專利名稱:多功能操作模式的研磨豆?jié){機及其調(diào)速磨漿的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于廚房小家電領(lǐng)域，具體涉及一種豆?jié){機，尤其是一種多功能操作模式的研磨豆?jié){機及其調(diào)速磨漿的方法。
背景技術(shù)：
目前，豆?jié){機已逐漸成為廣大用戶廚房常用電器之一，但目前豆?jié){機多數(shù)采用刀片式的粉碎方式，也就是電機帶動刀片快速轉(zhuǎn)動，刀片對物料進行切割和撞擊，最終達到出漿的效果。參考傳統(tǒng)的工藝及做法，黃豆或其他豆制品在研磨的過程中，出漿率遠遠較切割的好。而且相對的口感也醇。
公開號為“CN10228939A”的中國發(fā)明公開專利公開了一種研磨式豆?jié){機，載豆杯底部設(shè)有內(nèi)、外磨盤，內(nèi)磨盤呈葉輪狀，載豆杯設(shè)有若干個可以讓水進入載豆杯內(nèi)的進水孔，在工作時，呈葉輪狀的內(nèi)磨盤可使水和制漿物料自上向下流動，同時水會從進水孔進入載豆杯向內(nèi)磨盤和外磨盤補充水，達到自動供水和清洗的目的。雖然實現(xiàn)加水濕豆研磨，結(jié)構(gòu)上實用化，可批產(chǎn)工業(yè)化量產(chǎn)應用，但由于粉碎時也會將未粉碎的食料拋出載豆杯，粉碎速度不能加快。并且粉碎后的食量還是出補水口甩出，這樣不能很好的循環(huán)研磨，其粉碎效果是不大理想的。
同時，授權(quán)公告號為“CN201479858U”的實用新型公布了一名稱為“無刀片軸流豆?jié){機”的專利，其為安裝在電機軸上的粉碎體、一固定在機頭上且位于粉碎體外的粉碎器； 粉碎器上有排料孔，粉碎體壁及粉碎器內(nèi)壁上都有粉碎溝，并且邊緣比較鋒利，該結(jié)構(gòu)實現(xiàn)食料的循環(huán)研磨，粉碎效果比先前的設(shè)計有了一定的提高；但是該結(jié)構(gòu)僅緊靠粉碎體上粉碎溝攪動水流產(chǎn)生的吸力，帶動食物進入粉碎器，在粉碎較大食物粉碎時，會遇到吸力不足問題，并且在遇到較硬的食物未及時完全粉碎成小顆粒時，會使食物卡住在粉碎體和粉碎器的之間，這樣將嚴重影響馬達的壽命和整機的性能；還有該粉碎器依靠相鄰粉碎溝之間凸起物邊緣的鋒利，來加大粉碎的效果，這種鋒利邊緣是易被磨損的。
該結(jié)構(gòu)的粉碎溝在粉碎器或粉碎上是多條以相等或不等的間距互不相交地沿外壁呈螺旋分布或直線分布，不利實現(xiàn)由粗到細的粉碎，而且它最小間隙5mm也是過大的，不易達到豆?jié){顆粒的細微粉碎，食物在小于5mm大小后，只能靠有限的吸力帶動下，產(chǎn)生碰撞實現(xiàn)粉碎，達不到依靠碾壓實現(xiàn)研磨粉碎設(shè)計的初衷。
另外，在上述公開文件中，磨盤是固定在載豆杯底部是不可拆設(shè)計的，對磨盤和載豆杯和投料通道的清洗來說它是困難的，由于不易于清洗，也帶來的使用后的清潔、食物衛(wèi)生安全等方面帶來問題，影響飲用者的健康。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的技術(shù)目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種通過分段調(diào)速實現(xiàn)精磨的豆?jié){機及其方法。
實現(xiàn)本發(fā)明技術(shù)目的的技術(shù)方案是一種多功能操作模式的研磨豆?jié){機，包括盛漿容器和扣置于所述盛漿容器的杯蓋，所述杯蓋內(nèi)固定設(shè)置電機，所述電機的電機軸往盛漿容器內(nèi)延伸，所述杯蓋下部連接有包括靜磨頭的靜磨組件，所述電機軸設(shè)置有與所述靜磨頭相配合的動磨頭
一中央處理控制單元，具有依不同物料處理模式而存儲有可控制馬達相應運轉(zhuǎn)模式程序的控制芯片；
