一種晶圓清洗機(jī)的烘干機(jī)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種晶圓清洗機(jī)的烘干機(jī)構(gòu)，包括至少一個(gè)呈圓柱狀的氮?dú)鈬娮?，具有一個(gè)平面的盛放臺(tái)和掩板；所述盛放臺(tái)置于一個(gè)平臺(tái)上；所述掩板的大小不小于盛放臺(tái)的平面，并且所述掩板平面與盛放臺(tái)平面形狀相似，所述掩板設(shè)置于盛放臺(tái)正上方一定距離處，所述掩板上均勻設(shè)置有對(duì)應(yīng)氮?dú)鈬娮靷€(gè)數(shù)的通孔，所述通孔的大小與氮?dú)鈬娮煜噙m應(yīng)；所述每個(gè)氮?dú)鈬娮齑┩敢粋€(gè)通孔，并且所述氮?dú)鈬娮靽姵龅獨(dú)獾囊欢苏龑?duì)盛放臺(tái)。本實(shí)用新型采用掩板遮擋外溢的氮?dú)?，確保壓縮的氮?dú)饽軌蛉孔饔迷诰A表面，將其表面的水分帶走，一方面實(shí)現(xiàn)解決水痕缺陷的效果，另一方面同時(shí)實(shí)現(xiàn)了能源的節(jié)約。
【專利說明】一種晶圓清洗機(jī)的烘干機(jī)構(gòu)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本實(shí)用新型涉及一種晶圓清洗機(jī)的烘干機(jī)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]產(chǎn)品在預(yù)清洗過程中由于機(jī)臺(tái)干燥能力有限，不能將晶圓表面的水分全部清除干凈，有水的殘留。在后續(xù)的制程中，殘留水產(chǎn)生水痕缺陷；水痕缺陷會(huì)影響產(chǎn)品的良率。
[0003]現(xiàn)有的預(yù)清洗機(jī)臺(tái)，在表面水去處的工程中，通過甩干與使用氮?dú)獯祪蓚€(gè)措置來進(jìn)行表面水分的去處，但是氮?dú)鈬娮觳荒苡行У膶⒈砻娴乃宄蓛簟?br> [0004]如圖1所示，晶圓在甩干后，使用氮?dú)獯蹈傻倪^程中，大部分氮?dú)庀蚱渌较蚨皇蔷A上噴射，氮?dú)鈬娮炷芨采w的范圍有限，導(dǎo)致不能及時(shí)清除晶圓表面的水分。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是，針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)不能完全去除晶圓表面的水分，是晶圓表面出現(xiàn)水痕缺陷的不足，提供一種提高清除水分能力、達(dá)到去除水痕缺陷的晶圓清洗機(jī)的烘干機(jī)構(gòu)。
[0006]本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問題的技術(shù)方案如下:一種晶圓清洗機(jī)的烘干機(jī)構(gòu)，包括至少一個(gè)呈圓柱狀的氮?dú)鈬娮?，具有一個(gè)平面的盛放臺(tái)和掩板；
[0007]所述盛放臺(tái)置于一個(gè)平臺(tái)上；
[0008]所述掩板的大小不小于盛放臺(tái)的平面，并且所述掩板平面與盛放臺(tái)平面形狀相似，所述掩板設(shè)置于盛放臺(tái)正上方一定距離處，所述掩板上均勻設(shè)置有對(duì)應(yīng)氮?dú)鈬娮靷€(gè)數(shù)的通孔，所述通孔的大小與氮?dú)鈬娮煜噙m應(yīng)；
[0009]所述每個(gè)氮?dú)鈬娮齑┩敢粋€(gè)通孔，并且所述氮?dú)鈬娮靽姵龅獨(dú)獾囊欢苏龑?duì)盛放臺(tái)。
[0010]本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型采用掩板遮擋外溢的氮?dú)猓_保壓縮的氮?dú)饽軌蛉孔饔迷诰A表面，將其表面的水分帶走，一方面實(shí)現(xiàn)解決水痕缺陷的效果，另一方面同時(shí)實(shí)現(xiàn)了能源的節(jié)約。
[0011]在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，本實(shí)用新型還可以做如下改進(jìn)。
[0012]進(jìn)一步，所述至少一個(gè)氮?dú)鈬娮炫c掩板為固定連接。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中晶圓清洗機(jī)的烘干機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖；
