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內(nèi)部壓力管理系統(tǒng)的制作方法

文檔序號:12138103閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.一種設備,包括:

可植入傳感器,具有響應于所述傳感器外部的物理現(xiàn)象而可移位的膜,其中

所述設備被配置成均衡周圍環(huán)境和所述傳感器的后體積之間的靜態(tài)壓力差。

2.根據(jù)權利要求1所述的設備,其中:

所述設備被配置成使所述傳感器的所述后體積的大小適應周圍壓力的改變,從而均衡所述靜態(tài)壓力差。

3.根據(jù)權利要求1所述的設備,其中:

所述設備包括構成所述后體積的至少一部分的順應性后腔。

4.根據(jù)權利要求1所述的設備,其中:

所述后體積包括第一體積和第二體積,所述第二體積遠離所述第一體積并且與所述第一體積不同,并且所述第二體積與所述第一體積流體連通;以及

所述第一體積接近所述膜。

5.根據(jù)權利要求4所述的設備,其中:

所述第一體積位于第一外殼中,并且所述第二體積位于遠離所述第一外殼的第二外殼中。

6.根據(jù)權利要求4所述的設備,其中:

所述第一體積經(jīng)由微管與所述第二體積流體連通。

7.根據(jù)權利要求1所述的設備,其中

所述后體積通過部分地由所述膜界定的室來建立,其中所述室被配置成以超過由所述膜的位移產(chǎn)生的體積的方式來改變所述后體積的體積。

8.根據(jù)權利要求7所述的設備,其中:

所述室接近所述膜。

9.根據(jù)權利要求1所述的設備,其中:

所述設備包括耳蝸植入電極陣列組件,其中所述傳感器和所述耳蝸植入電極陣列是單個單元的一部分。

10.一種設備,包括:

可植入麥克風,具有響應于由周圍聲音引起的耳蝸中的流體現(xiàn)象的改變而可移位的膜,所述膜形成所述麥克風的后體積的邊界的一部分,其中

所述設備被配置成獨立于所述膜的移動而膨脹和收縮所述后體積的體積的大小。

11.根據(jù)權利要求10所述的設備,其中:

(i)所述前體積和所述后體積彼此流體隔離,并且所述設備被配置成響應于所述隔膜的相對側上的靜態(tài)壓力相對于所述后體積的增加而擴張所述后體積的所述體積的所述大小,并且所述設備被配置成響應于所述隔膜的相對側上的靜態(tài)壓力相對于所述后體積的減小而收縮所述后體積的所述體積的所述大??;或者

(ii)所述前體積和所述后體積彼此流體連通,并且所述設備被配置成響應于所述設備的周圍環(huán)境中的靜態(tài)壓力的減小而擴大所述后體積的所述體積的所述大小,并且所述設備被配置成響應于所述設備的所述周圍環(huán)境的靜態(tài)壓力的增加而收縮所述后體積的所述體積的所述大小。

12.根據(jù)權利要求10所述的設備,其中以下各項中的至少一項:

所述設備被配置成使得所述后體積的所述體積的所述大小的所述膨脹和收縮將所述隔膜的相對側上的靜態(tài)壓力與所述后體積中的靜態(tài)壓力相等,其中所述隔膜的所述相對側上的所述體積和所述后體積彼此流體隔離;或者

所述設備被配置成使得所述后體積的所述體積的所述大小的所述膨脹和收縮將所述隔膜的相對側上的體積和所述后體積的所述靜態(tài)壓力與所述周圍環(huán)境相等,其中所述隔膜的所述相對側上的所述體積和所述后體積彼此流體連通。

13.根據(jù)權利要求10所述的設備,其中:

所述麥克風是第一單元的一部分;和

所述設備包括:

與所述第一單元不同的第二單元,所述第二單元被配置成膨脹和收縮以使得所述后體積的所述體積獨立于所述隔膜的所述移動而膨脹和收縮。

14.根據(jù)權利要求10所述的設備,其中:

所述第二單元經(jīng)由波紋微管與所述第一單元流體連通。

15.根據(jù)權利要求10所述的設備,其中:

所述第二單元包括被夾緊的隔膜的堆疊,其中所述隔膜被配置成在第一方向和第二方向上偏轉,從而分別獨立于所述隔膜的所述移動而膨脹和收縮所述后體積。

16.根據(jù)權利要求10所述的設備,其中:

所述麥克風是第一單元的一部分,所述第一單元的所述一部分被配置成膨脹和收縮以使得所述后體積的所述體積獨立于所述隔膜的移動而膨脹和收縮。

17.根據(jù)權利要求16所述的設備,其中:

所述第一單元包括折疊壁,所述折疊壁被配置成膨脹和收縮以使得所述后體積的所述體積獨立于所述隔膜的移動而膨脹和收縮。

18.一種裝置,包括:

耳蝸植入物,包括根據(jù)權利要求11所述的設備,其中所述耳蝸植入物還包括:

包括所述可植入麥克風的耳蝸植入電極陣列組件;和

接收器-刺激器組件,其中

所述后體積的所述體積從所述電極陣列組件延伸至所述接收器-刺激器部件。

19.一種設備,包括:

可植入靜態(tài)壓力均衡系統(tǒng),被配置成使裝置的內(nèi)部壓力與周圍環(huán)境的靜態(tài)壓力相等,所述裝置被配置成感測接受者中的動態(tài)現(xiàn)象,所述系統(tǒng)包括:

界定體積的至少一個隔膜,其中所述隔膜被配置成響應于所述靜態(tài)壓力的改變而偏轉,從而調(diào)整由所述隔膜界定的體積的大小,其中所述系統(tǒng)被配置成使得所述體積被置于與所述裝置流體連通,并且其中所述隔膜由至少兩個基本剛性的部件遮蔽,所述至少兩個基本剛性的部件在垂直于所述隔膜的最大直徑的方向上位于所述隔膜的相對側上。

20.根據(jù)權利要求20所述的設備,其中所述系統(tǒng)包括:

至少兩個隔膜,被布置成堆疊,其中所述兩個隔膜之間的空間是所述體積的一部分。

21.根據(jù)權利要求20所述的設備,其中:

所述系統(tǒng)被配置成支持體液在所述隔膜和所述基本剛性的部件中的至少一個基本剛性的部件之間進入和流出;和

所述系統(tǒng)被配置成使得當所述體積被置于與所述裝置流體連通時所述體積與所述體液氣密密封。

22.根據(jù)權利要求20所述的設備,其中:

所述系統(tǒng)被配置有與所述體積氣密隔離的非氣密體積,其中所述非氣密體積在所述基本剛性的部件中的至少一個基本剛性的部件和所述隔膜之間延伸,并且其中所述非氣密體積與所述周圍環(huán)境由硅樹脂外殼分開。

23.根據(jù)權利要求20所述的設備,其中:

所述系統(tǒng)包括由至少第一隔膜界定的第一子體積以及由至少第二隔膜界定的第二子體積,所述第一子體積與所述第二子體積流體連通并且共同形成所述體積的至少一部分,其中所述子體積在垂直于最大直徑的方向上排列,并且其中所述第一子體積的第一大小與所述第二子體積的第二大小無關。

24.根據(jù)權利要求20所述的設備,其中所述設備包括可植入部件,包括:

以下各項的堆疊:

所述隔膜和至少另一個隔膜;

分別與所述基本剛性的部件相對應的兩個帽;和

將所述兩個隔膜分隔開的間隔件;和

硅樹脂外殼,包圍所述隔膜、所述帽和所述間隔件的所述堆疊。

25.根據(jù)權利要求20所述的設備,還包括:

所述堆疊中的永磁體;和

接收器線圈,其中,

所述接收器線圈和所述永磁體還被包圍在所述硅樹脂外殼中。

26.一種方法,包括:

自動地維持以下至少一項的中間位置:(i)具有前體積和后體積的植入式麥克風的膜,所述前體積和所述后體積由所述膜分離,并且所述前體積和所述后體積響應于由所述麥克風所位于的周圍環(huán)境的壓力的改變引起的所述前體積的壓力改變而彼此流體隔離;或者(ii)壓力感受器的柔性隔膜,所述柔性隔膜通過以下來將與麥克風流體連通的內(nèi)部體積與周圍環(huán)境進行氣密隔離:自動地調(diào)整所述后體積的大小,以至少使所述后體積中的至少一個后體積的壓力或所組合的前體積和后體積的壓力基本等于所述周圍環(huán)境的所述壓力。

27.根據(jù)權利要求27所述的方法,其中:

所述前體積和所述后體積是相對于所述植入式醫(yī)療設備的周圍環(huán)境的氣密隔離體積。

28.根據(jù)權利要求27所述的方法,其中:

所述前體積是至少部分地延伸到所述接受者的耳蝸中的體積;并且

所述后體積是至少部分地在所述接受者的耳蝸外環(huán)境中延伸的體積。

29.根據(jù)權利要求29所述的方法,其中:

所述后體積延伸到所述接受者的外皮膚和接受者的乳突骨的外表面之間的位置。

30.根據(jù)權利要求27所述的方法,還包括:

在經(jīng)皮從接受者的外部傳送到所述植入式醫(yī)療設備的第一位置處接收電磁信號;以及

在以下位置中的至少一個位置處進行擴展或收縮所述后體積中的至少一者:所述第一位置或接近所述第一位置,其中

所述前體積遠離所述后體積的至少一部分。

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