一輸入控制單元，具有多個開關(guān)以選擇不同物料處理模式，其控制指令傳送給中央處理控制單元，用以控制指揮該研磨豆?jié){機所有機電部分的工作模式，以執(zhí)行使用者所選的操作；
一馬達控制單元，設(shè)有開關(guān)元件以控制馬達運轉(zhuǎn)；同時磨漿調(diào)速單元也可以反饋信號控制馬達的轉(zhuǎn)速以及啟動和關(guān)閉；
一檢測單元，設(shè)有防干燒或/和熱敏電阻對物料進行檢測以及水位判斷，同時輸送結(jié)果至中央處理控制單元；
一磨漿調(diào)速單元，通過某一時間段內(nèi)對電機賦予某一特定功率的值以驅(qū)動所述動、靜磨組件運轉(zhuǎn)來實現(xiàn)依次或反復進行磨漿。
一加熱單元，根據(jù)上述輸入控制單元或磨漿調(diào)速單元提供的參考值對所述研磨豆?jié){機的液體或/和物料提供加熱。
作為對上述技術(shù)方案的一種變換形式，所述磨漿調(diào)速單元還包括電流檢測單元， 所述電流檢測單元將所述馬達負載電流檢測轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號或AD值反饋至中央處理控制單元。
所述豆?jié){機包括盛漿容器和扣置于所述盛漿容器的杯蓋，所述杯蓋內(nèi)固定設(shè)置電機，所述電機的電機軸往盛漿容器內(nèi)延伸，所述杯蓋下部連接有包括靜磨頭的靜磨組件，所述電機軸設(shè)置有與所述靜磨頭相配合的動磨頭，所述研磨豆?jié){機調(diào)速磨漿的方法包括以下階段
a).加料階段，將液體和物料同時加進制漿容器或/和杯體；
b).液位檢測階段，所述處理器單元對容器內(nèi)的液位進行檢測，處理器作出水位判斷， 如果水位達到最低水位線，則進入下一階段，否則報警提示；
c).預熱階段H1，所述處理器單元輸出程序到執(zhí)行電路，由加熱元件對液體及物料進行預熱至溫度Tl或以加熱功率Pl加熱時間tl后進入下一階段；
d).調(diào)速磨漿階段，通過某一時間段內(nèi)對電機賦予某一轉(zhuǎn)速以驅(qū)動所述動、靜磨組件運轉(zhuǎn)來實現(xiàn)依次或反復進行磨漿；
e).加熱階段H2，所述中央處理單元輸出程序到執(zhí)行電路，由加熱單元對液體或/和物料進行加熱，并賦予加熱功率值為P2，加熱周期為漿液泡沫觸碰到檢測單元后結(jié)束。
f).熬煮階段。所述加熱單元加熱功率P3，加熱到漿液泡沫碰到防溢電極則停止， 停止時間t9，依次循環(huán)。
作為對上述技術(shù)方案的一種變換形式，所述e).加熱階段H2后，進入熬煮階段H3， 所述加熱單元加熱功率P3，加熱到漿液泡沫碰到防溢電極則停止，停止時間t9，然后進入低功率P3加熱、碰到防溢電極、停止時間t9的循環(huán)階段，循環(huán)次數(shù)nl，直到熬煮總時間tlO
5后結(jié)束。
作為對上述技術(shù)方案的一種變換形式，所述nl為至少2次。
作為對上述技術(shù)方案的一種變換形式，所述調(diào)速磨漿階段包括以下步驟
1).低速運轉(zhuǎn)Si，轉(zhuǎn)動時間為t2，停止時間為t3，進入下一步驟；
2).低速運轉(zhuǎn)S2，轉(zhuǎn)動時間為t4，停止時間為t3，進入下一步驟；
3).中速運轉(zhuǎn)S3，轉(zhuǎn)動時間為t5，停止時間為t3，進入下一步驟；
4).中速運轉(zhuǎn)S4，轉(zhuǎn)動時間為t6，停止時間為t3，進入下一步驟；
5).高速運轉(zhuǎn)S5，轉(zhuǎn)動時間為t7，停止時間為t3，進入下一步驟；
6).全速運轉(zhuǎn)S6，轉(zhuǎn)動時間為t8，停止時間為t3，進入e)階段。
