專利名稱：X射線檢查裝置及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及X射線檢查裝置和相應(yīng)的方法以及用于控制所述裝置的計(jì)算機(jī)程序。
背景技術(shù)：
彩色(或譜)X射線成像已被醫(yī)學(xué)CT掃描器的所有供應(yīng)商鑒定為未來(lái)CT (計(jì)算機(jī)斷層攝影)發(fā)展的最有希望的途徑。然而，CT供應(yīng)商顯然遵循不同的方法來(lái)進(jìn)入譜域。這主要是由于譜CT掃描器的硬件實(shí)現(xiàn)并非一簡(jiǎn)單任務(wù)這一事實(shí)。在如例如在 DeMan，B.等人的〃 Inverse geometry CT The next-generation CT architecture ？ “ , IEEE Nuclear Science Symposium Conference Record,2007,M07-2, p. 2715-2716中所描述的新型“逆”幾何CT (IGCT)系統(tǒng)設(shè)計(jì)中，使用具有離散的電子發(fā)射器和焦斑的陣列的大型分布式X射線源和高幀率平板X射線探測(cè)器。隨著如例如在Liu， Ζ.等人白勺"Carbon nanotube based microfocus field emission X-ray source for microcomputed tomography" , Applied Physics Letters 89,103111 (2006)巾Mffii^白勺碳納米管(CNT)的出現(xiàn)，能夠構(gòu)建冷“電子槍”快速可切換X射線發(fā)生器。這種基于CNT的 X射線源能夠以類似陣列的方式布置在這種逆CT系統(tǒng)中，其中，根據(jù)預(yù)定的調(diào)制模式而及時(shí)地開啟和關(guān)閉X射線源。已知的譜CT系統(tǒng)必須克服下列技術(shù)障礙或具有下列缺點(diǎn)具有不相似的kVp (峰值千伏)設(shè)置的雙源CT系統(tǒng)只能夠明確地分離兩種材料成分；高硬件成本，因?yàn)楸仨毎惭b兩個(gè)源和兩個(gè)探測(cè)器。雙層探測(cè)器只能夠明確地分離兩種材料成分；復(fù)雜的探測(cè)器生產(chǎn)過(guò)程。快速雙kVp切換只能夠明確地分離兩種材料成分；較低的譜分離，因?yàn)檩^強(qiáng)的kV 瞬態(tài)難以實(shí)現(xiàn)。光子計(jì)數(shù)譜CT 探測(cè)要求較高的硬件努力。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供特別是具有逆CT幾何的X射線檢查裝置和相應(yīng)的方法以及用于控制所述裝置的計(jì)算機(jī)程序，據(jù)此，能夠克服上面所提到的障礙和缺點(diǎn)。在本發(fā)明的第一方面，提出了一種X射線檢查裝置，該裝置包括-X射線源單元，其包括用于在多個(gè)位置處發(fā)射X射線的多個(gè)X射線源，-X射線探測(cè)單元，其用于探測(cè)從一個(gè)或多個(gè)所述X射線源發(fā)射的且穿透所述X射線源單元和所述X射線探測(cè)單元之間的檢查區(qū)之后的X射線，并且，用于生成探測(cè)信號(hào)，-處理單元，其用于處理所生成的探測(cè)信號(hào)，以及-控制單元，其用于控制所述X射線源來(lái)隨后單獨(dú)地或成組地以至少兩個(gè)不同的能量譜發(fā)射X射線，使得在切換特定的X射線源或所述成組的X射線源從而以不同的能量譜發(fā)射X射線的時(shí)間間隔中，關(guān)閉所述特定的X射線源或所述成組的X射線源，并且，隨后開啟一個(gè)或多個(gè)其他X射線源或其他成組的X射線源以發(fā)射X射線。
在本發(fā)明的又一方面，提出了相應(yīng)的方法。在本發(fā)明的再一方面，提出了一種計(jì)算機(jī)程序，該計(jì)算機(jī)程序包括用于當(dāng)在計(jì)算機(jī)上執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)令計(jì)算機(jī)控制如上面所定義的X射線檢查裝置以執(zhí)行如上面所主張并提到的方法的步驟的程序代碼段。在從屬權(quán)利要求中定義本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。應(yīng)當(dāng)理解，所主張的方法和所主張的計(jì)算機(jī)程序具有與所主張的設(shè)備相似的和/或相同的并且如在從屬權(quán)利要求中所定義的優(yōu)選實(shí)施例。本發(fā)明是基于特別是針對(duì)譜CT應(yīng)用而使用逆CT系統(tǒng)布置的構(gòu)思，其中，在給定的時(shí)間僅一個(gè)X射線源或成組(并非全部)χ射線源是激活的。切換特定的X射線源或所述成組的X射線源以實(shí)現(xiàn)，如對(duì)于譜CT應(yīng)用所需地，以與以前不同的能量譜發(fā)射X射線花費(fèi)一些時(shí)間。根據(jù)本發(fā)明，利用切換特定的X射線源或所述成組的X射線源的該時(shí)間，來(lái)關(guān)閉該特定的X射線源或所述成組的X射線源(從而不發(fā)射任何X射線輻射)并開啟一個(gè)或多個(gè)X射線源或成組的X射線源一隨后并優(yōu)選地一次僅一個(gè)或一組一以同時(shí)發(fā)射X射線輻射。因而，在該時(shí)間期間，也獲得探測(cè)信號(hào)，這節(jié)省很多時(shí)間。因此，根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)有利的交替kv調(diào)制方案而擴(kuò)展逆CT源調(diào)制模式。進(jìn)一步的優(yōu)點(diǎn)是減少的采集時(shí)間和更好的時(shí)間分辨率，減少的采集時(shí)間進(jìn)而導(dǎo)致更少的運(yùn)動(dòng)偽影。如果考慮非理想效果，那么，能夠由瞬態(tài)行為描述切換。