專利名稱：光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種波像差測(cè)量裝置及方法，且特別是有關(guān)于一種光刻機(jī) 投影物鏡波像差測(cè)量裝置及方法。
背景技術(shù)：
光刻機(jī)是集成電路生產(chǎn)和制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備之一，其將掩模上的圖案 經(jīng)過投影物鏡^投影在涂有光刻膠的硅片上。成像質(zhì)量是影響光刻機(jī)光刻分辨力 和套刻精度的重要因素。隨著光刻特征尺寸的減小，光刻機(jī)投影物鏡波像差對(duì) 光刻質(zhì)量的影響越來越突出，波像差的原位檢測(cè)已成為先進(jìn)的投影光刻機(jī)中不 可或缺的功能，波像差的測(cè)量技術(shù)成為保證光刻性能的重要手段。
Jun Ishikawa等人于2005年發(fā)明了 一種光刻機(jī)投影物鏡波像差的檢測(cè)裝置 及方法(美國(guó)專利號(hào)6,914,665 B2):利用位于掩模臺(tái)基準(zhǔn)板上的針孔標(biāo)記產(chǎn)生 理想球面波，利用位于工件臺(tái)上的哈特曼波像差傳感器測(cè)量波像差。此種裝置 受針孔標(biāo)記尺寸的限制，需要較大的輸入光強(qiáng)， 一般光刻機(jī)曝光光源很難滿足 要求，所以需要安裝額外的光源，專門用于波像差的檢測(cè)；同時(shí)由于波像差傳 感器接收到的光強(qiáng)較弱，所以此種裝置檢測(cè)波像差的時(shí)間一般較長(zhǎng)，精度相對(duì) 較低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是提供一種光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置及方法，以改善現(xiàn)有技 術(shù)的缺失。
本發(fā)明的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置包括光源、照明系統(tǒng)、第一方向 上的第一狹縫標(biāo)記、第二方向上的第二狹縫標(biāo)記、硅片、工件臺(tái)、光學(xué)成像系 統(tǒng)、干涉儀、哈特曼波像差傳感器系統(tǒng)。上述第一方向和上述第二方向垂直。 光源產(chǎn)生光束；照明系統(tǒng)整形光束，產(chǎn)生上述第一方向上的第一照明光束或上
述第二方向上的第二照明光束；第一照明光束透過第一狹縫標(biāo)記得到第一光束,
5第二照明光束透過第二狹縫標(biāo)記得到第二光束；工件臺(tái)承載并定位硅片；光學(xué) 成像系統(tǒng)包括投影物鏡，第一光束形成第一狹縫標(biāo)記的第一影像于硅片，第二 光束形成第二狹縫標(biāo)記的第二影像于硅片；波像差傳感器系統(tǒng)位于工件臺(tái)上， 接收上述第一影像和上述第二影像，測(cè)量投影物鏡上述第一方向的第一波像差 和上述第二方向的第二波像差；干涉儀定位工件臺(tái)，根據(jù)第一波像差和第二波 像差計(jì)算投影物鏡的最終波像差。
本發(fā)明另提出一種光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量方法，包括下列步驟照明 系統(tǒng)調(diào)整光源發(fā)出的光束為第 一方向上的第 一照明光束；上述第 一照明光束透 過上述第 一方向上的第 一狹縫標(biāo)記得到第 一光束；上述第 一光束經(jīng)過具有投影 物鏡的光學(xué)成像系統(tǒng)形成第一影像于硅片；波像差傳感器系統(tǒng)測(cè)量上述第一方 向的第 一波像差；照明系統(tǒng)調(diào)整光源發(fā)出的光束為第二方向上的第二照明光束； 上述第二照明光束透過上述第二方向上的第二狹縫標(biāo)記得到第二光束；上述第 二光束經(jīng)過具有上述投影物鏡的光學(xué)成像系統(tǒng)形成第二影像于硅片；波像差傳 感器系統(tǒng)測(cè)量上述第二方向的第二波像差；依據(jù)上述第一波像差和上述第二波 相差計(jì)算上述投影物鏡的最終波像差。