作為對上述技術(shù)方案的一種變換形式，所述Sl的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的10% ^ Sl < 20%,所述S2的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的20% ^ S2 < 30%,所述S3 的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的40% ^ S3 < 50%,所述S4的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的50%彡S4 < 70%,所述S5的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的70%彡S5 < 80%,所述 S6的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的100%。
作為對上述技術(shù)方案的一種變換形式，所述調(diào)速磨漿階段的低速運轉(zhuǎn)Si、低速運轉(zhuǎn)S2、中速運轉(zhuǎn)S3、中速運轉(zhuǎn)S4、高速運轉(zhuǎn)S5、全速運轉(zhuǎn)S6為交叉進行的。
作為對上述技術(shù)方案的一種變換形式，所述調(diào)速磨漿階段的低速運轉(zhuǎn)Si、低速運轉(zhuǎn)S2、中速運轉(zhuǎn)S3、中速運轉(zhuǎn)S4、高速運轉(zhuǎn)S5、全速運轉(zhuǎn)S6為循環(huán)進行的。
作為對上述技術(shù)方案的一種變換形式，所述C).預熱階段Hl和所述d).調(diào)速磨漿階段交叉進行或循環(huán)進行或順序進行。
具體地，所述調(diào)速磨漿階段包括低速Sl時間t2/停止t3 ^ 低速S2時
間t4/停止t3 -ρ, 中速S3時間t5/停止t3 —in 中速S4時間t6/停止t3
_ρ 高速S5時間t7/停止t3 _p. 全速S6時間t8/停止t3，所述處理器輸出程序到執(zhí)行電路，執(zhí)行電路與調(diào)速電路電連接，調(diào)速電路驅(qū)動電機，根據(jù)處理器發(fā)出的程序指令，電機從低轉(zhuǎn)速逐步調(diào)速到全速，達到調(diào)速磨漿的效果。
上述制漿流程中涉及的調(diào)整磨漿是以制作干料的磨漿方法，需要將干料浸泡并加熱到溫度Tl，或計時到程序預定的加熱時間tl，使干料充分浸泡和濕潤后研磨，這樣不容易碰傷或磨損磨頭上的磨齒。
作為上述技術(shù)方案的另一種變換方式，當加入的是濕料時，則可以將所述加熱階段Hl移到調(diào)速磨漿之后，即磨漿完成后再進入加熱階段H1，以全功率Pl將磨好的漿液加熱到碰防溢電極，跳過加熱階段H2進入下一熬煮階段H3，直到制漿完成并報警。
作為對上述技術(shù)方案的進一步優(yōu)化，在所述調(diào)速磨漿階段內(nèi)插入一電流檢測和判斷循環(huán)階段，在電路方框圖內(nèi)設(shè)置一電機電流檢測單元，當電機以初始設(shè)定的低速Si磨漿時，由于初時物料較粗大，電機負載很大，負載電流il也大，電流檢測單元檢測到電流反饋給處理器，電機以初始設(shè)定的低速Sl持續(xù)地研磨，在初始研磨的由粗大逐步到細小，則負載電流il逐漸變小，當檢測到電機負載電流il < Ii (處理器內(nèi)存儲記憶設(shè)定的一電流值) 時或低速磨漿時間t2時間到，則進入下一中速S3磨漿階段，同樣的，當檢測到電機的負載電流i2 < 12時或中速磨漿時間t5時間到，則進入下一全速S8磨漿階段，全速磨漿階段電機負載電流i3 < 13時或全速磨漿時間偽時間到即停止，轉(zhuǎn)入到其他熬煮程序，直到制漿完成并報警。
作為對上述技術(shù)方案的另一種變換方式，當加入的是濕料時，則可以將所述加熱階段Hl移到調(diào)速磨漿之后，即磨漿完成后即進入加熱階段H1，以全功率Pl將磨好的漿液加熱到碰防溢電極，跳過加熱階段H2進入下一熬煮階段H3，直到制漿完成并報警。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明一種多功能操作模式的豆?jié){機及其調(diào)速磨漿的方法的有益效果主要表現(xiàn)為