例如，考慮到源處的“緩慢的”熱發(fā)射器或探測(cè)器中的“余輝”，如果來(lái)自先前的幀的信號(hào)泄漏至當(dāng)前采集幀中，那么，不同的能量譜的重疊更少。根據(jù)實(shí)施例，所述控制單元適于控制所述X射線源，使得切換特定的X射線源或所述成組的X射線源從而盡可能快地以所述不同的能量譜發(fā)射X射線。因此，僅在最小的持續(xù)時(shí)間期間，開啟其他X射線源。切換第一(特定的)χ射線源或所述第一組X射線源的過(guò)程一完成，就再次開啟該X射線源(或該組X射線源)從而以新的能量譜發(fā)射X射線。優(yōu)選地，事先確定該持續(xù)時(shí)間，以適當(dāng)?shù)乜刂芚射線源的切換的定時(shí)。然而，也有可能在切換過(guò)程本身期間“在線地”確定持續(xù)時(shí)間和定時(shí)。根據(jù)另一個(gè)實(shí)施例，所述控制單元適于控制所述X射線源，使得所述一個(gè)或多個(gè)其他X射線源或其他成組的X射線源以能量譜發(fā)射X射線，所述一個(gè)或多個(gè)其他X射線源或所述其他成組的X射線源隨后在切換所述特定的X射線源或所述成組的X射線源的所述時(shí)間間隔期間被開啟以發(fā)射X射線，所述特定的X射線源或所述成組的X射線源先前以所述能量譜已經(jīng)發(fā)射了 X射線或在將其切換之后以所述能量譜發(fā)射X射線。因而，在X射線輻射的相同的能量譜采集一定的時(shí)間段期間(并且從一定的投影角范圍)的所有探測(cè)信號(hào)， 這在數(shù)據(jù)處理和重建期間可能是有利的。也能夠利用一個(gè)固定譜來(lái)進(jìn)行采集的一部分，而能夠在取決于感興趣區(qū)域的雙能量模式或多能量模式中采集其他部分，這導(dǎo)致更多的靈活性。進(jìn)一步優(yōu)選地，所述控制單元適于控制所述X射線源來(lái)成組地發(fā)射X射線，使得第一組X射線源的X射線源隨后單獨(dú)且分開地以至少兩個(gè)不同的能量譜發(fā)射X射線，此后，其他成組的X射線源的X射線源單隨后單獨(dú)且分開地以至少兩個(gè)不同的能量譜發(fā)射X射線。 優(yōu)點(diǎn)是針對(duì)使譜切換活動(dòng)的數(shù)量最小化而作為優(yōu)化的不同的組大小，但還存在著足夠高的時(shí)間分辨率。
存在著對(duì)于切換X射線源以在不同的能量譜發(fā)射X射線輻射而言可獲得的各種選項(xiàng)。優(yōu)選地，所述控制單元適于通過(guò)改變X射線源電壓、特別是提供至X射線源的陽(yáng)極的電壓而切換所述X射線源從而以不同的能量譜發(fā)射X射線。這允許對(duì)X射線源和切換過(guò)程的簡(jiǎn)單控制。出于該目的，該裝置還優(yōu)選地包括具有若干高壓電源線的高壓電源單元，其中，所述控制單元包括用于根據(jù)切換模式而將所述X射線源動(dòng)態(tài)地連接至相應(yīng)的電源線的復(fù)用
ο根據(jù)有利的實(shí)施例，所述X射線源是分布式X射線源，特別是基于場(chǎng)發(fā)射器的X射線源，例如具有基于碳納米管的場(chǎng)發(fā)射器的(例如，微聚焦)χ射線源。這樣的分布式X射線源節(jié)省空間，并且，能夠容易地控制。而且，如果使用能夠布置為平面基板上的陣列的CNT， 則采集能夠更快得多。而且，還能夠?qū)⒊Ｒ?guī)的熱發(fā)射器技術(shù)用于構(gòu)建分布式X射線源。更進(jìn)一步，使散射偽影最小化。而且，分布式X射線源允許在不發(fā)生機(jī)械運(yùn)動(dòng)的情況下從不同的視角檢查對(duì)象。來(lái)自不同的視角的一組投影圖像允許有限的3D圖像重建(例如，斷層合成)。該斷層攝影成像方案使成像設(shè)備的構(gòu)建和操作簡(jiǎn)化。優(yōu)選地，該裝置還包括掃描架，所述X射線源單元和所述X射線探測(cè)單元安裝在該掃描架上，并且，該掃描架配置為圍繞所述檢查區(qū)旋轉(zhuǎn)。特別地，該掃描架可以布置為使得所述單元的一個(gè)或多個(gè)或者每個(gè)能夠圍繞所述檢查區(qū)旋轉(zhuǎn)。使用分布式X射線源的優(yōu)點(diǎn)是這樣的裝置不要求機(jī)械運(yùn)動(dòng)/旋轉(zhuǎn)。在其他實(shí)施例中，特別是針對(duì)X射線源和/或探測(cè)器的運(yùn)動(dòng)/旋轉(zhuǎn)而提供掃描架。在這樣的掃描架上，也能夠使用分布式X射線源。在優(yōu)選的實(shí)施例中，所述X射線探測(cè)單元包括多層探測(cè)器，每層適于探測(cè)預(yù)定的能量譜下的X射線，所述X射線探測(cè)單元特別包括雙層探測(cè)器。因而，能夠減少硬件成本， 因?yàn)槟鎺缀蔚奶綔y(cè)器覆蓋較小的X射線敏感區(qū)。例如在WO 2007/039840 A2中描述了這樣的雙層探測(cè)器本身。根據(jù)另一實(shí)施例，所述X射線探測(cè)單元包括能量鑒別且光子計(jì)數(shù)的探測(cè)器。同樣，利用該實(shí)施例，與常規(guī)的CT探測(cè)器大小相比，實(shí)現(xiàn)由于更少的探測(cè)器面積而導(dǎo)致的硬件成本的減少。例如在 Iwanczyk， J. ， S.等人的"Photon Counting Energy Dispersive Detector Arrays for X-ray Imaging" , IEEE Nuclear Science Symposium Conference Record, 2007, M09-4, p. 2741-2748中描述這樣的能量鑒別且光子計(jì)數(shù)的探測(cè)器。更進(jìn)一步，根據(jù)實(shí)施例，該裝置包括用于探測(cè)在X射線探測(cè)期間在X射線探測(cè)器的任何像素中是否存在著溢出的溢出探測(cè)器件，并且，所述控制單元適于減少提供至激活的X 射線源的電流。也有可能控制單元適于例如適應(yīng)地確定考慮硬件、特別是高壓發(fā)生器的優(yōu)化的切換方案、(例如CNT的源的)切換時(shí)間、感興趣區(qū)域以及所要求的空間分辨率。 在實(shí)施例中，所述控制單元適于控制所述X射線源來(lái)成組地發(fā)射X射線，使得第一組X射線源利用重疊的能量譜來(lái)發(fā)射X射線，并且此后，其他成組的X射線源隨后分開地以特別是相同的能量譜發(fā)射X射線。該實(shí)施例提供這樣的優(yōu)點(diǎn)利用能量分辨探測(cè)器，能夠識(shí)別源，從而導(dǎo)致快速采集時(shí)間和高精度。


