專利名稱：一種散料的堆取裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及散料堆裝設(shè)備領(lǐng)域，具體的說涉及一種防腐蝕的散料的堆取裝置。
背景技術(shù)：
一般用于堆裝工業(yè)鹽類的堆取料機，也可用于堆取原煤、石灰石、鐵粉、砂巖等散料物質(zhì)，由于物料鹽的腐蝕作用，對設(shè)備影響很大，若防腐措施不當(dāng)，可能影響設(shè)備的使用時間，并且鋼板在受到鹽的腐蝕或變薄、變脆，從而使設(shè)備的受力情況變化，使設(shè)備不能正常使用，嚴(yán)重的會造成設(shè)備倒塌，危機人的生命安全。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于已有技術(shù)存在的缺陷，本發(fā)明的目的是提供一種防腐蝕的散料的堆取裝置。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所采用的技術(shù)解決方案一種散料的堆取裝置，其包括鋼材基體、陶瓷保護層，其特征在于其還包括保護膜和光催化劑層，鋼材基體上面設(shè)有陶瓷保護層，陶瓷保護層外面設(shè)有保護膜，保護膜外面設(shè)有光催化層。所述保護層為二氧化鈦和氧化硅的非結(jié)晶材料，其重量比為0. 8 1-4 :1。所述光催化劑層為納米級的二氧化鈦，其直徑為5 —10納米。由于采用上述結(jié)構(gòu)，陶瓷對工業(yè)鹽的腐蝕具有抵擋作用，使工業(yè)鹽不能直接與堆取料裝置的鋼材基體直接接觸，對工業(yè)鹽起到很大的防腐作用，同時在陶瓷的表面設(shè)有光催化劑層，其在陽光的照射下，分解陶瓷表層的細(xì)菌，起到殺菌的作用，同時光催化劑具有很高的親水性，其可以防止陶瓷表面的留有污漬，起到自潔作用。


圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)簡圖。
具體實施例方式圖1附圖標(biāo)記如下鋼材基體1、陶瓷保護層2、保護膜3、光催化劑層4
在圖1所示的一種散料的堆取裝置的示意圖中，其包括鋼材基體1、陶瓷保護層2，其特征在于其還包括保護膜3和光催化劑層4，鋼材基體1上面設(shè)有陶瓷保護層2，陶瓷保護層 2外面設(shè)有保護膜3，保護膜3外面設(shè)有光催化層4。
權(quán)利要求
1.一種散料的堆取裝置，其包括鋼材基體、陶瓷保護層，其特征在于其還包括保護膜和光催化劑層，鋼材基體上面設(shè)有陶瓷保護層，陶瓷保護層外面設(shè)有保護膜，保護膜外面設(shè)有光催化層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種散料的堆取裝置，其特征在于保護層為二氧化鈦和氧化硅的非結(jié)晶材料，其重量比為0. 8 1-4 :1。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種散料的堆取裝置，其特征在于光催化劑層為納米級的二氧化鈦，其直徑為5 —10納米。
全文摘要
本發(fā)明涉及散料堆裝設(shè)備領(lǐng)域，具體的說涉及一種防腐蝕的散料的堆取裝置，包括鋼材基體、陶瓷保護層，其特征在于其還包括保護膜和光催化劑層，由于采用上述結(jié)構(gòu)，陶瓷對工業(yè)鹽的腐蝕具有抵擋作用，使工業(yè)鹽不能直接與堆取料裝置的鋼材基體直接接觸，對工業(yè)鹽起到很大的防腐作用，同時在陶瓷的表面設(shè)有光催化劑層，其在陽光的照射下，分解陶瓷表層的細(xì)菌，起到殺菌的作用，同時光催化劑具有很高的親水性，其可以防止陶瓷表面的留有污漬，起到自潔作用。
文檔編號B32B15/04GK102583064SQ201110000769
公開日2012年7月18日 申請日期2011年1月5日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月5日
發(fā)明者李博, 王慶濤, 高洪斌 申請人:引領(lǐng)散料設(shè)備技術(shù)(大連)有限公司