1、不同轉(zhuǎn)速時可以有效保護研磨單元的磨齒；
2、可以將物料內(nèi)的有效成分通過低速研磨，擠壓物料，研磨出的漿料更細膩。


圖1所示為實施例一的流程方框示意圖。
圖2所示為實施例四的流程方框示意圖。
圖3所示為實施例五的流程方框示意圖。
圖4所示為實施例六的流程方框示意圖。
圖5所示為磨漿調(diào)速單元設(shè)置于豆?jié){機上的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖6所示為實施例一的電路結(jié)構(gòu)圖。
具體實施方式
下面，結(jié)合附圖對本發(fā)明的詳細實施方式作進一步說明
參見附圖1、附圖5、附圖6，一種多功能操作模式的研磨豆?jié){機，包括有 一中央處理控制單元，具有依不同物料處理模式而存儲有可控制馬達相應運轉(zhuǎn)模式程序的控制芯片；
一輸入控制單元，具有多個開關(guān)以選擇不同物料處理模式，其控制指令傳送給中央處理控制單元，用以控制指揮該研磨豆?jié){機所有機電部分的工作模式，以執(zhí)行使用者所選的操作；
一馬達控制單元，設(shè)有開關(guān)元件以控制馬達運轉(zhuǎn)；同時磨漿調(diào)速單元也可以反饋信號控制馬達的轉(zhuǎn)速以及啟動和關(guān)閉；
一檢測單元，設(shè)有防干燒或/和熱敏電阻對物料進行檢測以及水位判斷，同時輸送結(jié)果至中央處理控制單元；
一磨漿調(diào)速單元，通過某一時間段內(nèi)對電機賦予某一特定功率的值，依次或反復進行磨漿。
一加熱單元，根據(jù)上述輸入控制單元或磨漿調(diào)速單元提供的參考值對所述研磨豆?jié){機的液體或/和物料提供加熱。
磨漿調(diào)速單元還包括電流檢測單元，電流檢測單元將馬達負載電流檢測轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號或AD值反饋至中央處理控制單元。
實現(xiàn)上述調(diào)速磨漿的方法，包括以下階段
a).加料階段，將液體和物料同時加進制漿容器或/和杯體；
b).液位檢測階段，所述處理器單元對容器內(nèi)的液位進行檢測，處理器作出水位判斷， 如果水位達到最低水位線，則進入下一階段，否則報警提示；c).預熱階段H1，所述處理器單元輸出程序到執(zhí)行電路，由加熱元件對液體及物料進行預熱至溫度Tl或以加熱功率Pl加熱時間tl后進入下一階段；
d).調(diào)速磨漿階段，通過某一時間段內(nèi)對電機賦予某一特定功率的值，依次或反復進行磨漿；
e).加熱階段H2，所述中央處理單元輸出程序到執(zhí)行電路，由加熱單元對液體或/和物料進行加熱，并賦予加熱功率值為P2，加熱周期為漿液泡沫觸碰到檢測單元后結(jié)束。 f).熬煮階段。所述加熱單元加熱功率P3，加熱到漿液泡沫碰到防溢電極則停止， 停止時間t9，依次循環(huán)。直到熬煮總時間tlO后結(jié)束。
具體地，循環(huán)次數(shù)nl為2次。[0039]調(diào)速磨漿階段包括以下步驟1).低速運轉(zhuǎn)Si，轉(zhuǎn)動時間為t2，停止時間為t3，進入下--步驟；2).低速運轉(zhuǎn)S2，轉(zhuǎn)動時間為t4，停止時間為t3，進入下--步驟；3).中速運轉(zhuǎn)S3，轉(zhuǎn)動時間為t5，停止時間為t3，進入下--步驟;4).中速運轉(zhuǎn)S4，轉(zhuǎn)動時間為t6，停止時間為t3，進入下--步驟;5).高速運轉(zhuǎn)S5，轉(zhuǎn)動時間為t7，停止時間為t3，進入下--步驟；6).全速運轉(zhuǎn)S6，轉(zhuǎn)動時間為t8，停止時間為t3，進入e)階段。[0040]Sl的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的20%，S2的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的