參考在下文中描述的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例，本發(fā)明的這些及其他方面將顯而易見并得以闡明。在下面的附圖中，圖1示意地示出根據(jù)本發(fā)明的檢查裝置的實(shí)施例；圖2示出CT布置中的圖1中所示的所述實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)方式；圖3示出多源IGCT系統(tǒng)的三維透視圖；圖4示出基于碳納米管的場(chǎng)發(fā)射X射線源的實(shí)施例；圖5示出能量分布(profile)切換電路的實(shí)施例；圖6示出的示意解說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的針對(duì)X射線源的切換方案；圖7示出根據(jù)本發(fā)明的針對(duì)檢查裝置的控制回路的實(shí)施例的方框圖；以及，圖8示出的示意解說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的針對(duì)X射線源的另一切換方案。
類似的附圖標(biāo)記在圖中是指相同的或相似的部件。
具體實(shí)施例方式本技術(shù)通常針對(duì)生成對(duì)醫(yī)學(xué)應(yīng)用和非醫(yī)學(xué)應(yīng)用有用的圖像的成像技術(shù)，例如斷層合成成像技術(shù)。如本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將意識(shí)到地，本技術(shù)可以應(yīng)用于提供有用的三維數(shù)據(jù)和文本的各種醫(yī)學(xué)應(yīng)用和非醫(yī)學(xué)應(yīng)用中，例如旅客和/或行李篩查。然而，為了促進(jìn)本技術(shù)的解釋，在本文中通常討論醫(yī)學(xué)實(shí)現(xiàn)方式，可是要理解，非醫(yī)學(xué)實(shí)現(xiàn)方式也在本技術(shù)的范圍內(nèi)。圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的多能量檢查裝置10的示范性實(shí)施例的示意圖。裝置10 包括支撐X射線源單元14的定位器或支撐12。支撐12可以包括一個(gè)或多個(gè)X射線濾波器 16，該X射線濾波器16可以根據(jù)需要而定位在X射線源單元14和成像體積之間。諸如平板探測(cè)器的數(shù)字探測(cè)器18通常位于跨成像體積與X射線源單元14相對(duì)，并且，可以是固定的或可以協(xié)調(diào)或獨(dú)立于X射線源單元14和/或支撐12而移動(dòng)。防散射格柵20也可以存在于數(shù)字探測(cè)器18和成像體積之間。當(dāng)存在時(shí)，防散射格柵20典型地安裝為接近數(shù)字探測(cè)器18，以減少散射X射線入射到數(shù)字探測(cè)器18上。在一個(gè)實(shí)施例中，防散射格柵可以是可操縱的。在另一個(gè)實(shí)施例中，可能不存在防散射格柵，但可以代替地執(zhí)行算法散射校正， 以獲得定量投影圖像。X射線源單元14配置為從有限的角度范圍內(nèi)的多個(gè)位置朝向位于包圍患者22中的感興趣區(qū)域的成像體積內(nèi)的患者22的全部或部分發(fā)射X射線。X射線源單元14可以手動(dòng)地或通過(guò)自動(dòng)化手段在一維、二維或三維中移動(dòng)至不同的位置，從而X射線源14可以改變相對(duì)于患者22和/或數(shù)字探測(cè)器18的位置。優(yōu)選地，在如在圖2中所示的CT布置中，X射線源單元14(包括若干分布式X射線源15)和X射線探測(cè)器18安裝在掃描架17上，以便圍繞檢查區(qū)19旋轉(zhuǎn)。諸如工作臺(tái)的支撐21在檢查區(qū)19中支撐患者或其他對(duì)象?；颊咧?1優(yōu)選地可沿縱向或ζ方向移動(dòng)。 然而，在不同的實(shí)施例中，X射線源單元14和X射線探測(cè)器18是固定的，并且，未安裝于掃描架上。典型地，X射線源單元14配置為以對(duì)將期望的對(duì)象或患者22成像有用的一個(gè)或多個(gè)譜發(fā)射X射線。例如，在醫(yī)學(xué)背景下，X射線源可以發(fā)射可以用于患者成像的具有高能量光子的X射線輻射的譜，例如銅濾波的140kVp的譜，或者，可以一個(gè)或多個(gè)低能量譜(例如，未濾波的90kVp的譜)發(fā)射X射線，其每一個(gè)對(duì)于基于X射線的期望透射特性而對(duì)患者成像是有用的。可以由位于或移動(dòng)至X射線輻射的期望發(fā)射位置的若干發(fā)生器(即，位于各個(gè)期望發(fā)射位置處的X射線管)或者位于或能夠移動(dòng)至期望角度范圍內(nèi)的期望發(fā)射位置的固定的X射線管15和可移動(dòng)的X射線管15的混合在若干位置處從X射線源單元14發(fā)射X射線。如上所述的X射線源14朝向數(shù)字探測(cè)器18發(fā)射穿過(guò)患者22的X射線輻射M (參見圖1)。數(shù)字探測(cè)器18典型地包括配置為響應(yīng)于X射線輻射M而生成數(shù)字信號(hào)的探測(cè)器元件陣列。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，數(shù)字探測(cè)器18不鑒別碰撞像素的不同的光子的能量，g卩，每個(gè)像素積累并代表關(guān)于各種X射線譜的電荷信息。