專利名稱：制造光波導(dǎo)管的方法
相關(guān)申請(qǐng)的相互參照本申請(qǐng)涉及下面共同轉(zhuǎn)讓的、同時(shí)提交的美國(guó)專利申請(qǐng)美國(guó)專利申請(qǐng)?zhí)枮?9/121,454，名稱為“具有不同芯子和包層材料的光波導(dǎo)管，以及使用該光波導(dǎo)管的發(fā)光裝置”。
這里參照其全文引入該申請(qǐng)。
在波導(dǎo)性質(zhì)提供潛在的長(zhǎng)的交互作用長(zhǎng)度的同時(shí)，具有小的截面尺寸的光信道波導(dǎo)管允許建立用于適度光學(xué)輸入能量的高的光學(xué)能量密度。這種效果的結(jié)合對(duì)于諸如二次諧波的生成、光放大、波長(zhǎng)變換和相位調(diào)制(當(dāng)引入適當(dāng)?shù)碾姌O幾何關(guān)系時(shí))等眾多光學(xué)功能而言是非常有吸引力的。
一般而言，波導(dǎo)管制造的一個(gè)目的是生產(chǎn)支持電磁波傳播的單一引導(dǎo)模式的波導(dǎo)管。許多技術(shù)已被非常成功地用來(lái)制造光信道波導(dǎo)管。這些技術(shù)包括在玻璃基底內(nèi)的離子交換，在LiNbO3基底內(nèi)的離子內(nèi)擴(kuò)散或質(zhì)子交換，利用激光燒蝕的圖像清晰度(patterndefinition)，旋制的聚合物薄膜的光刻法，和化合物半導(dǎo)體薄膜的外延生長(zhǎng)和選擇蝕刻。
這些技術(shù)的一個(gè)缺點(diǎn)是它們不能與明顯多的有用的光學(xué)材料、如許多激光晶體一起使用。這些已有技術(shù)的另一個(gè)缺點(diǎn)是制造光波導(dǎo)管所需的設(shè)備價(jià)格昂貴。
因此，就需要從獨(dú)立的經(jīng)過(guò)預(yù)制光學(xué)材料形成光波導(dǎo)管的方法，其中，該方法包括多個(gè)如研磨、拋光、和/或切成小方塊等機(jī)械加工步驟和用粘接劑連接等鍵合步驟。這種方法適于從任何，即使不是全部，光學(xué)材料制造光波導(dǎo)管。另外，這種方法可用容易得到并且不貴的設(shè)備適當(dāng)?shù)赝瓿伞?br> 在本發(fā)明的一個(gè)方面，提供該部件的步驟包括提供包括一拋光表面的光學(xué)材料、將該拋光表面連接到該第一基底、變薄并拋光光學(xué)材料的第二表面和將第二支持基底連接到該第二拋光表面。
在本發(fā)明的另一個(gè)方面，連接介于第三支持基底和第四支持基底之間的部件的相對(duì)表面的步驟包括拋光部件的一個(gè)表面，其中該表面由第一支持基底、光學(xué)材料和第二支持基底組成，將部件拋光后的表面連接到第三支持基底、變薄和拋光部件的一個(gè)相對(duì)表面，其中相對(duì)表面由第一支持基底、光學(xué)材料和第二支持基底組成，和將該相對(duì)的拋光后的表面連接到第四支持基底的步驟。
在本發(fā)明的再一方面，該方法進(jìn)一步包括將第一部件切成小方塊以形成多個(gè)部件的步驟，其中多個(gè)部件的每一個(gè)可連接到獨(dú)立的支持結(jié)構(gòu)上，用來(lái)形成獨(dú)立的光波導(dǎo)管。
在用來(lái)形成波導(dǎo)管的本發(fā)明的另一實(shí)施例中，該方法包括提供光學(xué)材料、變薄和拋光該光學(xué)材料以形成包括多個(gè)縱向延伸表面的一個(gè)芯子、提供多個(gè)支持基底和粘接地將多個(gè)支持基底連接到芯子的縱向延伸表面等步驟。期望用粘接劑將多個(gè)支持基底被連接到光學(xué)材料的多個(gè)縱向延伸表面上。該光學(xué)材料可以包括一個(gè)高的折射率，多個(gè)支持基底和/或粘接劑可以包括一個(gè)低的折射率。