本發(fā)明利用一對(duì)相互垂直的狹縫標(biāo)記，在相互垂直的兩個(gè)方向上分別產(chǎn)生 理想球面波前，利用位于工件臺(tái)上的哈特曼波像差傳感器分別探測(cè)經(jīng)過投影物 鏡后的所述兩個(gè)方向的波前，根據(jù)所述兩個(gè)方向的波前組合計(jì)算出最終的投影 物鏡波像差。本發(fā)明測(cè)試時(shí)間短、精度高，且利用光刻機(jī)曝光光源即可完成投 影物鏡波像差的在線檢測(cè)。
為讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳 實(shí)施例，并配合附圖，作詳細(xì)說明如下。


圖1所示為才艮據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置的結(jié)構(gòu) 示意圖。
圖2所示為圖1中光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置的基準(zhǔn)板和狹縫標(biāo)記的 示意圖。
圖3a所示為用于照明第一方向上的第一狹縫標(biāo)記的第一照明光束在光瞳內(nèi)的光強(qiáng)分布示意圖。
圖3b所示為用于照明第二方向上的第二狹縫標(biāo)記的第二照明光束在光瞳內(nèi) 的光強(qiáng)分布示意圖。
圖4所示為圖1中光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置的波像差傳感器系統(tǒng)的 示意圖。
圖5a所示為圖2中波^像差傳感器系統(tǒng)的入射光束波前為理想波前時(shí)的示意圖。
圖5b所示為圖2中波像差傳感器系統(tǒng)的入射光束波前為實(shí)際波前時(shí)的示意圖。
圖6a所示為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的仿真計(jì)算的投影物鏡垂直方向的波像差 的示意圖。
圖6b所示為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的仿真計(jì)算的投影物鏡水平方向的波像差 的示意圖。
圖6c所示為根據(jù)圖6a中投影物鏡垂直方向的波像差和圖6b中投影物鏡水 平方向的波像差計(jì)算出的投影物鏡的最終波像差的示意圖。
圖7所示為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量方法的流程圖。
具體實(shí)施例方式
圖1所示為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置的結(jié)構(gòu) 示意圖。圖2所示為圖1中光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置的基準(zhǔn)板和狹縫標(biāo) 記的示意圖。圖3a所示為用于照明第一方向上的第一狹縫標(biāo)記的第一照明光束 在光瞳內(nèi)的光強(qiáng)分布示意圖。圖3b所示為用于照明第二方向上的第二狹縫標(biāo)記 的第二照明光束在光瞳內(nèi)的光強(qiáng)分布示意圖。圖4所示為圖1中光刻才幾投影物
鏡波像差測(cè)量裝置的波像差傳感器系統(tǒng)的示意圖。請(qǐng)同時(shí)參考圖1至圖4。
如圖1所示，光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置1包括光源101、照明系統(tǒng)
102、掩模臺(tái)103、掩模104、基準(zhǔn)板105、硅片106、工件臺(tái)107、光學(xué)成像系
統(tǒng)108、波像差傳感器系統(tǒng)109、以及干涉儀IIO。
光源101產(chǎn)生光束。照明系統(tǒng)102整形光束，產(chǎn)生第一方向上的第一照明光束或第二方向上的第二照明光束，且上述第一方向和上述第二方向垂直。第