在這樣的實(shí)施例中，X射線濾波器16可以用于通過(guò)在不同的時(shí)間限制或修改所傳輸?shù)淖V而允許對(duì)X射線能量的區(qū)別，例如以便使X射線發(fā)射交替。X射線濾波器16可以由銅、鋁、鐵、鉬、錫、鋇、釓、鎢、鉛或其他合適的材料制成?？商娲?，在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，X射線源14可以配置為以兩個(gè)或多個(gè)譜發(fā)射X射線，從而可以不使用濾波器16就在不同的時(shí)間傳輸具有偏移譜或能量分布的X射線?？商娲?，在又一實(shí)施例中，X射線源單元14未被濾波或配置為(或者僅部分地濾波或僅在特殊位置處)以兩個(gè)或更多譜發(fā)射，然而，數(shù)字探測(cè)器18可以是能量鑒別探測(cè)器， 該探測(cè)器本身能夠區(qū)分具有不同的能量分布或水平的X射線輻射對(duì)。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，能量鑒別探測(cè)器用于在一次曝光中針對(duì)X射線源的特定位置而捕獲高能量圖像和低能量量圖像這兩者。類似地，在另一個(gè)實(shí)施例中，數(shù)字探測(cè)器18可以包括閃爍體和光電二極管的堆疊陣列，其中，每堆配置為探測(cè)具有不同的譜或能量分布的X射線。在該實(shí)施例中， 數(shù)字探測(cè)器18可以用于同時(shí)地捕獲高能量圖像和低能量圖像。X射線源單元14的操作可以由系統(tǒng)控制器沈控制。例如，系統(tǒng)控制器沈經(jīng)由X 射線控制器30而控制X射線源單元14的激活和操作，包括準(zhǔn)直和定時(shí)。此外，在X射線源單元14配置為以多于一個(gè)能量分布發(fā)射X射線的實(shí)施例中，系統(tǒng)控制器沈可以配置為經(jīng)由能量分布切換電路觀而控制或選擇X射線發(fā)射的能量分布。X射線源單元14和/或數(shù)字探測(cè)器18的運(yùn)動(dòng)也可以由系統(tǒng)控制器沈控制，例如由電機(jī)控制器32控制，以相互獨(dú)立地移動(dòng)或同步地移動(dòng)。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，電機(jī)控制器32可以控制諸如C臂的定位器12的操作，X射線源單元14和/或數(shù)字探測(cè)器18物理地附接至該定位器12。一般地，定位器12根據(jù)預(yù)定義的或操作者選擇的成像軌跡而提供X 射線源單元14和/或數(shù)字探測(cè)器18的物理運(yùn)動(dòng)。因此，借助于定位器12，系統(tǒng)控制器沈可以便于穿過(guò)患者的在各種角度的放射線攝影投影的采集?？商娲?，在X射線源單元14 和數(shù)字探測(cè)器18為固定的、也就是說(shuō)在X射線源單元14包括相對(duì)于探測(cè)器18固定在不同角度的多個(gè)X射線管或固態(tài)發(fā)射器的實(shí)施例中，不存在定位器12?？商娲幕旌系呐渲靡彩强赡艿?，例如，在一個(gè)實(shí)施例中，可以采用作為一組(即，并非單獨(dú)地)而移動(dòng)的多個(gè)X射線源。另外，在某些實(shí)施例中，可以將正在被成像的患者或?qū)ο笙鄬?duì)于一個(gè)或多個(gè)X射線源和/或探測(cè)器而移動(dòng)，以遍及有限的角度范圍而在不同的視野生成投影角。系統(tǒng)控制器沈也可以例如通過(guò)探測(cè)器采集電路34而控制數(shù)字探測(cè)器18的操作和讀出。在一個(gè)實(shí)施例中，數(shù)字探測(cè)器18將響應(yīng)于X射線輻射而采集的模擬信號(hào)轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號(hào)，并且，將該數(shù)字信號(hào)提供至探測(cè)器采集電路34，以便進(jìn)行進(jìn)一步的處理。典型地存在處理電路36，以處理并重建由探測(cè)器采集電路34從數(shù)字探測(cè)器18讀出的數(shù)據(jù)。特別地， 典型地響應(yīng)于X射線源單元14所發(fā)射的X射線而由探測(cè)器采集電路34生成投影數(shù)據(jù)或投影圖像。在生成的或經(jīng)濾波的X射線在不同的時(shí)間具有不同的譜或能量分布的實(shí)施例中， 可以在所有限定的位置處以特定的能量分布采集投影數(shù)據(jù)，并且，可以針對(duì)其他能量分布而重復(fù)該過(guò)程?？商娲?，也可以在特定的位置針對(duì)所有能量分布而采集投影數(shù)據(jù)，并且， 可以針對(duì)所有限定的位置而重復(fù)該過(guò)程。其他采集序列也是可能的。然而，在采用能量鑒別探測(cè)器作為數(shù)字探測(cè)器18的實(shí)施例中，在各個(gè)位置處典型地僅采集一個(gè)投影圖像，因?yàn)槊總€(gè)投影圖像包括期望的能量信息。探測(cè)器18所收集的投影數(shù)據(jù)可以在探測(cè)器采集電路 34和/或處理電路36經(jīng)歷預(yù)處理。另外，處理電路36可以重建投影數(shù)據(jù)以生成一個(gè)或多個(gè)三維圖像以便進(jìn)行顯示。處理電路36可以基于能量特性而分解投影圖像，從而不同的能量特性與不同的材料類型相關(guān)聯(lián)。處理電路36可以進(jìn)一步重建投影圖像，以生成諸如斷層合成圖像的三維圖像?？梢园凑杖魏雾樞驁?zhí)行重建和分解的步驟，但一般地，當(dāng)兩個(gè)步驟都被執(zhí)行時(shí)，能夠生成代表不同的材料或組織類型的合成三維斷層合成圖像。例如，合成斷層合成圖像可以包括軟組織斷層合成圖像、骨斷層合成圖像以及/或?qū)Ρ葓D像。相反，如果處理電路重建所采集的投影數(shù)據(jù)而不分解投影數(shù)據(jù)，那么，可以生成能量斷層合成圖像，例如低能量斷層合成圖像、中等能量斷層合成圖像以及高能量斷層合成圖像。這些能量斷層合成圖像描繪成像體積中在相應(yīng)的能量分布處由患者22或?qū)ο髮?shí)現(xiàn)的X射線的衰減。