當(dāng)芯子由一種光學(xué)增益材料組成時(shí)，根據(jù)本發(fā)明制造的該光波導(dǎo)管特別適于激光器和放大自發(fā)發(fā)射(ASE)源以用于使用多模式光纖來(lái)處理高能的成像和光譜應(yīng)用，以及需要單一模式傳輸?shù)碾娦藕陀芯€電視產(chǎn)業(yè)用的測(cè)試設(shè)備。本發(fā)明的光波導(dǎo)管的另外的和詳細(xì)的用途在上述引入的申請(qǐng)中描述。
最佳實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明參見(jiàn)

圖1，其中說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的原理構(gòu)造的光波導(dǎo)管10的一個(gè)實(shí)施例。如下面將更詳細(xì)地說(shuō)明，一系列新穎的連續(xù)的精度拋光和鍵合步驟允許具有由適當(dāng)包層或支持基底14包圍的芯子12的波導(dǎo)管10的快速且兼價(jià)的制造。對(duì)于用作一個(gè)光波導(dǎo)管而言，芯子12包括一高的折射率，而包層或支持基底14包括一低的折射率。例如，光學(xué)材料12可由一相對(duì)昂貴的激光晶體組成，包層或支持基底14可由一相對(duì)低成本的玻璃材料，如熔融的二氧化硅組成。
在圖1所示的說(shuō)明的實(shí)施例中，光波導(dǎo)管10是具有基本為正方形截面的信道波導(dǎo)管的形式。芯子12的伸長(zhǎng)形狀提供了在一個(gè)其中的、縱向上與支持基底的外表面對(duì)齊的傳播軸a1。
光波導(dǎo)管10的制造包括一個(gè)精度拋光和/或研磨技術(shù)以機(jī)械地變薄一經(jīng)過(guò)預(yù)制光學(xué)材料以形成在橫向和垂直方向上具有期望厚度的波導(dǎo)管的芯子的多步驟過(guò)程。光學(xué)粘接劑被用來(lái)將芯子鍵合至經(jīng)過(guò)預(yù)制包圍支持基底上。芯子和包層或支持基底可以由不同的材料，如結(jié)構(gòu)和/或化學(xué)上相異的材料、及被獨(dú)立制造成實(shí)際上不同的材料并在光波導(dǎo)管的裝配過(guò)程期間結(jié)合到一起的材料組成。
有利地，機(jī)械師可方便地完成根據(jù)本發(fā)明的不同方法，其中，獨(dú)立的經(jīng)過(guò)預(yù)制光學(xué)材料最初被適當(dāng)?shù)匕匆欢ǔ叽缰谱鲆杂糜诟鶕?jù)本發(fā)明來(lái)容易處理和制造。例如，一個(gè)最初按一定尺寸制做的光學(xué)材料的寬度約為20mm、長(zhǎng)度約為20mm，厚度約為0.5mm至1mm以便容易處理，并且它可以被制造成截面尺寸僅約為數(shù)十微米的光波導(dǎo)管的芯子。
圖2A-2H示意地說(shuō)明了根據(jù)本發(fā)明用來(lái)制造光波導(dǎo)管10的一個(gè)實(shí)施例的步驟的順序。圖3A和3B一起形成更詳細(xì)地描述圖2A-2H中所說(shuō)明的每個(gè)步驟的流程圖。
在該說(shuō)明的和描述的方法中，光波導(dǎo)管10的芯子12(在圖1和2H中被最好地說(shuō)明)被期望具有如20μm×20μm的正方形截面。這樣，用在光波導(dǎo)管10的制造中的獨(dú)立的經(jīng)過(guò)預(yù)制材料為了說(shuō)明已經(jīng)非正常比例地顯示在附圖中。