一照明光束在光瞳內(nèi)的光強(qiáng)分布如圖3a所示，第二照明光束在光瞳內(nèi)的光強(qiáng)分 布如圖3b所示，其中灰色部分為照明區(qū)，無色部分為光瞳區(qū)。掩模104位于掩 模臺(tái)103上，基準(zhǔn)板105位于掩模臺(tái)103上，且掩模104刻有上述第一方向上 的第一狹縫標(biāo)記Sl和上迷第二方向上的第二狹縫標(biāo)記S2或者基準(zhǔn)板105刻有 上述第一方向上的第一狹縫標(biāo)記Sl和第二方向上的第二狹縫標(biāo)記S2,第一狹縫 標(biāo)記Sl和第二狹縫標(biāo)記S2相互正交。將上述掩?；蛏鲜龌鶞?zhǔn)板置于掩模臺(tái)照 明系統(tǒng)正下方處。上述第一照明光束透過上述第一狹縫標(biāo)記S1得到第一方向光 束，上述第二照明光束透過上述第二狹縫標(biāo)記S2得到第二方向光束。工件臺(tái)107 承載并定位硅片106;光學(xué)成像系統(tǒng)108具有投影物鏡1081,光學(xué)成像系統(tǒng)108 將第一方向光束或第二方向光束成像于硅片106。波像差傳感器系統(tǒng)109位于工 件臺(tái)107上，測(cè)量投影物鏡1081上述第一方向的第一波像差和上述第二方向的 第二波像差。干涉儀110定位工件臺(tái)107，根據(jù)上述第一波像差和上述第二波像 差計(jì)算投影物鏡的最終波像差。
在本實(shí)施例中，光源101為深紫外激光光源。掩模104或基準(zhǔn)板105上的 第一方向上的第一狹縫標(biāo)記Sl為垂直方向標(biāo)記，第二方向上的第二狹縫標(biāo)記S2 為水平方向標(biāo)記(如閨2所示)。圖2中的第一狹縫標(biāo)記Sl和第二狹縫標(biāo)記S2 的部分為無鉻透光區(qū)，其他部分為有鉻不透光區(qū)。
進(jìn)一步，在本實(shí)施例中，波像差傳感器系統(tǒng)109為哈特曼波像差傳感器系 統(tǒng)，包括準(zhǔn)直鏡組201、微透鏡陣列202、光強(qiáng)傳感器203 (如圖4所示)。
請(qǐng)參考圖1至圖6c,測(cè)量波像差時(shí)，光源101發(fā)出的光束經(jīng)照明系統(tǒng)102 后調(diào)整為垂直方向的第 一照明光束，第 一照明光束投射到刻有垂直方向的第一 狹縫標(biāo)記Sl和水平方向的第二狹縫標(biāo)記S2的基準(zhǔn)板105或者刻有垂直方向的 第一狹縫標(biāo)記Sl和水平方向的第二狹縫標(biāo)記S2的掩模104上，透過第一狹縫 標(biāo)記Sl并經(jīng)光學(xué)成像系統(tǒng)108，曝光形成第一影像到硅片106。在激光干涉儀 110準(zhǔn)確定位工件臺(tái)107的情況下，工件臺(tái)107帶動(dòng)哈特曼波像差傳感器系統(tǒng) 109測(cè)量投影物鏡垂直方向的波像差。第一影像成像光束經(jīng)波像差傳感器系統(tǒng) 109的準(zhǔn)直鏡組201后，將發(fā)散光束轉(zhuǎn)換為平行光束并照射到微透鏡陣列202, 微透鏡陣列202將平行光束分割并分別聚焦到光強(qiáng)傳感器203，光強(qiáng)傳感器203可得到被分割的微平行光束聚焦位置。如果入射光束s波前為理想波前，則微
平行光束聚焦位置應(yīng)該正好對(duì)應(yīng)在各個(gè)微透鏡的正下方，如圖5a所示；如果入 射光束S波前為非理想波前，則微平行光束聚焦位置應(yīng)該與各個(gè)微透鏡的正下 方有一定的偏離，如圖5b所示，根據(jù)測(cè)量得到的微平行光束的聚焦位置即可計(jì) 算出垂直方向入射光束的波像差(如圖6a所示)。
然后，光源101發(fā)出的光束經(jīng)照明系統(tǒng)102后調(diào)整為水平方向的第二照明 光束，第二照明光束^殳射到刻有垂直方向的第一狹縫標(biāo)記S1和水平方向的第二 狹縫標(biāo)記S2的基準(zhǔn)板105或者刻有垂直方向的第一狹縫標(biāo)記Sl和水平方向的 第二狹縫標(biāo)記S2的掩才莫104上，透過第二方向狹縫標(biāo)記S2并經(jīng)光學(xué)成像系統(tǒng) 108，曝光形成第二影像到硅片106。在激光千涉儀110準(zhǔn)確定位工件臺(tái)107的 情況下，工件臺(tái)107帶動(dòng)哈特曼波像差傳感器系統(tǒng)109測(cè)量投影物鏡水平方向 的波像差。第二影像成像光束經(jīng)波像差傳感器系統(tǒng)109的準(zhǔn)直鏡組201后，將 發(fā)散光束轉(zhuǎn)換為平行光束并照射到微透鏡陣列202，微透鏡陣列202將平行光束 分割并分別聚焦到光強(qiáng)傳感器203,光強(qiáng)傳感器203可得到被分割的微平行光束 聚焦位置。如果入射光束S波前為理想波前，則微平行光束聚焦位置應(yīng)該正好 對(duì)應(yīng)在各個(gè)微透鏡的正下方，如圖5a所示；如果入射光束S波前為非理想波前， 則微平行光束聚焦位置應(yīng)該與各個(gè)微透鏡的正下方有一定的偏離，如圖5b所示， 根據(jù)測(cè)量得到的微平行光束的聚焦位置即可計(jì)算出水平方向入射光束的波像差 (如圖6b所示)。