在醫(yī)學(xué)背景下，各種斷層合成圖像揭示患者22的內(nèi)部感興趣區(qū)域，可以用于進(jìn)一步診斷。處理電路36還可以包括存儲(chǔ)器電路，以存儲(chǔ)經(jīng)處理的數(shù)據(jù)和待處理的數(shù)據(jù)。存儲(chǔ)器電路也可以存儲(chǔ)處理參數(shù)和/或計(jì)算機(jī)程序。處理電路36可以連接至操作者工作站40。由處理電路36生成的圖像可以發(fā)送至操作者工作臺(tái)40以便諸如在顯示器42上顯示。處理電路36可以配置為從操作者工作站40接收命令或與處理有關(guān)的處理參數(shù)或者圖像或圖像數(shù)據(jù)，操作者工作站40可以包括諸如鍵盤、鼠標(biāo)的輸入設(shè)備和其他用戶交互設(shè)備(未示出)。操作者工作臺(tái)40也可以連接至系統(tǒng)控制器26，以允許操作者將命令和與X射線源單元14和/或探測(cè)器18的操作有關(guān)的掃描參數(shù)提供至系統(tǒng)控制器26。因此，操作者可以經(jīng)由操作者工作站40而控制系統(tǒng)10 的全部或部分的操作。操作者工作站40典型地連接至能夠繪制處理電路36所生成的圖像的顯示器42 和/或打印機(jī)44。操作者工作站40內(nèi)的顯示器和/或打印機(jī)電路典型地將圖像提供至相應(yīng)的顯示器42或打印機(jī)44以便進(jìn)行繪制。而且，操作者工作站40也可以連接至圖片存檔系統(tǒng)(PACS) 46，該圖片存檔系統(tǒng)46可以進(jìn)而通過(guò)網(wǎng)絡(luò)而連接至內(nèi)部工作站48和/或外部工作站50，從而不同位置處的人可以獲得對(duì)圖像和/或圖像數(shù)據(jù)的訪問(wèn)。類似地，操作者工作站40可以訪問(wèn)可經(jīng)由PACS 46而訪問(wèn)的圖像或數(shù)據(jù)，以便由處理電路36處理和/或在顯示器42或打印機(jī)44上繪制。圖3顯示多源逆幾何計(jì)算機(jī)斷層攝影(IGCT)系統(tǒng)10的三維透視圖，該系統(tǒng)使用與大型分布式源單元14相結(jié)合的小型探測(cè)器18，多個(gè)X射線點(diǎn)源15經(jīng)軸地(在xy平面) 且縱向地(沿著ζ軸)排列于源單元14上。每個(gè)X射線點(diǎn)源15在不同的時(shí)間發(fā)射扇形束 (或錐形束)60，并且，由探測(cè)器18捕獲投影數(shù)據(jù)(例如，正弦圖)61。另外，探測(cè)器18、分布式源單元14以及扇形束(或錐形束)60可以圍繞旋轉(zhuǎn)軸62軸向地旋轉(zhuǎn)。對(duì)探測(cè)器18 捕獲的投影數(shù)據(jù)61進(jìn)行處理，以重建視場(chǎng)(檢查區(qū))內(nèi)的感興趣對(duì)象19。已知的重排算法可以用于將投影數(shù)據(jù)重排成平行射線投影。多個(gè)X射線點(diǎn)源15優(yōu)選經(jīng)軸地定位在等中心弧上，從而能夠使所有相應(yīng)的扇形束 (或錐形束)60旋轉(zhuǎn)以適合進(jìn)入具有等聚焦探測(cè)器的常規(guī)的第三代系統(tǒng)中。這使得可能對(duì)全錐束進(jìn)行精確的重排，并且，還有助于實(shí)現(xiàn)均勻的束剖面。能夠?qū)⒌玫降臄?shù)據(jù)集重新布置或重排成多個(gè)縱向偏移的第三代數(shù)據(jù)集。還能夠?qū)⑨槍?duì)沿ζ分布的多個(gè)X射線點(diǎn)源15而開發(fā)的算法應(yīng)用于利用常規(guī)的第三代CT的多個(gè)縱向偏移的軸向掃描，反之亦然。雖然出于這些原因而期望將源定位在等中心弧上，但也能夠使用其他布置，例如探測(cè)器位于中心的弧和平坦陣列。雖然X射線管是X射線源單元14生成X射線的一種可能，但在其他實(shí)施例中，X射線源單元14可以采用其他X射線生成及發(fā)射技術(shù)。例如，X射線源單元14可以采用固態(tài) X射線發(fā)射器，以代替上述實(shí)現(xiàn)方式中的X射線管。然而，雖然X射線管和固態(tài)X射線發(fā)射器是可以采用的X射線生成及發(fā)射技術(shù)的兩個(gè)示例，但也可以與本技術(shù)協(xié)力而采用能夠生成具有在醫(yī)學(xué)上(或在工業(yè)上)有用的譜的X射線的其他X射線生成技術(shù)或設(shè)備。在實(shí)施例中，例如，基于碳納米管(CNT)陣列的場(chǎng)發(fā)射X射線源15用于X射線生成。如在圖4中所示，陣列14的每個(gè)源15包括CNT陰極151、柵電極152、一個(gè)或二個(gè)聚焦電極153、154以及陽(yáng)極155，在所述陽(yáng)極處發(fā)生電子束156到X射線157的轉(zhuǎn)換。優(yōu)選地通過(guò)將適當(dāng)?shù)碾妷菏┘又翓烹姌O152而完成各個(gè)源的開啟和關(guān)閉切換。根據(jù)本發(fā)明，系統(tǒng)控制器沈，特別是能量分布切換電路觀和/或X射線控制器30 適于控制所述X射線源15來(lái)隨后分開地以至少兩個(gè)不同的能量譜發(fā)射X射線，使得在切換特定的X射線源從而以不同的能量譜發(fā)射X射線的時(shí)間間隔中，關(guān)閉所述特定的X射線源， 并且，分開且隨后地開啟一個(gè)或多個(gè)其他X射線源以發(fā)射X射線。因而，根據(jù)本發(fā)明，應(yīng)用交替kV調(diào)制方案。在圖5中示出用于單元地控制并切換若干X射線源1如、1恥……15x的能量分布切換電路觀的適當(dāng)?shù)膶?shí)現(xiàn)方式。圖6示出的示意解說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的針對(duì)X射線源的切換方案。例如，對(duì)于特定的源15a，在時(shí)間、利用高壓仏開啟該源15a，并且，在時(shí)間t2關(guān)閉。此后，利用X射線發(fā)生器的其他源Mb、15c來(lái)繼續(xù)進(jìn)行掃描。在時(shí)間t3，利用高壓U2再次激活源15a。