專利名稱：正型放射線敏感性樹脂組合物、層間絕緣膜及其形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及正型放射線敏感性樹脂組合物、由該組合物形成的層間絕緣膜、以及 該層間絕緣膜的形成方法，該正型放射線敏感性樹脂組合物適合作為用于形成液晶顯示元 件(LCD)等的層間絕緣膜的材料。
背景技術(shù)：
薄膜晶體管(以下，記為“TFT”)型液晶顯示元件、磁頭元件、集成電路元件、圖像 傳感器等電子部件中，一般設(shè)置層間絕緣膜以使層狀配置的布線間絕緣。作為形成層間絕 緣膜的材料，優(yōu)選得到必要的圖案形狀的工序數(shù)少，而且具有足夠平整性，所以廣泛使用正 型放射線敏感性樹脂組合物(參照專利文獻1)。上述電子部件中，例如TFT型液晶顯示元件經(jīng)過在層間絕緣膜上形成透明電極 膜，在其上形成液晶取向膜的工序制造。制造這種TFT型液晶顯示元件時，層間絕緣膜由于 在形成透明電極膜的工序中暴露在高溫條件下，或者暴露在形成電極的圖案使用的抗蝕剝 離液中，或者暴露在各種波長的光中，所以必須有足夠的耐熱性、耐溶劑性和耐光性。另外， 由于層間絕緣膜還有可能進行干蝕工序，所以必須對干蝕有足夠的耐受性(參照專利文獻 2和專利文獻3)。另外，近年來TFT型液晶顯示元件有大畫面化、高亮度化、高精度化、高速響應(yīng)化、 薄型化等趨勢。因此，作為TFT型液晶顯示元件中使用的用于形成層間絕緣膜的放射線敏 感性組合物，要求對放射線有高的靈敏度，而且作為形成層間絕緣膜要求是低介電常數(shù)、高 的光線透過率等這些與目前相比逐漸增加的優(yōu)異的性能。另外，在形成層間絕緣膜時的顯 影工序中，如果顯影時間即使比最佳時間略微長一點，則顯影液浸透到圖案和基板之間，圖 案也容易從基板剝落。因此，在形成層間絕緣膜時的顯影工序中，必須要嚴密控制顯影時 間，在產(chǎn)品的成品率方面有問題。如此，在由放射線敏感性樹脂組合物形成層間絕緣膜時，作為組合物要求對放射 線有高靈敏度；另外，在形成層間絕緣膜時的顯影工序中，顯影時間比規(guī)定時間過量時，顯 示出圖案不會剝落的良好的密合性，而且作為形成的層間絕緣膜要求有耐熱性、耐溶劑性、 低介電性、光線透過率、耐光性、耐干蝕性等性能優(yōu)異。但是，目前還不知道有完全滿足這樣 要求的放射線敏感性樹脂組合物。現(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻1日本特開2001-3M822號公報專利文獻2日本特開2000-241832號公報專利文獻3日本特開2005-345757號公報

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是根據(jù)上述問題提出的，其目的在于提供一種正型放射線敏感性樹脂組合物，該組合物的放射線靈敏度和對顯影工序中圖案從基板剝落的耐受性高，而且可以形成 耐熱性、耐溶劑性、低介電性、光線透過率、耐光性和耐干蝕性優(yōu)異的層間絕緣膜；還提供由 該組合物得到的層間絕緣膜以及該層間絕緣膜的形成方法。為了解決上述問題提出的發(fā)明是一種正型放射線敏感性樹脂組合物，其包含[A]具有受阻胺結(jié)構(gòu)和/或受阻酚結(jié)構(gòu)的堿可溶性樹脂，以及[B] 1，2-醌二疊氮化合物。該正型放射線敏感性樹脂組合物由于包含[A]具有受阻胺結(jié)構(gòu)和/或受阻酚結(jié)構(gòu) 的堿可溶性樹脂和[B] 1，2-醌二疊氮化合物，所以放射線靈敏度和在顯影工序中圖案從基 板剝落的顯影時間的允許范圍(顯影裕度)高，而且可以形成耐熱性、耐溶劑性、低介電性、 光線透過率、耐光性和耐干蝕性優(yōu)異的層間絕緣膜。