專利名稱：涂膠顯影機(jī)清潔裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種清潔裝置，尤其涉及一種去除在涂膠顯影機(jī)上殘留 雜質(zhì)的裝置。
背景技術(shù)：
晶圓在進(jìn)行光刻形成電路之前需要涂膠并顯影，涂膠使用的設(shè)備為涂膠顯 影機(jī)，涂膠最常用的方法就是旋轉(zhuǎn)涂膠，其方法為用真空吸盤將晶圓固定，然 后將實(shí)現(xiàn)確定好的膠量滴在晶圓表面上，旋轉(zhuǎn)吸盤，使得滴在吸盤上的膠鋪開 在整個晶圓上。旋轉(zhuǎn)涂膠后，晶圓進(jìn)入下一工藝即烘烤，去除膠中的大部分溶 劑并使膠的曝光特性固定。
由于涂膠所用的膠具有揮發(fā)性，因此在涂膠過程中，會有部分涂膠的溶劑 由于環(huán)境具有一定溫度而揮發(fā)出來，再加上由于在旋轉(zhuǎn)的過程中部分涂膠的粒 子被飛賊出去，在緊接的烘烤過程使得揮發(fā)和飛賊出來的涂膠固化形成顆粒狀 雜質(zhì)，引起后續(xù)的刻蝕和沉積工藝中的缺陷，這種顆粒狀雜質(zhì)造成的缺陷通常 稱為球狀缺陷。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種涂膠顯影機(jī)清潔裝置，以去除 固化的顆粒狀雜質(zhì)，解決球狀缺陷。
為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供一種涂膠顯影機(jī)清潔裝置，包括頂 層基架，滑板以及底部基板，所述頂層基架固定在顯影機(jī)的機(jī)臺上，所述頂層 基架上設(shè)有若千通孔，兩側(cè)分別設(shè)有折彎部；
所述底部基板的表面上分布有若干風(fēng)扇，在所述風(fēng)扇位置處設(shè)有相應(yīng)的開
3口，所述底部M與所述折彎部連接；
所述滑板位于所述底部基板和頂層基架形成的收容空間內(nèi)，所述滑板上設(shè) 有開孔。
進(jìn)一步的，所述通孔與所述開孔位置相對應(yīng)。
進(jìn)一步的，固定在所述底部基板上的風(fēng)扇與所述通孔的位置相對應(yīng)。 通過在涂膠顯影機(jī)上增加了涂膠顯影機(jī)雜質(zhì)清潔裝置，啟動涂膠顯影機(jī)雜 質(zhì)清潔裝置上的風(fēng)扇旋轉(zhuǎn)，將涂膠雜質(zhì)抽出至外部環(huán)境，避免了污染，從而使 得后續(xù)的刻蝕和沉積工藝中造成的球狀缺陷得以克服，提高了產(chǎn)品良率，節(jié)省 成本。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本實(shí)用新型的涂膠顯影機(jī)清潔裝置作進(jìn)一步 詳細(xì)的描述。


圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例中的涂膠顯影機(jī)清潔裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖進(jìn)一步說明具體的功能和實(shí)施方式
請參閱圖l，圖l為本實(shí)用新型實(shí)施例中的涂膠顯影機(jī)清潔裝置結(jié)構(gòu)示意圖。 該涂膠顯影機(jī)清潔裝置包括頂層基架1，滑板2以及底部基板3三個部分，所述 頂層基架l固定在涂膠顯影機(jī)的機(jī)臺上(未標(biāo)示)，所述頂層基架上設(shè)有若干通 孔10,從而可以連通機(jī)臺內(nèi)涂膠的空間，頂層基架1的兩側(cè)分別設(shè)有折彎部11, 底部基板3通過該折彎部11連接，使得底部基板3固定在頂層基架1上。
所述滑壽反2位于所述底部基^反3和頂層基架1形成的收容空間5內(nèi)，所述 滑板2上設(shè)有開孔20，設(shè)置在所述頂層基架1上的通孔10與所述開孔20位置 相對應(yīng)，該滑板2可以在
圖1中所示的收容空間5內(nèi)左右移動，因此可以根據(jù) 涂膠雜質(zhì)的多少而調(diào)整通孔10以及開孔20形成的通if各口徑大小。所述底部基板3的表面上分布有若干風(fēng)扇4,在所述風(fēng)扇4位置處設(shè)有相應(yīng) 的開口 30，所述風(fēng)扇4與所述頂層基架1上的通孔10的位置相對應(yīng)。本實(shí)施例 中，所述風(fēng)扇4選擇的直流電壓為24伏，具體數(shù)量可以根據(jù)所述通孔10以及 開孔20的數(shù)量相一致。