在該說(shuō)明的方法中，最初一個(gè)光學(xué)材料20(芯子12由其形成)被連接到第一支持基底30。例如，光學(xué)材料20可以是具有寬度約為20mm、長(zhǎng)度約為20mm、厚度約為0.5mm至1mm的形狀的平面。第一支持基底30也可以是具有寬度約為20mm、長(zhǎng)度約為20mm、厚度約為2mm的形狀的平面。
光學(xué)材料20包括一個(gè)底表面22和一個(gè)頂表面24。在將光學(xué)材料20連接到第一支持基底30之前，底表面22可被光學(xué)地拋光平整和光滑，從而該表面變得例如可透光。底表面22可用標(biāo)準(zhǔn)的研磨和拋光技術(shù)來(lái)光學(xué)地拋光，例如，其中，該光學(xué)材料被移到其上灑有液體研磨劑的平板上。研磨和拋光過(guò)程可以用帶有不同粒子大小(如約0.5μm至約9μm)和研磨劑類型(如氧化鋁和氧化鈰)的水基漿。該光學(xué)材料的尺寸可以用千分尺量具測(cè)量，一旦達(dá)到期望的表面質(zhì)量和/或厚度就終止加工。能夠達(dá)到約為1μm的精確度。此外，高精度拋光夾具的使用能夠得到杰出的表面平坦度，以及表面的相互平行(和/或垂直)。
適合于表面22的平坦度值可以基于光波導(dǎo)管所用的光的波長(zhǎng)被確定。例如，在光波導(dǎo)管與具有波長(zhǎng)為1μm的光一起使用時(shí)，適當(dāng)?shù)钠教苟瓤杉s為高于如長(zhǎng)度或厚度.05μm。此外，表面22被期望具有一光滑的表面質(zhì)量，如小的凹坑或表面損傷，如果有任何刮痕的話。例如，表面22被期望具有一刮痕，以挖掘(dig)約5-10的指定，其在激光應(yīng)用中用的光學(xué)器件中通常是被期望的。
第一支持基底30的頂表面32可以被光學(xué)地拋光，如利用研磨和拋光，如上述參照光學(xué)材料20的表面22，因此，該表面是平整并光滑的。光學(xué)拋光表面22和32可接著用適當(dāng)?shù)囊粚庸鈱W(xué)粘接劑40被粘接地彼此連接。光學(xué)粘接劑層40被期望形成具有少于約2μm的厚度。
參見(jiàn)圖2B，其中，光學(xué)材料20被連接到第一支持基底30，頂表面24(圖2A)被變薄并被光學(xué)地拋光，如用研磨來(lái)將厚度減少一仔細(xì)控制的量，并拋光以獲得一如上所述的光學(xué)拋光表面26。在該說(shuō)明的制造方法中，光學(xué)材料20最初的厚度為約0.5至約1mm，它被減少至厚度為約20μm。
接著將第二支持基底50連接到變薄的光學(xué)材料20的光學(xué)拋光表面26上，以形成部件70，如圖2C所示。第二支持基底50的底表面52可被光學(xué)地拋光，如用如上所述的研磨和拋光，因此該表面是平整并光滑的。接著將光學(xué)拋光表面52和26用適當(dāng)?shù)囊粚庸鈱W(xué)粘接劑60粘接地彼此連接。第二支持基底50被期望是具有寬度約為20mm、長(zhǎng)度約為20mm、厚度約為2mm的形狀的平面。光學(xué)粘接劑層60被期望具有小于約2μm的厚度。
如圖2D所示，可穿過(guò)第二支持基底50、變薄的光學(xué)材料20和第一支持基底30將部件70(圖2C)切割或切成小方塊以成為多個(gè)約0.5mm至約1mm厚的切片80。例如，可用金剛石切片刀、鋼絲鋸或薄片切割機(jī)將部件70切成小方塊。
每個(gè)切片80可根據(jù)下面的方法步驟被加工成獨(dú)立的波導(dǎo)管，其中，切片80被放平并被夾在兩個(gè)獨(dú)立的支持基底之間。方便地同時(shí)加工切片80導(dǎo)致多光波導(dǎo)管的生產(chǎn)，使得該過(guò)程的花費(fèi)合理。
參見(jiàn)單個(gè)切片80，如圖2E所示，其中表面82由第一支持基底30、光學(xué)材料20和第二支持基底50組成的切片80的表面82被光學(xué)地拋光，如用如上所述的研磨和拋光，因此該表面是平整且光滑的。