在 、和t3的時(shí)間間隔期間，將用于源15a的高壓源從U1切換為U20改變高壓所花費(fèi)的時(shí)間一般由高壓電源線的RC時(shí)間常數(shù)給出。因而，所描述的技術(shù)從當(dāng)前域中的管(例如CNT)的快速切換獲益，從而減輕對(duì)于高壓切換單元的硬件要求。特別地，在從、至t2的時(shí)間間隔期間，能夠?qū)⒃? 、巧b、15c 的陽(yáng)極耦合至電壓仏。在時(shí)間t2，源15a的陽(yáng)極能夠已經(jīng)切換為電壓U2，然而，通過(guò)使用柵電壓而僅在時(shí)間t3激活。如果CNT用作源，則以高速完成該激活，而通過(guò)使用高壓開關(guān)的從U1至U2的高壓切換能夠更緩慢地進(jìn)行。通過(guò)使陽(yáng)極電壓的高壓切換與經(jīng)由柵電壓的激活解耦，從而獲得使用切換序列的所描述的優(yōu)點(diǎn)。優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明而提出的檢查裝置、特別是逆CT系統(tǒng)裝備有多層探測(cè)器。與多層探測(cè)器和常規(guī)的CT幾何相比的優(yōu)點(diǎn)是減少了硬件成本，因?yàn)槟鎺缀沃械奶綔y(cè)器覆蓋較小的X射線敏感區(qū)。因而，在實(shí)施例中，如在圖6中示出的具有兩種高壓設(shè)置的源切換模式和雙層探測(cè)器形成“四能量CT ”的逆幾何實(shí)現(xiàn)方式。在可替代的實(shí)施例中，根據(jù)本發(fā)明而提出的檢查裝置、特別是逆CT系統(tǒng)裝備有能量鑒別計(jì)數(shù)模式探測(cè)器。再者，優(yōu)點(diǎn)是由于較少的探測(cè)器面積而導(dǎo)致的硬件成本的減少。計(jì)數(shù)模式探測(cè)器覆蓋X射線強(qiáng)度的有限的動(dòng)態(tài)范圍。為了更好地應(yīng)對(duì)該特征，能夠建立用于調(diào)節(jié)X射線強(qiáng)度的、包含探測(cè)器像素和X射線源的控制回路。以該方式，成像系統(tǒng)具有擁有有效劑量感測(cè)能力的探測(cè)器，聯(lián)合具有虛擬領(lǐng)結(jié)濾波器的X射線源。控制回路的一個(gè)實(shí)現(xiàn)方式例如在存在著至少一個(gè)探測(cè)器像素計(jì)數(shù)率飽和的指示的情況下執(zhí)行X射線源電流的減少。在優(yōu)選的實(shí)施例中，存在著大量高壓線73，如在圖5中所示地，其由包括一個(gè)或多個(gè)高壓發(fā)生器的高壓發(fā)生器單元7 供應(yīng)并且典型地高達(dá)150kV。例如，能夠存在著具有固定電壓的、用于雙能量電源的兩個(gè)高壓發(fā)生器或用于三能量電源的三個(gè)高壓發(fā)生器?？商娲兀軌虼嬖谥鴥蓚€(gè)高壓發(fā)生器，其中，發(fā)生器之一將電壓提供至一個(gè)或多個(gè)激活的X射線源，并且，另一發(fā)生器切換為接下來(lái)需要的下一個(gè)(更高或更低)的電壓。這能夠通過(guò)將最低的高壓設(shè)置用作參考并針對(duì)其他設(shè)置而增加一定量的電位來(lái)實(shí)現(xiàn)。各個(gè)源1如、1恥……15x的陽(yáng)極155動(dòng)態(tài)地連接至不同的高壓線73。每個(gè)源的相應(yīng)的聚焦電極153、巧4和柵電極152連接至另外的電壓源72b，并且，設(shè)置為陽(yáng)極電位的固定分?jǐn)?shù)。時(shí)間控制復(fù)用器74根據(jù)源切換模式而將多組陽(yáng)極154(并且，根據(jù)可替代的實(shí)施例， 聚焦電極153、巧4和柵電極15 動(dòng)態(tài)地連接至相應(yīng)的高壓電源線73(用于陽(yáng)極)、75(用于聚焦電極153、巧4和柵電極152)。復(fù)用器74例如由同樣連接至數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)(在圖1 中為34)的微處理器或FPGA 71控制，以便進(jìn)行X射線發(fā)生器和探測(cè)器的時(shí)間同步。在實(shí)施例中，使用像素化探測(cè)器，該像素化探測(cè)器具有硫氧化釓(GOS)的頂層和 GOS的底層，以及側(cè)面的光電二極管讀出。根據(jù)另一實(shí)施例，使用例如由Cd(Zn)Te制成的像素化半導(dǎo)體傳感器和相關(guān)聯(lián)的計(jì)數(shù)電子設(shè)備，該計(jì)數(shù)電子設(shè)備例如具有每個(gè)像素中的整形放大器、鑒別器以及相應(yīng)的計(jì)數(shù)器。在圖7中示出了針對(duì)這樣的檢查裝置實(shí)施例的控制回路實(shí)施例的方框圖。所述控制回路防止探測(cè)器18的探測(cè)器像素中的計(jì)數(shù)率飽和。在每個(gè)電子像素80中，存在著輸出溢出標(biāo)志(0F)82的溢出探測(cè)單元81。在比用于計(jì)數(shù)器83的讀出的幀時(shí)間更短的預(yù)定時(shí)間間隔(‘子幀’)內(nèi)執(zhí)行溢出探測(cè)。由數(shù)字信號(hào)OF啟用定義子幀時(shí)間間隔。在每個(gè)子幀之后， 由能夠執(zhí)行得相當(dāng)快的OR電路84將所有像素的OF結(jié)合。如果至少一個(gè)像素指示溢出，那么，由電流控制單元85減少管電流，并且，重置飽和像素的計(jì)數(shù)器83。如果無(wú)像素指示溢出，那么，包括溢出探測(cè)和電流減少的回路停止。計(jì)數(shù)器83的幀讀出還優(yōu)選地捕獲采集時(shí)間幀期間的通道中的重置的數(shù)量。以該方式，未遭受溢出的像素和在一個(gè)或多個(gè)仍具有合理統(tǒng)計(jì)的子幀中溢出的像素未喪失光子登記(registration)。OF能夠從計(jì)數(shù)器83中的條目、隨時(shí)間變化的閾值的信息推導(dǎo)，或者，能夠從例如利用CIX類型的讀出電子設(shè)備(由適當(dāng)?shù)碾娮釉O(shè)備基于信號(hào)復(fù)制而促進(jìn)同步計(jì)數(shù)和積分)來(lái)測(cè)量的子幀中的積分的電荷推導(dǎo)。根據(jù)應(yīng)用而選擇檢查裝置的幾何結(jié)構(gòu)。如上面所提到地，在一個(gè)場(chǎng)景中，源陣列和探測(cè)器安裝在CT掃描架上，并且，在數(shù)據(jù)采集期間，圍繞對(duì)象旋轉(zhuǎn)。在另一場(chǎng)景中，探測(cè)器和源陣列仍然是固定的，并且，以減少的一組視角對(duì)對(duì)象進(jìn)行采樣。