最后，根據(jù)垂直方向和水平方向的波像差，利用相位提取、相位展開和波 面擬合等干涉條紋處理方法計(jì)算投影物鏡的最終波像差(如圖6c所示)。
圖7所示為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量方法的流程 圖。如圖7所示，光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量方法包括下列步驟
S601:調(diào)整光源發(fā)出的光束為第一照明光束。光源IOI發(fā)出的光束經(jīng)照明系 統(tǒng)102后調(diào)整為第一方向上的第一照明光束。
S603:第一照明光束透過上述第一方向上的第一狹縫標(biāo)記得到第一光束，本 實(shí)施例中，上述第 一方向上的第 一狹縫標(biāo)記為垂直方向的狹縫標(biāo)記。
S605:第 一光束經(jīng)過具有投影物鏡的光學(xué)成像系統(tǒng)形成第 一影像于硅片。
S607:測(cè)量上述第一方向的第一波像差。本步驟中，在激光干涉儀110準(zhǔn)確
9定位工件臺(tái)107的情況下，工件臺(tái)107帶動(dòng)哈特曼波像差傳感器系統(tǒng)109測(cè)量 投影物鏡第一方向的第一波像差。第一影像成像光束經(jīng)波像差傳感器系統(tǒng)109 的準(zhǔn)直鏡組201后，將發(fā)散光束轉(zhuǎn)換為平行光束并照射到微透鏡陣列202,微透 鏡陣列202將平行光束分割并分別聚焦到光強(qiáng)傳感器203，光強(qiáng)傳感器203可得 到被分割的微平行光束聚焦位置。如果入射光束S波前為理想波前，則微平行 光束聚焦位置應(yīng)該正好對(duì)應(yīng)在各個(gè)微透鏡的正下方，如圖5a所示；如果入射光 束S波前為非理想波前，則微平行光束聚焦位置應(yīng)該與各個(gè)微透鏡的正下方有 一定的偏離，如圖5b所示，根據(jù)測(cè)量得到的微平行光束的聚焦位置即可計(jì)算出 第一方向(垂直方向)入射光束的波像差。
S609:調(diào)整光源發(fā)出的光束為第二照明光束。光源IOI發(fā)出的光束經(jīng)照明系 統(tǒng)102后調(diào)整為第二方向上的第二照明光束，且上述第一方向和上述第二方向 垂直。
S611:第二照明光束透過上述第二方向上的第二狹縫標(biāo)記S2得到第二光束, 本實(shí)施例中，上述第二方向上的狹縫標(biāo)記為水平方向的狹縫標(biāo)記。
S613:第二光束經(jīng)過具有投影物鏡的光學(xué)成像系統(tǒng)形成第二影像于硅片。
S615:測(cè)量上述第二方向的第二波像差。本步驟中，在激光干涉儀110準(zhǔn)確 定位工件臺(tái)107的情況下，工件臺(tái)107帶動(dòng)哈特曼波^(象差傳感器系統(tǒng)109測(cè)量 投影物鏡第二方向的第二波像差。第二影像成像光束經(jīng)波像差傳感器系統(tǒng)109 的準(zhǔn)直鏡組201后，將發(fā)散光束轉(zhuǎn)換為平行光束并照射到微透鏡陣列202，微透 鏡陣列202將平行光束分割并分別聚焦到光強(qiáng)傳感器203,光強(qiáng)傳感器203可得 到被分割的^f鼓平行光束聚焦位置。如果入射光束S波前為理想波前，則微平行 光束聚焦位置應(yīng)該正好對(duì)應(yīng)在各個(gè)微透鏡的正下方，如圖5a所示；如果入射光 束S波前為非理想波前，則微平行光束聚焦位置應(yīng)該與各個(gè)微透鏡的正下方有 一定的偏離，如圖5b所示，根據(jù)測(cè)量得到的微平行光束的聚焦位置干涉儀即可 計(jì)算出第二方向(水平方向)入射光束的波像差。
S617:計(jì)算投影物鏡的最終波像差。采用微分Zernike多項(xiàng)式擬合算法可以 得到36項(xiàng)Zernike系數(shù)表示的投影物鏡1081的最終波像差。