20%, S3的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的40%，S4的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的50%， S5的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的70%，S6的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的100%。
調(diào)速磨漿階段的低速運轉(zhuǎn)Si、低速運轉(zhuǎn)S2、中速運轉(zhuǎn)S3、中速運轉(zhuǎn)S4、高速運轉(zhuǎn) S5、全速運轉(zhuǎn)S6為交叉進行的。
上述程序在具體地制作干料磨漿時，所述調(diào)速磨漿階段包括低速Sl時間t2/停止 t3 低速S2時間t4/停止t中速S3時間t5/停止t3中速S4
時間t6/停止t3 mrnrn^ 高速S5時間t7/停止t3 -p.- 全速S6時間t8/停止
t3，所述處理器輸出程序到執(zhí)行電路，執(zhí)行電路與調(diào)速電路電連接，調(diào)速電路驅(qū)動電機，根據(jù)處理器發(fā)出的程序指令，電機從低轉(zhuǎn)速逐步調(diào)速到全速，達到調(diào)速磨漿的效果。
實施例二
所述調(diào)速磨漿階段的低速運轉(zhuǎn)Si、低速運轉(zhuǎn)S2、中速運轉(zhuǎn)S3、中速運轉(zhuǎn)S4、高速運轉(zhuǎn) S5、全速運轉(zhuǎn)S6為循環(huán)進行的。其余步驟同實施例一。
實施例三
所述c).預熱階段Hl和所述d).調(diào)速磨漿階段為順序進行的。其他步驟同實施例一。
實施例四
參見附圖2，當加入的是濕料時，則可以將所述加熱階段Hl移到調(diào)速磨漿之后，即磨漿完成后再進入加熱階段H1，以全功率Pl將磨好的漿液加熱到碰防溢電極，跳過加熱階段H2 進入下一熬煮階段H3，直到制漿完成并報警。其他步驟同實施例一。
實施例五
參見附圖3，在所述調(diào)速磨漿階段內(nèi)插入一電流檢測和判斷循環(huán)階段，在電路方框圖內(nèi)設(shè)置一電機電流檢測單元，當電機以初始設(shè)定的低速Sl磨漿時，由于初時物料較粗大，電機負載很大，負載電流il也大，電流檢測單元檢測到電流反饋給處理器，電機以初始設(shè)定的低速Sl持續(xù)地研磨，在初始研磨的由粗大逐步到細小，則負載電流il逐漸變小，當檢測到電機負載電流il < Il (處理器內(nèi)存儲記憶設(shè)定的一電流值)時或低速磨漿時間t2時間到，則進入下一中速S3磨漿階段，同樣的，當檢測到電機的負載電流i2 < 12時或中速磨漿時間t5時間到，則進入下一全速S8磨漿階段，全速磨漿階段電機負載電流i3 < 13時或全速磨漿時間偽時間到即停止，轉(zhuǎn)入到其他熬煮程序，直到制漿完成并報警。其他步驟同實施例一。
實施例六
參見附圖4，加入物料是濕料時，先磨漿再加熱和熬煮，磨漿時檢測電機電流，當電流小于設(shè)定值時，轉(zhuǎn)速跳轉(zhuǎn)到下一步，逐步加速到全速。其他步驟同實施例一。
實施例七
所述調(diào)速磨漿階段的低速運轉(zhuǎn)Si、低速運轉(zhuǎn)S2、中速運轉(zhuǎn)S3、中速運轉(zhuǎn)S4、高速運轉(zhuǎn) S5、全速運轉(zhuǎn)S6為線性無級變速的調(diào)速方式。其他步驟同實施例一。