具體實(shí)施過程如下當(dāng)涂膠顯影機(jī)上的晶圓(未標(biāo)示)開始旋轉(zhuǎn)進(jìn)行，由 于旋轉(zhuǎn)以及環(huán)境具有一定溫度而導(dǎo)致涂膠所用的膠揮發(fā)，4吏得飛濺和揮發(fā)出來 的涂膠雜質(zhì)彌漫在涂膠顯影機(jī)的空間內(nèi)部(未標(biāo)示)，啟動本實(shí)施例中的涂膠顯 影機(jī)雜質(zhì)清潔裝置，風(fēng)扇40旋轉(zhuǎn)，由于風(fēng)扇40與開口 30、通孔10以及開孔 20——對應(yīng)，因此可以將涂膠雜質(zhì)依次通過通孔10、開孔20以及開口 30抽出 至外部環(huán)境，由此帶來了如下的好處
一能夠在涂膠的過程中及時將涂膠雜質(zhì)排除至外部環(huán)境，避免了污染， 從而使得后續(xù)的刻蝕和沉積工藝中造成的球狀缺陷得以克服，提高了產(chǎn)品良率， 節(jié)省成本。
二由于能夠及時將涂膠雜質(zhì)排除，因此之前為了避免涂膠雜質(zhì)飛濺而限 制涂膠的旋轉(zhuǎn)速度得以解除，安裝該涂膠顯影機(jī)雜質(zhì)清潔裝置后，可以提高旋 轉(zhuǎn)速度的范圍，從之前最高速度為4000RPM提高到了 5000RPM,從而即可提高涂 膠速度和效率，增加產(chǎn)率，也可以適用于不同晶圓類型的涂膠速度要求，可以 廣泛應(yīng)用在不同的產(chǎn)品上。
三由于在涂膠的過程中就能夠及時將涂膠雜質(zhì)排除，涂膠顯影機(jī)的內(nèi)部 得以保持清潔，因此涂膠顯影機(jī)的保養(yǎng)時間可以大大延長，從原來的每周清潔 一次可以改為每個月清潔一次，降低了人力成本，也延長了涂膠顯影機(jī)的使用 壽命。
以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理、主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。 本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本實(shí)用新型不受上迷實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例 和說明書中描述的只是說明本實(shí)用新型的原理，在不脫離本實(shí)用新型精神和范 圍的前提下本實(shí)用新型還會有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等 同物界定。
權(quán)利要求1.涂膠顯影機(jī)清潔裝置，包括頂層基架，滑板以及底部基板，所述頂層基架固定在顯影機(jī)的機(jī)臺上，其特征在于所述頂層基架上設(shè)有若干通孔，兩側(cè)分別設(shè)有折彎部；所述底部基板的表面上分布有若干風(fēng)扇，在所述風(fēng)扇位置處設(shè)有相應(yīng)的開口，所述底部基板與所述折彎部連接；所述滑板位于所述底部基板和頂層基架形成的收容空間內(nèi)，所述滑板上設(shè)有開孔。
2. 如權(quán)利要求1所述的涂膠顯影機(jī)清潔裝置，其特征在于所述通孔與所 述開孔位置相對應(yīng)。
3. 如權(quán)利要求1或2所迷的涂膠顯影機(jī)清潔裝置，其特征在于固定在所 述底部基板上的風(fēng)扇與所述通孔的位置相對應(yīng)。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種涂膠顯影機(jī)清潔裝置，包括頂層基架，滑板以及底部基板，所述頂層基架固定在顯影機(jī)的機(jī)臺上，所述頂層基架上設(shè)有若干通孔，兩側(cè)分別設(shè)有折彎部；所述底部基板的表面上分布有若干風(fēng)扇，在風(fēng)扇位置處設(shè)有相應(yīng)的開口，所述底部基板與所述折彎部連接；所述滑板位于所述底部基板和頂層基架形成的收容空間內(nèi)，所述滑板上設(shè)有開孔，所述通孔與所述開孔位置相對應(yīng)，固定在所述底部基板上的風(fēng)扇與所述通孔的位置相對應(yīng)。通過在涂膠顯影機(jī)上增加了涂膠顯影機(jī)雜質(zhì)清潔裝置，啟動涂膠顯影機(jī)雜質(zhì)清潔裝置上的風(fēng)扇旋轉(zhuǎn)，將涂膠雜質(zhì)抽出至外部環(huán)境，避免了污染，使得后續(xù)的刻蝕和沉積工藝中造成的球狀缺陷得以克服，提高產(chǎn)品良率，節(jié)省成本。
文檔編號B08B15/04GK201392817SQ20092007037
公開日2010年1月27日 申請日期2009年4月14日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月14日
發(fā)明者健 盧, 健 張, 張書慶, 張建峰, 軍 王, 蔡奇澄 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司