接著如圖2F所示，將切片80的表面82連接到第三支持基底90上。第三支持基底90的頂表面92可被光學(xué)地拋光，如用如上所述的研磨和拋光，因此該表面是平整且光滑的。接著可用適當(dāng)?shù)囊粚庸鈱W(xué)粘接劑100將光學(xué)拋光表面92和82彼此連接。在該示例性的實(shí)施例中，第三支持基底90可以是具有寬度約為4mm、長(zhǎng)度約為20mm、厚度約為2mm的形狀的平面。光學(xué)粘接劑層100被期望具有小于約2μm的厚度。
參見(jiàn)圖2G，在切片80被連接到第三支持基底90上后，表面84(圖2F)被變薄并被光學(xué)拋光，如用如上所述的研磨和拋光，以將厚度減少一仔細(xì)控制的量并獲得平整的拋光表面86。在該說(shuō)明的制造方法中，切片80最初的厚度為約0.5至約1mm，并且被減少至厚度為約20μm，因此，形成的芯子12具有20μm×20μm的基本正方形的橫截面。
如圖2H所示，第四支持基底110被連接到切片80的光學(xué)拋光表面86上，以形成光波導(dǎo)管10。第四支持基底110的表面112可被光學(xué)地拋光，如用如上所述的研磨和拋光，因此，該表面是平整且光滑的。接著可用適當(dāng)?shù)囊粚庸鈱W(xué)粘接劑層120將光學(xué)拋光表面112和86彼此連接。在該示例性的實(shí)施例中，第四支持基底100可以是具有寬度約為4mm、長(zhǎng)度約為20mm、厚度約為2mm形狀的平面。光學(xué)粘接劑層120期望地具有小于約2μm的厚度。最好是，光波導(dǎo)管10的第一末端16和第二末端18被光學(xué)地拋光。隨波長(zhǎng)而定的光學(xué)反射材料被施加到光波導(dǎo)管的末端16和18上，以形成一個(gè)光學(xué)空穴，該空穴允許以預(yù)定的波長(zhǎng)將抽運(yùn)能量引入光波導(dǎo)管中，并且還允許以期望的源波長(zhǎng)從光波導(dǎo)管發(fā)射輻射。
光學(xué)材料和基底的配合表面被期望具有相同的表面質(zhì)量，并且每個(gè)配合表面之間的粘接劑層的厚度是相同的。
盡管說(shuō)明并公開(kāi)了制造波導(dǎo)管的方法，其中，如小于約2μm厚的薄光學(xué)粘接劑層被用來(lái)將基底連接到光學(xué)材料的基底，但本領(lǐng)域的技術(shù)人員可從本描述中得知可用具有較大厚度的光學(xué)粘接劑層。例如，用如大于約3μm的較大厚度的光學(xué)粘接劑層，粘接劑層本身可以提供適當(dāng)?shù)陌鼘觼?lái)影響波導(dǎo)管的性能。在該替換性的實(shí)施例中，不必光學(xué)地拋光與光學(xué)材料20和/或芯子12的表面緊密配合的支持基底的表面。在這種情況下，可選擇支持基底的處理質(zhì)量，而不考慮折射率。值得注意的是，為了保持光學(xué)粘接劑包層的表面平行并垂直于芯子，并且為了保持光學(xué)粘接劑層在一個(gè)不變的厚度，可期望光學(xué)地拋光支持基底的表面。此外，如在粘接劑和芯子/包層材料之間的邊緣破損和有差別的拋光比率等實(shí)際問(wèn)題需要在選擇適當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)粘接劑和層厚度時(shí)加以考慮。
根據(jù)本發(fā)明的方法制造的適當(dāng)?shù)墓獠▽?dǎo)管部件具有截面為約2-5mm×2-5mm、長(zhǎng)度為5-30mm，也可能更長(zhǎng)的長(zhǎng)度的范圍內(nèi)的尺寸。這允許在生產(chǎn)和光學(xué)檢驗(yàn)期間能容易地處理和機(jī)械裝配光波導(dǎo)管。
