的周側(cè)面形成為傾斜面。
文檔編號G02B6/138GK102565941SQ20111041125
公開日2012年7月11日 申請日期2011年12月12日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月22日
發(fā)明者內(nèi)藤龍介, 柴田直樹, 水谷道 申請人:日東電工株式會社