控片及涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種控片及涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法。
【背景技術(shù)】
[0002]集成電路的生產(chǎn)制造是一個(gè)非常復(fù)雜的過程，其中，光刻技術(shù)是最復(fù)雜的技術(shù)之一，也是推動(dòng)集成電路工藝發(fā)展的重要?jiǎng)恿?，光刻技術(shù)的強(qiáng)大與否直接決定著芯片的性能。
[0003]一般情況下，光刻過程包括涂敷光阻、按照掩膜版進(jìn)行曝光以及顯影等過程。其中，例如顯影過程是在涂膠顯影機(jī)中利用噴嘴向曝光后的晶片上噴灑顯影液，然后對晶片進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，使得顯影液分布均勻。圖1示出了正常情況下噴嘴2和晶片I的關(guān)系，可見，噴嘴2呈一長條形,位于晶片I上方的一條直徑方向，朝向晶片I的一側(cè)具有多個(gè)噴口 21。但是隨著不斷的使用而帶來的各種因素的影響，噴嘴2的位置會(huì)發(fā)生偏移，就會(huì)導(dǎo)致顯影液分布異常，從而會(huì)影響產(chǎn)品的關(guān)鍵尺寸(CD)，以及造成其他的缺陷。
[0004]目前，常用的檢測方法是打開設(shè)置有該噴嘴的單元(unit)，由技術(shù)人員進(jìn)行肉眼觀察。并且，該操作由于設(shè)備本身所限，不可能隨意進(jìn)行，必須要停機(jī)進(jìn)行操作，而且打開該單元還容易引入其他問題，調(diào)整后還需要進(jìn)行測機(jī)(monitor),會(huì)浪費(fèi)大量的時(shí)間，這在工廠中也是不允許的，故通常只在定期維護(hù)(PM)時(shí)進(jìn)行檢測，而PM的周期通常在一個(gè)月，這就導(dǎo)致對噴嘴的檢測既沒有直觀可靠的標(biāo)準(zhǔn)，也不能夠及時(shí)加以檢測和調(diào)整。這就給半導(dǎo)體制造過程留下了隱患。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于，提供一種控片及涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法，以定量的檢測到噴嘴的偏移程度，并避免打開設(shè)備進(jìn)行檢測，提高檢測效果。
[0006]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種控片，用于檢測涂膠顯影機(jī)中噴嘴的偏移，所述控片中心設(shè)置有標(biāo)尺。
[0007]可選的，對于所述的控片，所述標(biāo)尺的零刻度對應(yīng)于所述控片的中心，向相對的兩側(cè)分別延伸相同的距離。
[0008]可選的，對于所述的控片，所述標(biāo)尺自零刻度向兩側(cè)延伸的距離小于6mm。
[0009]本發(fā)明提供一種涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法，用于檢測并調(diào)整顯影液的噴嘴的位置，包括:
[0010]提供如上所述的控片；
[0011]在所述控片上涂敷光阻，并進(jìn)行臨界曝光；
[0012]利用所述噴嘴涂敷顯影液，使得所述控片顯影；
[0013]觀察所述控片中心是否存在斑點(diǎn)，若存在斑點(diǎn)則讀出所述斑點(diǎn)的半徑r ；
[0014]根據(jù)公式y(tǒng)=_0.317r2+3.2r+0.02，算得偏移量y并結(jié)合第一方向進(jìn)行調(diào)整噴嘴。
[0015]可選的，對于所述的涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法，所述偏移量I小于等于8_。
[0016]可選的，對于所述的涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法，所述臨界曝光的能量值的尋找方法為:
[0017]提供一實(shí)驗(yàn)晶片，并涂敷光阻；
[0018]將所述實(shí)驗(yàn)晶片分為多個(gè)曝光單元，每個(gè)曝光單元根據(jù)現(xiàn)有曝光參數(shù)的能量值按照設(shè)定的變化量進(jìn)行改變，并進(jìn)行曝光；
[0019]觀察曝光后的實(shí)驗(yàn)晶片，以獲得臨界曝光的能量值。
[0020]可選的，對于所述的涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法，所述第一方向?yàn)榇怪彼鰢娮靽娨簳r(shí)的方向。
[0021]可選的，對于所述的涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法，所述調(diào)整噴嘴為由第一方向朝向所述斑點(diǎn)平移偏移量y的距離。
[0022]可選的，對于所述的涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法，采用光學(xué)顯微鏡觀察所述控片并讀出所述斑點(diǎn)的半徑。
[0023]可選的，對于所述的涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法，若所述控片中心無斑點(diǎn)，則所述噴嘴位置精確。