支持結(jié)構(gòu)30、50、90和110最好由具有相同折射率，如從一個(gè)單個(gè)的公共基底上最初切割的相同材料組成。光學(xué)粘接劑層40、60、100和120期望地由具有一期望地對(duì)應(yīng)于支持基底的折射率的折射率的相同光學(xué)粘接劑組成。并且光學(xué)粘接劑層期望地在拋光和/或切成小方塊步驟中為光學(xué)材料20和支持基底30、50、90和110提供足夠的邊緣支持，以使光學(xué)材料和/或支持基底的邊緣的破損被降到最小。用于根據(jù)本發(fā)明的方法中的光學(xué)粘接劑可以是如新澤西州的New Brunswick的Norland Products公司生產(chǎn)并可得到的Norland 61等適當(dāng)?shù)淖贤饩€硫化的光學(xué)粘接劑。
為了提高光波導(dǎo)管10的光學(xué)性能(如極化依賴性)，光學(xué)拋光表面26最好基本平行于光學(xué)拋光表面22，光學(xué)拋光表面82基本平行于光學(xué)拋光表面86，并且四個(gè)鄰近表面的每一個(gè)，如光學(xué)拋光表面26和82基本上相互垂直。
根據(jù)本發(fā)明的制造過(guò)程還兼容大多數(shù)的光學(xué)材料，如例如激光晶體或用作激光器、放大器、ASE源和波長(zhǎng)變換器的攙雜玻璃等激活材料。適當(dāng)?shù)募せ畈牧习↙iNbO3、釹YAG、釹玻璃、釹YLF、釹LiNbO3、鉺YAG、鉺玻璃、鉺LiNbO3、鉺硅、鉻鎂橄欖石、鉻YAG和鈦二氧化鋁。
盡管被說(shuō)明的光波導(dǎo)管被表示為具有如20μm×20μm的正方形截面的芯子的光信道波導(dǎo)管，但本領(lǐng)域的技術(shù)人員從本描述可得知，光波導(dǎo)管可用本發(fā)明的方法制造以具有基于特定應(yīng)用和在波導(dǎo)管內(nèi)的期望的光信號(hào)的傳播的其它的截面構(gòu)造。例如，根據(jù)本發(fā)明制造的光波導(dǎo)管可以是具有矩形橫截面的平面或板光波導(dǎo)管的形式。
盡管已經(jīng)參照上述最佳實(shí)施例特別地表示和描述了本發(fā)明，但本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)明白，不必脫離本發(fā)明的實(shí)質(zhì)和范圍就能做出不同的形式和細(xì)節(jié)上的改變。
權(quán)利要求
1．一種形成光波導(dǎo)管的方法，所述方法包括以下步驟提供一個(gè)由介于一第一支持基底和一第二支持基底之間的一光學(xué)材料組成的部件；提供一第三支持基底和一第四支持基底；和連接到所述部件、所述第三支持基底和所述第四支持基底的相對(duì)表面上，其中，每一個(gè)所述的相對(duì)表面由所述的第一支持基底、所述的光學(xué)材料和所述的第二支持基底組成。
2．如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述提供所述部件的步驟包括以下步驟提供包括一拋光表面的所述光學(xué)材料；提供所述的第一支持基底；將所述光學(xué)材料的所述拋光表面連接到所述第一支持結(jié)構(gòu)；拋光所述光學(xué)材料的第二表面；提供所述的第二支持基底；和將所述第二拋光表面連接到所述第二支持結(jié)構(gòu)。
3．如權(quán)利要求2所述的方法，其中，所述拋光所述光學(xué)材料的第二表面的步驟包括變薄所述光學(xué)材料的步驟。
4．如權(quán)利要求2所述的方法，其中，所述將所述光學(xué)材料連接到所述第一支持基底和所述第二支持基底的步驟由提供一種粘接劑，并粘接地將所述光學(xué)材料連接到所述第一和第二支持基底的步驟組成。