在步驟S605中，圖3a所示的第一照明光束在光瞳內(nèi)的分布與圖2中所示 的垂直方向狹縫標(biāo)記相組合，可使照明光經(jīng)過光學(xué)成像系統(tǒng)的投影物鏡時(shí)充滿整個(gè)投影物鏡的光瞳，即實(shí)現(xiàn)了對(duì)投影物鏡光瞳的完全采樣，同時(shí)延水平方向
上分布的光線之間具有很好的相干性；同樣的在步驟S613中，圖3b所示的照 明光束在光瞳內(nèi)的分布與圖2中所示的水平方向狹縫標(biāo)記相組合，可使照明光 經(jīng)過光學(xué)成像系統(tǒng)的投影物鏡時(shí)充滿整個(gè)投影物鏡的光瞳，即實(shí)現(xiàn)了對(duì)投影物 鏡光瞳的完全采樣，同時(shí)延垂直方向上分布的光線之間具有很好的相干性。
本發(fā)明光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置與方法利用的一對(duì)相互垂直的狹縫 標(biāo)記，在相互垂直的兩個(gè)方向上分別產(chǎn)生理想球面波前，利用位于工件臺(tái)上的 哈特曼波像差傳感器分別探測(cè)經(jīng)過投影物鏡后的所述兩個(gè)方向的波前，根據(jù)所 述兩個(gè)方向的波前組合計(jì)算出最終的投影物鏡波像差。本發(fā)明測(cè)試時(shí)間短、精 度高，且利用光刻機(jī)曝光光源即可完成投影物鏡波像差的在線檢測(cè)。
本發(fā)明中所述具體實(shí)施案例僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施案例而已，并非用來限 定本發(fā)明的實(shí)施范圍。即凡依本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍的內(nèi)容所作的等效變化與修 飾，都應(yīng)屬于本發(fā)明的技術(shù)范疇。
權(quán)利要求
1. 一種光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置，其特征在于，包括光源，產(chǎn)生光束；照明系統(tǒng)，調(diào)整上述光束，產(chǎn)生第一方向上的第一照明光束或第二方向上的第二照明光束，且上述第一方向和上述第二方向垂直；上述第一方向上的第一狹縫標(biāo)記；上述第二方向上的第二狹縫標(biāo)記；上述第一照明光束透過上述第一狹縫標(biāo)記得到第一光束，上述第二照明光束透過上述第二狹縫標(biāo)記得到第二光束；硅片；工件臺(tái)，承載并定位上述硅片；光學(xué)成像系統(tǒng)，包括投影物鏡，上述第一光束通過光學(xué)成像系統(tǒng)曝光成像到上述硅片形成第一影像，上述第二方向光束通過光學(xué)成像系統(tǒng)曝光成像到上述硅片形成第二影像；波像差傳感器系統(tǒng)，位于上述工件臺(tái)上，接收上述第一影像和上述第二影像，測(cè)量投影物鏡上述第一方向的第一波像差和上述第二方向的第二波像差；以及干涉儀，定位上述工件臺(tái)，電性連接上述波像差傳感器系統(tǒng)，根據(jù)上述第一波像差和上述第二波像差計(jì)算上述投影物鏡的最終波像差。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置，其特征在于上述光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置還包括掩模臺(tái).，掩模，放置于上述掩模臺(tái)上，且上述第一方向上的第一狹縫標(biāo)記和上述第二方向上的第二狹縫標(biāo)記設(shè)置于上述掩模上。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置，其特征在于上述光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置還包括掩模臺(tái)；基準(zhǔn)板，放置于上述掩模臺(tái)上，且上述第一方向上的第一狹縫標(biāo)記和上迷第二方向上的第二狹縫標(biāo)記設(shè)置于上述基準(zhǔn)板上。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置，其特征在于其 中上述光源為深紫外激光光源。