另外，這里所述的“具有受阻胺結(jié)構(gòu)的 堿可溶性樹脂”是指含氨基的氮原子鄰接的至少1個碳原子構(gòu)成叔型基團的胺結(jié)構(gòu)的堿可 溶性樹脂；所述的“具有受阻酚結(jié)構(gòu)的堿可溶性樹脂”是指含鄰接酚羥基的連接部分的至少 1個苯環(huán)碳原子連接叔型基團的苯酚結(jié)構(gòu)的堿可溶性樹脂。在該正型放射線敏感性樹脂組合物中，[A]堿可溶性樹脂優(yōu)選為由(a 1)包含選 自不飽和羧酸或不飽和羧酸酐中的一種以上的單體，以及(^)包含選自下述式(1)所示的 化合物、下述式( 所示的化合物或下述式C3)所示的化合物中的一種以上的單體得到的 共聚物。
權(quán)利要求
1.一種正型放射線敏感性樹脂組合物，其包含[A]具有受阻胺結(jié)構(gòu)和/或受阻酚結(jié)構(gòu)的堿可溶性樹脂，以及[B]1,2-醌二疊氮化合物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所記載的正型放射線敏感性樹脂組合物，其中[A]堿可溶性樹脂為 由(al)包含選自不飽和羧酸或不飽和羧酸酐中的一種以上的單體，以及(^)包含選自下 述式(1)所示的化合物、下述式( 所示的化合物或下述式C3)所示的化合物中的一種以 上的單體得到的共聚物，
3.根據(jù)權(quán)利要求2所記載的正型放射線敏感性樹脂組合物，其中[A]堿可溶性樹脂為 由除了上述(al)和(^)所示的化合物以外，還包含(M)含環(huán)氧基的不飽和化合物的單體 得到的共聚物。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、權(quán)利要求2或權(quán)利要求3所記載的正型放射線敏感性樹脂組合物， 其用于形成層間絕緣膜。
5.由權(quán)利要求4所記載的正型放射線敏感性樹脂組合物形成的層間絕緣膜。
6.一種層間絕緣膜的形成方法，其包括(1)在基板上形成權(quán)利要求4所記載的正型放射線敏感性樹脂組合物的涂膜的工序，(2)對在工序(1)形成的涂膜的至少一部分照射放射線的工序，(3)對在工序O)中照射了放射線的涂膜進行顯影的工序，以及(4)加熱在工序C3)顯影的涂膜的工序。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種正型放射線敏感性樹脂組合物、層間絕緣膜及其形成方法。該正型放射線敏感性樹脂組合物的放射線靈敏度、顯影裕度高，而且可以形成耐熱性、耐溶劑性、低介電性、光線透過率、耐光性、耐干蝕性優(yōu)異的層間絕緣膜。該正型放射線敏感性樹脂組合物包含[A]具有受阻胺結(jié)構(gòu)和/或受阻酚結(jié)構(gòu)的堿可溶性樹脂，以及[B]1，2-醌二疊氮化合物。[A]成分優(yōu)選為由(a1)包含選自不飽和羧酸或不飽和羧酸酐中的一種以上的單體，以及(a2)包含選自下述式(1)所示的化合物、下述式(2)所示的化合物或下述式(3)所示的化合物中的一種以上的單體得到的共聚物。[A]成分可以是由除了上述(a1)和(a2)的化合物以外，還包含(a3)含環(huán)氧基的不飽和化合物的單體得到的共聚物。
文檔編號G03F7/00GK102053497SQ20101053140
公開日2011年5月11日 申請日期2010年10月26日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月28日
發(fā)明者村田惠, 花村政曉, 荒井雅史 申請人:Jsr株式會社