[0024]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的控片及涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法中，所述控片的中心設(shè)置有標(biāo)尺，通過對該控片進(jìn)行曝光顯影后，觀察控片中心是否存在斑點(diǎn)，若存在斑點(diǎn)，則依據(jù)公式和第一方向?qū)娮爝M(jìn)行調(diào)整，從而能夠達(dá)到精確的糾正噴嘴的位置，避免了人工肉眼觀察的不準(zhǔn)確性和高誤差的情況發(fā)生。同時(shí)，采用本方法可以按照常規(guī)曝光顯影流程進(jìn)行，不需要打開相應(yīng)的單元，能夠有效的避免對設(shè)備的干擾。本發(fā)明的方法還改善了檢測周期長的缺陷，從而能夠有效的預(yù)防產(chǎn)品出現(xiàn)異常。
【附圖說明】
[0025]圖1為現(xiàn)有技術(shù)及本發(fā)明一實(shí)施例中涂膠顯影機(jī)中噴嘴的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖2為本發(fā)明一實(shí)施例中的控片的標(biāo)尺的示意圖；
[0027]圖3為本發(fā)明一實(shí)施例中涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法的流程圖；
[0028]圖4為本發(fā)明一實(shí)施例中涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法中噴嘴發(fā)生偏移時(shí)獲得的顯影后的控片示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0029]下面將結(jié)合示意圖對本發(fā)明的控片及涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法進(jìn)行更詳細(xì)的描述，其中表示了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，應(yīng)該理解本領(lǐng)域技術(shù)人員可以修改在此描述的本發(fā)明，而仍然實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的有利效果。因此，下列描述應(yīng)當(dāng)被理解為對于本領(lǐng)域技術(shù)人員的廣泛知道，而并不作為對本發(fā)明的限制。
[0030]為了清楚，不描述實(shí)際實(shí)施例的全部特征。在下列描述中，不詳細(xì)描述公知的功能和結(jié)構(gòu)，因?yàn)樗鼈儠?huì)使本發(fā)明由于不必要的細(xì)節(jié)而混亂。應(yīng)當(dāng)認(rèn)為在任何實(shí)際實(shí)施例的開發(fā)中，必須做出大量實(shí)施細(xì)節(jié)以實(shí)現(xiàn)開發(fā)者的特定目標(biāo)，例如按照有關(guān)系統(tǒng)或有關(guān)商業(yè)的限制，由一個(gè)實(shí)施例改變?yōu)榱硪粋€(gè)實(shí)施例。另外，應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種開發(fā)工作可能是復(fù)雜和耗費(fèi)時(shí)間的，但是對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說僅僅是常規(guī)工作。
[0031]在下列段落中參照附圖以舉例方式更具體地描述本發(fā)明。根據(jù)下面說明和權(quán)利要求書，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發(fā)明實(shí)施例的目的。
[0032]本發(fā)明的核心思想在于，提供一種涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法。發(fā)明人在經(jīng)過研究后發(fā)現(xiàn)，當(dāng)噴嘴偏移后，其噴出的顯影液在經(jīng)過晶片的旋轉(zhuǎn)后會(huì)分布不均勻，這種顯影液的分布在當(dāng)晶片處于一定的曝光能量下時(shí)，會(huì)使得晶片中心產(chǎn)生一個(gè)與周圍明顯色澤差別的圓斑，而且該斑點(diǎn)的大小與噴嘴偏移程度有關(guān)。那么，通過度量斑點(diǎn)的大小，并找到斑點(diǎn)與噴嘴偏移量之間的關(guān)系，就能夠精確的調(diào)控噴嘴的位置。
[0033]以下列舉所述控片及涂膠顯影機(jī)中噴嘴的檢測方法的較優(yōu)實(shí)施例，以清楚說明本發(fā)明的內(nèi)容，應(yīng)當(dāng)明確的是，本發(fā)明的內(nèi)容并不限制于以下實(shí)施例，其他通過本領(lǐng)域普通技術(shù)人員的常規(guī)技術(shù)手段的改進(jìn)亦在本發(fā)明的思想范圍之內(nèi)。
[0034]基于上述思想,本發(fā)明首先設(shè)計(jì)一種控片(control wafer, CW),所述控片中心設(shè)置有標(biāo)尺，該控片的尺寸與一般用于生產(chǎn)產(chǎn)品的控片一致，以獲得最佳效果。請參考圖2，所述標(biāo)尺的零刻度對應(yīng)于所述控片的中心，即圖2中位于數(shù)字O下方的十字型的中心點(diǎn)，然后向相對的兩側(cè)分別延伸相同的距離，在本實(shí)施例中，所述標(biāo)尺自零刻度向兩側(cè)延伸的距離為6mm，一般情況下，也可以選擇小于6mm，這是由于在噴嘴發(fā)生偏移但設(shè)備依然運(yùn)作時(shí)，形成的斑點(diǎn)的半徑較小，當(dāng)噴嘴偏移較大時(shí)，即