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置，其特征在于其 中上述第一方向上的第一狹縫標(biāo)記和上述第二方向上的第二狹縫標(biāo)記的寬度小 于上述光學(xué)成像系統(tǒng)的衍射極限，上述第一方向上的第一狹縫標(biāo)記和上述第二 方向上的第二狹縫標(biāo)記的長(zhǎng)度大于上述光學(xué)成像系統(tǒng)的衍射極限。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置，其特征在于其 中上述波像差傳感器系統(tǒng)為哈特曼波像差傳感器系統(tǒng)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置，其特征在于其 中上述哈特曼波像差傳感器系統(tǒng)包括光束準(zhǔn)直鏡組、微透鏡陣列、光強(qiáng)傳感器。
8. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置，其特征在于其 中上述第一方向上的狹縫標(biāo)記為垂直方向狹縫標(biāo)記，上述第二方向上的狹縫標(biāo) 記為水平方向狹縫標(biāo)記。
9. 一種使用權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述裝置的光刻機(jī)投影物鏡波像差 測(cè)量方法，其特征在于，包括下列步驟照明系統(tǒng)調(diào)整光源發(fā)出的光束為第 一方向上的第 一照明光束；上述第 一照明光束透過上述第 一方向上的第 一狹縫標(biāo)記得到第 一光束；上述第一光束經(jīng)過具有投影物鏡的光學(xué)成4象系統(tǒng)形成第一影像于硅片；波像差傳感器系統(tǒng)測(cè)量上述第 一方向的第 一波像差；照明系統(tǒng)調(diào)整光源發(fā)出的光束為第二方向上的第二照明光束；上述第二照明光束透過上述第二方向上的第二狹縫標(biāo)記得到第二光束；上述第二光束經(jīng)過具有上述投影物鏡的光學(xué)成像系統(tǒng)形成第二影像于硅片；波像差傳感器系統(tǒng)測(cè)量上述第二方向的第二波像差；以及 依據(jù)上述第一波像差和上述第二波相差計(jì)算上述投影物鏡的最終波像差。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量方法，其特征在于其 中上述光源為深紫外激光光源。
11. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量方法，其特征在于其中上述波像差傳感器系統(tǒng)為哈特曼波像差傳感器系統(tǒng)。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量方法，其特征在于 其中上述哈特曼波像差傳感器系統(tǒng)包括光束準(zhǔn)直鏡組、微透鏡陣列、光強(qiáng)傳感 器。
13. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量方法，其特征在于其 中上述第一方向?yàn)榇怪狈较颍鲜龅诙较驗(yàn)樗椒较颉?br> 全文摘要
本發(fā)明提出一種光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置及方法。光刻機(jī)投影物鏡波像差測(cè)量裝置包括光源、照明系統(tǒng)、第一方向上的第一狹縫標(biāo)記、第二方向上的第二狹縫標(biāo)記、硅片、工件臺(tái)、光學(xué)成像系統(tǒng)、波像差傳感器系統(tǒng)以及干涉儀。本發(fā)明測(cè)試時(shí)間短、精度高，且利用光刻機(jī)曝光光源即可完成投影物鏡波像差的在線檢測(cè)。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101464637SQ20081020497
公開日2009年6月24日 申請(qǐng)日期2008年12月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月30日
發(fā)明者李術(shù)新, 帆 王, 馬明英 申請(qǐng)人:上海微電子裝備有限公司