根據(jù)各種技術(shù)而進(jìn)行圖像重建。一種可應(yīng)用的技術(shù)是如例如在DcAbins J. ， “ Digital χ-ray tomosynthesis current state of the art and clinical potential" , Phys. Med. Biol. 48 (2003) R65-R106中所描述的斷層合成。然而，也能夠應(yīng)用本身在本領(lǐng)域中眾所周知的其他技術(shù)，例如濾波反投影(Feldkamp)或迭代算法。在該模式下，能夠根據(jù)由控制回路設(shè)置的最終束強(qiáng)度而動(dòng)態(tài)地調(diào)整幀時(shí)間。也有可能針對(duì)一對(duì)發(fā)射器而將單個(gè)陽(yáng)極用作公共陽(yáng)極，或者，為單個(gè)發(fā)射器提供一對(duì)陽(yáng)極。例如，能夠提供不同材料的陽(yáng)極，例如以發(fā)射不同的或重疊的能量譜。圖8示出的示意解說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的針對(duì)X射線源的另一切換方案。根據(jù)該實(shí)施例，并非每次開啟一個(gè)X射線源，而是成組地開啟。例如，在時(shí)間、利用高壓U1來(lái)開啟第一組源15a、15d、15g，并且，在時(shí)間t2關(guān)閉。此后，利用另一組源15b、15e、15h來(lái)繼續(xù)進(jìn)行掃描，此后，利用X射線發(fā)生器的一組源15c、15f、15i來(lái)繼續(xù)進(jìn)行掃描。在時(shí)間t3，利用高壓U2再次激活第一組源15a、15d、15g。在t2和t3之間的時(shí)間間隔期間，將用于該組源 15a、15d、15g的高壓源從U1切換為U20優(yōu)選地，分配至特定的組的X射線源不具有或幾乎不具有能量譜的重疊。使用的能量分辨探測(cè)器被調(diào)諧為使得能夠以高概率將記錄的光子分配至激活的源之一。以該方式，與必須減去具有較高所得量子噪聲的兩個(gè)(較大)的數(shù)字的常規(guī)的方法相比，泊松誤差相當(dāng)?shù)汀?yōu)點(diǎn)再次是快速定時(shí)，運(yùn)動(dòng)偽影較少。本發(fā)明的主要應(yīng)用是具有能量分辨率的計(jì)算機(jī)斷層攝影或具有能量分辨率的投影成像或可以從能量分辨X射線光子計(jì)數(shù)中獲益的任何其他應(yīng)用。雖然已在附圖中并在前述的描述中詳細(xì)地圖解說(shuō)明并描述本發(fā)明，但這樣的圖解說(shuō)明和描述將被認(rèn)為是圖解說(shuō)明性的或示范性的而非限制性的；本發(fā)明不限于所公開的實(shí)施例。本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)對(duì)附圖、公開以及所附權(quán)利要求書的研究通過(guò)實(shí)踐所主張的發(fā)明能夠理解并實(shí)行對(duì)所公開的實(shí)施例的其他變型。在權(quán)利要求書中，詞語(yǔ)“包括”不排除其他元件或步驟，并且，不定冠詞“一”或“一個(gè)”不排除多個(gè)。單個(gè)元件或其他單元可以完成在權(quán)利要求書中列舉的若干項(xiàng)的功能。在互不相同的從屬權(quán)利要求中列舉某些措施的這一事實(shí)并不指示這些措施的組合不能用于獲利。計(jì)算機(jī)程序可以存儲(chǔ)/分布在合適的介質(zhì)上，例如與其他硬件一起或作為其他硬件的一部分而供應(yīng)的光學(xué)存儲(chǔ)介質(zhì)或固態(tài)介質(zhì)，但也可以以諸如經(jīng)由互聯(lián)網(wǎng)或者其他有線或無(wú)線通信系統(tǒng)的其他形式分布。不應(yīng)將權(quán)利要求書中的任何附圖標(biāo)記解釋為限制范圍。
權(quán)利要求
1.一種X射線檢查裝置，其包括-X射線源單元(14)，其包括用于在多個(gè)位置處發(fā)射X射線(24)的多個(gè)X射線源(15)，-X射線探測(cè)單元(18)，其用于探測(cè)從一個(gè)或多個(gè)所述X射線源(1 發(fā)射的且穿透所述X射線源單元(14)和所述X射線探測(cè)單元(18)之間的檢查區(qū)(19)之后的X射線，并且， 用于生成探測(cè)信號(hào)，-處理單元(36)，其用于處理所生成的探測(cè)信號(hào)，以及-控制單元( )，其用于控制所述X射線源(1 來(lái)隨后單獨(dú)地或成組地以至少兩個(gè)不同的能量譜發(fā)射X射線，使得在切換特定的X射線源(15a)或所述成組的X射線源(15a、 15d、15g)從而以不同的能量譜發(fā)射X射線的時(shí)間間隔中，關(guān)閉所述特定的X射線源(15a) 或所述成組的X射線源(lfe、15d、15g)，并且，隨后開啟一個(gè)或多個(gè)其他X射線源(15b、 15c)或其他成組的X射線源(15b、15e、15h ;15c、15f、15i)以發(fā)射X射線。
2.如權(quán)利要求1所述的X射線檢查裝置，其中，所述控制單元06)適于控制所述X射線源(15)，使得切換所述特定的X射線源(15a)或所述成組的X射線源(15a、15d、15g)從而盡可能快地以所述不同的能量譜發(fā)射X射線。