[0014]圖2為本實(shí)用新型具體實(shí)施例1所述的一種晶圓清洗機(jī)的烘干機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)圖；
[0015]圖3為本實(shí)用新型具體實(shí)施例2所述的烘干機(jī)構(gòu)的掩板的俯視圖。
[0016]附圖中，各標(biāo)號(hào)所代表的部件列表如下:
[0017]1、氮?dú)鈬娮欤?、盛放臺(tái)，3、掩板，4、通孔。【具體實(shí)施方式】
[0018]以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的原理和特征進(jìn)行描述，所舉實(shí)例只用于解釋本實(shí)用新型，并非用于限定本實(shí)用新型的范圍。
[0019]如圖2所示，實(shí)施例1所述的一種晶圓清洗機(jī)的烘干機(jī)構(gòu)，包括一個(gè)呈圓柱狀的氮?dú)鈬娮霫，具有一個(gè)平面的盛放臺(tái)2和掩板3 ；
[0020]所述盛放臺(tái)2置于一個(gè)平臺(tái)上；
[0021]所述掩板3的大小不小于盛放臺(tái)的平面，并且所述掩板3平面與盛放臺(tái)平面形狀相似，所述掩板3設(shè)置于盛放臺(tái)2正上方一定距離處，所述掩板3上均勻設(shè)置有對(duì)應(yīng)氮?dú)鈬娮靷€(gè)數(shù)的通孔4，所述通孔4的大小與氮?dú)鈬娮霫相適應(yīng)；
[0022]所述每個(gè)氮?dú)鈬娮霫穿透一個(gè)通孔4，并且所述氮?dú)鈬娮霫噴出氮?dú)獾囊欢苏龑?duì)盛放臺(tái)2。
[0023]所述至少一個(gè)氮?dú)鈬娮霫與掩板3為固定連接。
[0024]如圖3所示，實(shí)施例2所述的一種晶圓清洗機(jī)的烘干機(jī)構(gòu)，包括兩個(gè)呈圓柱狀的氮?dú)鈬娮霫，具有一個(gè)平面的盛放臺(tái)2和掩板3 ；
[0025]所述盛放臺(tái)2置于一個(gè)平臺(tái)上；
[0026]所述掩板3的大小不小于盛放臺(tái)的平面，并且所述掩板3平面與盛放臺(tái)平面形狀相似，所述掩板3設(shè)置于盛放臺(tái)2正上方一定距離處，所述掩板3上均勻設(shè)置有對(duì)應(yīng)氮?dú)鈬娮靷€(gè)數(shù)的通孔4，所述通孔4的大小與氮?dú)鈬娮霫相適應(yīng)；
[0027]所述每個(gè)氮?dú)鈬娮霫穿透一個(gè)通孔4，并且所述氮?dú)鈬娮霫噴出氮?dú)獾囊欢苏龑?duì)盛放臺(tái)2。
[0028]所述至少一個(gè)氮?dú)鈬娮霫與掩板3為固定連接。
[0029]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種晶圓清洗機(jī)的烘干機(jī)構(gòu)，其特征在于，包括至少一個(gè)呈圓柱狀的氮?dú)鈬娮?1)，具有一個(gè)平面的盛放臺(tái)(2)和掩板(3)； 所述盛放臺(tái)(2)置于一個(gè)平臺(tái)上； 所述掩板(3)的大小不小于盛放臺(tái)的平面，并且所述掩板(3)平面與盛放臺(tái)平面形狀相似，所述掩板(3)設(shè)置于盛放臺(tái)(2)正上方一定距離處，所述掩板(3)上均勻設(shè)置有對(duì)應(yīng)氮?dú)鈬娮?I)個(gè)數(shù)的通孔(4)，所述通孔(4)的大小與氮?dú)鈬娮?I)相適應(yīng)； 所述每個(gè)氮?dú)鈬娮?I)穿透一個(gè)通孔，并且所述氮?dú)鈬娮?I)噴出氮?dú)獾囊欢苏龑?duì)盛放臺(tái)(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓清洗機(jī)的烘干機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述至少一個(gè)氮?dú)鈬娮?I)與掩板(3)為固定連接。
【文檔編號(hào)】B08B3/00GK203731828SQ201420147213
【公開日】2014年7月23日 申請(qǐng)日期:2014年3月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月28日
【發(fā)明者】陳俊, 胡勝 申請(qǐng)人:武漢新芯集成電路制造有限公司