綜上所述，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員閱讀本發(fā)明文件后，根據(jù)本發(fā)明實施例的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思無需創(chuàng)造性腦力勞動而作出其他各種相應的變換方案或本發(fā)明各實施例之間方案的替換，均屬于本發(fā)明所保護的范圍。
權(quán)利要求
1.一種多功能操作模式的研磨豆?jié){機，包括盛漿容器(3)和扣置于所述盛漿容器(3) 的杯蓋(1)，所述杯蓋(1)內(nèi)固定設(shè)置電機，所述電機的電機軸(2)往盛漿容器(3)內(nèi)延伸， 所述杯蓋(1)下部連接有包括靜磨頭(4)的靜磨組件，所述電機軸(2)設(shè)置有與所述靜磨頭 (4)相配合的動磨頭(5)，其特征包括有一中央處理控制單元，具有依不同物料處理模式而存儲有可控制馬達相應運轉(zhuǎn)模式程序的控制芯片；一輸入控制單元，具有多個開關(guān)以選擇不同物料處理模式，其控制指令傳送給中央處理控制單元，用以控制指揮該研磨豆?jié){機所有機電部分的工作模式，以執(zhí)行使用者所選的操作；一馬達控制單元，設(shè)有開關(guān)元件以控制馬達運轉(zhuǎn)；一檢測單元，設(shè)有防干燒或/和熱敏電阻對物料進行檢測以及水位判斷，同時輸送結(jié)果至中央處理控制單元；一磨漿調(diào)速單元，通過某一時間段內(nèi)對電機賦予某一特定功率的值以驅(qū)動所述動、靜磨組件運轉(zhuǎn)來實現(xiàn)依次或反復進行磨漿；一加熱單元，根據(jù)上述輸入控制單元或磨漿調(diào)速單元提供的參考值對所述研磨豆?jié){機的液體或/和物料提供加熱。
2.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的多功能操作模式的研磨豆?jié){機，其特征在于，所述磨漿調(diào)速單元還包括電流檢測單元，所述電流檢測單元將所述馬達負載電流檢測轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號或 AD值反饋至中央處理控制單元。
3.一種研磨豆?jié){機調(diào)速磨漿的方法，所述豆?jié){機包括盛漿容器(3)和扣置于所述盛漿容器(3 )的杯蓋(1)，所述杯蓋(1)內(nèi)固定設(shè)置電機，所述電機的電機軸(2 )往盛漿容器(3 ) 內(nèi)延伸，所述杯蓋(1)下部連接有包括靜磨頭(4)的靜磨組件，所述電機軸(2)設(shè)置有與所述靜磨頭(4)相配合的動磨頭(5)，其特征在于所述調(diào)速磨漿的方法包括以下階段a).加料階段，將液體和物料同時加進制漿容器或/和杯體；b).液位檢測階段，所述處理器單元對容器內(nèi)的液位進行檢測，處理器作出水位判斷， 如果水位達到最低水位線，則進入下一階段，否則報警提示；c).預熱階段H1，所述處理器單元輸出程序到執(zhí)行電路，由加熱元件對液體及物料進行預熱至溫度Tl或以加熱功率Pl加熱時間tl后進入下一階段；d).調(diào)速磨漿階段，通過某一時間段內(nèi)對電機賦予某一轉(zhuǎn)速以驅(qū)動所述動、靜磨組件運轉(zhuǎn)來實現(xiàn)依次或反復進行磨漿；e).加熱階段H2，所述中央處理單元輸出程序到執(zhí)行電路，由加熱單元對液體或/和物料進行加熱，并賦予加熱功率值為P2，加熱周期為漿液泡沫觸碰到檢測單元后結(jié)束，f).熬煮階段。
4.根據(jù)權(quán)利要求
3所述的研磨豆?jié){機調(diào)速磨漿的方法，其特征在于，所述e).加熱階段H2后，進入熬煮階段H3，所述加熱單元加熱功率P3，加熱到漿液泡沫碰到防溢電極則停止，停止時間t9，然后進入低功率P3加熱、碰到防溢電極、停止時間t9的循環(huán)階段，循環(huán)次數(shù)nl，直到熬煮總時間tlO后結(jié)束。
5.根據(jù)權(quán)利要求
4所述的研磨豆?jié){機調(diào)速磨漿方法，其特征在于，所述nl為至少2次。