5．如權(quán)利要求2所述的方法，其中，所述提供所述第一和第二基底的步驟包括提供由一拋光表面組成的所述第一支持基底和由一拋光表面組成的所述第二支持基底。
6．如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述提供所述部件的步驟包括以下步驟提供所述光學(xué)材料；光學(xué)地拋光所述光學(xué)材料的一第一表面；提供所述的第一支持基底；將所述光學(xué)材料的所述第一表面連接到所述第一支持基底的一個(gè)表面上；光學(xué)地拋光所述光學(xué)材料的一第二表面；提供所述的第二支持基底；和將所述光學(xué)材料的所述第二表面連接到所述第二支持基底的一個(gè)表面上。
7．如權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述提供所述第一和第二基底的步驟包括提供由一拋光表面組成的所述第一支持基底和由一拋光表面組成的所述第二支持基底。
8．如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述連接介于所述第三支持基底和所述第四支持基底之間的所述部件的相對(duì)表面的步驟包括以下步驟拋光所述部件的一個(gè)表面，其中，所述表面由所述第一支持基底、所述光學(xué)材料和所述第二支持基底組成；將所述部件的所述拋光表面連接到所述第三支持基底；拋光所述部件的一個(gè)相對(duì)表面，其中，所述相對(duì)表面由所述第一支持基底、所述光學(xué)材料和所述第二支持基底組成；和將所述相對(duì)拋光表面連接到所述第四支持基底。
9．如權(quán)利要求8所述的方法，其中，所述拋光所述部件的所述相對(duì)表面的步驟包括變薄所述部件的步驟。
10．如權(quán)利要求8所述的方法，其中，所述提供所述第三和第四基底的步驟包括提供由一拋光表面組成的所述第三支持基底和由一拋光表面組成的所述第四支持基底。
11．如權(quán)利要求10所述的方法，其中，所述提供所述第三和第四基底的步驟包括拋光所述第三支持基底的一個(gè)表面和拋光所述第四支持基底的一個(gè)表面。
12．如權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述將所述相對(duì)拋光表面連接到所述第三支持基底和所述第四支持基底的步驟由提供一種粘接劑并將所述相對(duì)拋光表面粘接地連接到所述第三和第四支持基底的步驟組成。
13．如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述光學(xué)材料和所述支持基底由獨(dú)立的經(jīng)過(guò)預(yù)制材料制造。
14．如權(quán)利要求13所述的方法，其中，所述支持基底由公共的基底材料制造。
15．如權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括將所述第一部件切成小方塊以形成多個(gè)部件的步驟，其中，所述的多個(gè)部件的每一個(gè)可連接到獨(dú)立的支持結(jié)構(gòu)上，用來(lái)形成獨(dú)立的光波導(dǎo)管。
16．如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述光學(xué)材料由晶體材料組成，所述支持基底由非晶體材料組成。
17．如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述光學(xué)材料由一種激活材料組成。
18．如權(quán)利要求17所述的方法，其中，所述光學(xué)材料由一激光晶體組成。
19．如權(quán)利要求17所述的方法，其中，所述光學(xué)材料由一攙雜玻璃材料組成。
