技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種抗卷曲熱升華轉(zhuǎn)印膜，包括基膜，基膜正面涂覆有第一涂層，基膜反面涂覆有第二涂層，第一涂層按重量份數(shù)包括淀粉2?10份、纖維素10?20份、聚乙烯醇2?8份、甘油4?12份、二氧化硅8?15份、硫酸鋇8?16份、氧化鋁7?20份、二氧化鈦8?18份、碳酸鈣10?25份以及聚氯乙烯樹脂4?15份；第二涂層按重量份數(shù)包括淀粉10?20份、二氧化鈦10?18份、膨潤土粉末4?10份以及納米銀離子粉末1?4份，本發(fā)明制備工藝新穎，制備過程環(huán)保無污染，制得的轉(zhuǎn)印膜抗卷曲性能強，能夠提高轉(zhuǎn)移效率。

技術(shù)研發(fā)人員：戚裕
受保護的技術(shù)使用者：蘇州吉谷新材料有限公司
文檔號碼：201610864201
技術(shù)研發(fā)日：2016.09.29
技術(shù)公布日：2017.03.08