6.根據(jù)權(quán)利要求
4所述的研磨豆?jié){機調(diào)速磨漿方法，其特征在于，所述調(diào)速磨漿階段包括以下步驟1).低速運轉(zhuǎn)Si，轉(zhuǎn)動時間為t2，停止時間為t3，進入下一步驟；2).低速運轉(zhuǎn)S2，轉(zhuǎn)動時間為t4，停止時間為t3，進入下一步驟；3).中速運轉(zhuǎn)S3，轉(zhuǎn)動時間為t5，停止時間為t3，進入下一步驟；4).中速運轉(zhuǎn)S4，轉(zhuǎn)動時間為t6，停止時間為t3，進入下一步驟；5).高速運轉(zhuǎn)S5，轉(zhuǎn)動時間為t7，停止時間為t3，進入下一步驟；6).全速運轉(zhuǎn)S6，轉(zhuǎn)動時間為t8，停止時間為t3，進入e)階段。
7.根據(jù)權(quán)利要求
6所述的研磨豆?jié){機調(diào)速磨漿方法，其特征在于，所述Sl的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的10% ^ Sl < 20%,所述S2的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的 20%彡S2 < 30%,所述S3的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的40%彡S3 < 50%,所述S4的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的50% ^S4< 70%,所述S5的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的 70%彡S5 < 80%，所述S6的轉(zhuǎn)速為以電機最高轉(zhuǎn)速為基準的100%。
8.根據(jù)權(quán)利要求
6或7所述的研磨豆?jié){機調(diào)速磨漿方法，其特征在于，所述調(diào)速磨漿階段的低速運轉(zhuǎn)Si、低速運轉(zhuǎn)S2、中速運轉(zhuǎn)S3、中速運轉(zhuǎn)S4、高速運轉(zhuǎn)S5、全速運轉(zhuǎn)S6為交叉進行的。
9.根據(jù)權(quán)利要求
6或7所述的研磨豆?jié){機調(diào)速磨漿方法，其特征在于，所述調(diào)速磨漿階段的低速運轉(zhuǎn)Si、低速運轉(zhuǎn)S2、中速運轉(zhuǎn)S3、中速運轉(zhuǎn)S4、高速運轉(zhuǎn)S5、全速運轉(zhuǎn)S6為循環(huán)進行的。
10.根據(jù)權(quán)利要求
3所述的研磨豆?jié){機調(diào)速磨漿方法，其特征在于，所述C).預熱階段 Hl和所述d).調(diào)速磨漿階段交叉進行或循環(huán)進行或順序進行。
專利摘要
本發(fā)明屬于廚房小家電領(lǐng)域，具體涉及一種豆?jié){機,尤其是一種多功能操作模式的研磨豆?jié){機及其調(diào)速磨漿的方法。包括有一中央處理控制單元，一輸入控制單元，一馬達控制單元，一檢測單元，一磨漿調(diào)速單元，和一加熱單元。其調(diào)速磨漿的方法包括以下階段a)加料階段，b)液位檢測階段，c)預熱階段H1，d)調(diào)速磨漿階段，e)加熱階段H2，的f)熬煮階段。本發(fā)明的的研磨豆?jié){機及其調(diào)速磨漿的方法可以依不同轉(zhuǎn)速時可以有效保護研磨單元的磨齒；同時將物料內(nèi)的有效成分通過低速研磨，擠壓物料，研磨出的漿料更細膩。
文檔編號A23C11/10GKCN102273934SQ201110140947
公開日2011年12月14日 申請日期2011年5月27日
發(fā)明者張錦洲, 湛海耀, 蔡才德, 陳世雄 申請人:浙江紹興蘇泊爾生活電器有限公司導出引文BiBTeX, EndNote, RefMan