20．如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述光學(xué)材料包括一高的折射率，所述支持基底包括一低的折射率。
21．如權(quán)利要求20所述的方法，其中，所述支持基底包括相似的折射率。
22．如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述光學(xué)材料用一種粘接劑連接到所述支持基底上。
23．如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述波導(dǎo)管由一具有一基本正方形的橫截面的光信道波導(dǎo)管組成。
24．一種形成波導(dǎo)管的方法，所述方法包括以下步驟提供一種光學(xué)材料；拋光所述光學(xué)材料的一個(gè)表面；將所述光學(xué)材料的所述拋光表面連接到一第一支持基底；拋光所述光學(xué)材料的一個(gè)相對(duì)表面；提供一個(gè)第二支持基底；將所述光學(xué)材料的所述相對(duì)拋光表面連接到所述第二支持基底以形成一部件；將所述部件切成小方塊以提供多個(gè)部件，每一個(gè)部件由介于所述第一和第二支持結(jié)構(gòu)之間的所述光學(xué)材料組成；拋光所述多個(gè)部件的表面，其中，所述拋光表面由所述第一支持基底、所述光學(xué)材料和所述第二支持基底組成；提供多個(gè)第三支持基底；將所述部件的所述拋光表面連接到所述的多個(gè)第三支持基底上；拋光每個(gè)所述部件的一相對(duì)表面，其中，所述相對(duì)表面由所述第一支持基底、所述光學(xué)材料和所述第二支持基底組成；提供多個(gè)第四支持基底；和將所述部件的所述相對(duì)拋光表面連接到所述的多個(gè)第四支持基底。
25．一種形成波導(dǎo)管的方法，所述方法包括以下步驟提供一種光學(xué)材料；變薄并拋光所述光學(xué)材料以形成由多個(gè)縱向延伸的表面組成的芯子；提供多個(gè)支持基底；和將所述的多個(gè)支持基底用一粘接劑連接到所述芯子的所述縱向延伸表面。
26．如權(quán)利要求25所述的方法，其中，所述光學(xué)材料包括一高的折射率，所述多個(gè)支持基底包括一低的折射率。
27．如權(quán)利要求25所述的方法，其中，所述光學(xué)材料包括一高的折射率，所述粘接劑包括一低的反射率。
28．如權(quán)利要求25所述的方法，進(jìn)一步包括拋光所述芯子的相對(duì)末端和向其上施加一反射材料的步驟。
全文摘要
制造光波導(dǎo)管的方法可以包括多個(gè)機(jī)械步驟,如研磨、拋光和/或切成小方塊,和鍵合步驟,如用粘接劑連接。在一個(gè)實(shí)施例中,該方法包括以下步驟:提供一種光學(xué)材料(20),變薄并拋光該光學(xué)材料以形成由多個(gè)縱向延伸表面組成的光波導(dǎo)管芯子(12),提供多個(gè)支持基底(30、50、90、110),和將該多個(gè)支持基底連接到該芯子(12)的該縱向延伸表面。該多個(gè)支持基底可以用一粘接劑連接到該光學(xué)材料的該多個(gè)縱向延伸表面上。該光學(xué)材料可以包括一個(gè)高的折射率,該多個(gè)支持基底和/或粘接劑可以包括一個(gè)低的折射率。
文檔編號(hào)G02B6/122GK1311864SQ99809084
公開(kāi)日2001年9月5日 申請(qǐng)日期1999年7月22日 優(yōu)先權(quán)日1998年7月23日
發(fā)明者凱文·J·麥卡萊昂, 布賴恩·L·勞倫斯, 格雷戈里·A·瓦戈納, 保羅·R·寬托克, 約翰·L·舒爾策 申請(qǐng)人:分子光電子公司