3.如權(quán)利要求1所述的X射線檢查裝置，其中，所述控制單元06)適于控制所述X射線源(15)，使得所述一個(gè)或多個(gè)其他X射線源(15b、15c)或所述其他成組的X射線源(15b、 15e、15h;15c、15f、15i)以所述能量譜發(fā)射X射線，所述一個(gè)或多個(gè)其他X射線源(15b、 15c)或所述其他成組的X射線源(1 、巧e、Mh ； 15c、15f、15i)隨后在切換所述特定的X射線源(15a)或所述成組的X射線源(15a、15d、15g)的所述時(shí)間間隔期間被開啟以發(fā)射X射線，所述特定的X射線源(15a)或所述成組的X射線源(15a、15d、15g)先前以所述能量譜已經(jīng)發(fā)射了 X射線或在將其切換之后以所述能量譜發(fā)射X射線。
4.如權(quán)利要求1所述的X射線檢查裝置，其中，所述控制單元06)適于控制所述X射線源(15)來(lái)成組地發(fā)射X射線，使得第一組X射線源的X射線源(15a、15b、15c)隨后單獨(dú)且分開地以所述至少兩個(gè)不同的能量譜發(fā)射X射線，并且此后，其他成組的X射線源的X射線源(15d、15e、15f)隨后單獨(dú)且分開地以所述至少兩個(gè)不同的能量譜發(fā)射X射線。
5.如權(quán)利要求1所述的X射線檢查裝置，其中，所述控制單元06)適于通過(guò)改變X射線源電壓、特別是改變提供至X射線源(15)的陽(yáng)極(155)的電壓而切換所述X射線源(15) 從而以不同的能量譜發(fā)射X射線。
6.如權(quán)利要求5所述的X射線檢查裝置，還包括具有若干高壓電源線(73)的高壓電源單元(72)，并且其中，所述控制單元06)包括用于根據(jù)切換模式而將所述X射線源(15) 動(dòng)態(tài)地連接至相應(yīng)的電源線(73)的復(fù)用器(74)。
7.如權(quán)利要求1所述的X射線檢查裝置，其中，所述X射線源(15)是分布式X射線源， 特別是基于場(chǎng)發(fā)射器的X射線源，例如具有基于碳納米管的場(chǎng)發(fā)射器的微聚焦X射線源。
8.如權(quán)利要求1所述的X射線檢查裝置，還包括掃描架(17)，所述X射線源單元(14) 和所述X射線探測(cè)單元(18)安裝在所述掃描架上，并且，所述掃描架配置為圍繞所述檢查區(qū)(19)旋轉(zhuǎn)。
9.如權(quán)利要求1所述的X射線檢查裝置，其中，所述X射線探測(cè)單元(18)包括多層探測(cè)器，每層適于探測(cè)預(yù)定的能量譜下的X射線，所述X射線探測(cè)單元特別包括雙層探測(cè)器。
10.如權(quán)利要求1所述的X射線檢查裝置，其中，所述X射線探測(cè)單元(18)包括能量鑒別且光子計(jì)數(shù)的探測(cè)器。
11.如權(quán)利要求10所述的X射線檢查裝置，還包括溢出探測(cè)器件(81)，其用于探測(cè)在 X射線探測(cè)期間在所述X射線探測(cè)器(18)的任何像素(80)中是否存在著溢出，并且其中， 所述控制單元06)適于減少提供至激活的X射線源(15)的電流。
12.如權(quán)利要求1所述的X射線檢查裝置，其中，所述控制單元06)適于控制所述X射線源(15)以成組地發(fā)射X射線，使得第一組X射線源(15a、15d、15g)利用重疊的能量譜來(lái)發(fā)射X射線，并且此后，其他成組的X射線源(1 、巧e、Mh ；15c、15f、15i)隨后分開地以特別是相同的能量譜發(fā)射X射線。
13.一種X射線檢查方法，其包括-由包括多個(gè)X射線源(15)的X射線源單元(14)在多個(gè)位置處發(fā)射X射線04)，-探測(cè)從一個(gè)或多個(gè)所述X射線源(1 發(fā)射的且穿透所述X射線源單元(14)和X射線探測(cè)單元(18)之間的檢查區(qū)(19)之后的X射線，并且，生成探測(cè)信號(hào)，-處理所生成的探測(cè)信號(hào)，以及-控制所述X射線源(1 來(lái)隨后單獨(dú)地或成組地以至少兩個(gè)不同的能量譜發(fā)射X射線，使得在切換特定的X射線源(15a)或所述成組的X射線源組(15a、15d、15g)從而以不同的能量譜發(fā)射X射線的時(shí)間間隔中，關(guān)閉所述特定的X射線源(15a)或所述成組的X射線源組(lfe、15d、15g)，并且，隨后分開地開啟一個(gè)或多個(gè)其他X射線源(15b、15c)或其他成組的X射線源(15b、15e、15h ;15c、15f、15i)以發(fā)射X射線。
14.一種計(jì)算機(jī)程序，其包括程序代碼段，用于當(dāng)在計(jì)算機(jī)上執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)令計(jì)算機(jī)控制如權(quán)利要求1所述的X射線檢查裝置以執(zhí)行如權(quán)利要求13所述的方法的步驟。
全文摘要
本發(fā)明涉及通過(guò)逆幾何CT而實(shí)現(xiàn)譜X射線成像設(shè)備的檢查裝置和相應(yīng)的方法。所提出的檢查裝置包括X射線源單元(14)，其包括用于在多個(gè)位置處發(fā)射X射線(24)的多個(gè)X射線源(15)；X射線探測(cè)單元(18)，其用于探測(cè)從一個(gè)或多個(gè)所述X射線源(15)發(fā)射的且穿透所述X射線源單元(14)和所述X射線探測(cè)單元(18)之間的檢查區(qū)(19)之后的X射線，并且用于生成探測(cè)信號(hào)；處理單元(36)，其用于處理所生成的探測(cè)信號(hào)；以及控制單元(26)，其用于控制所述X射線源(15)來(lái)隨后單獨(dú)地或成組地以至少兩個(gè)不同的能量譜發(fā)射X射線，使得在切換特定的X射線源(15a)或所述成組的X射線源(15a、15d、15g)從而以不同的能量譜發(fā)射X射線的時(shí)間間隔中，關(guān)閉所述特定的X射線源(15a)或所述成組的X射線源(15a、15d、15g)，并且，隨后開啟一個(gè)或多個(gè)其他X射線源(15b、15c)或其他成組的X射線源(15b、15e、15h；15c、15f、15i)以發(fā)射X射線。
文檔編號(hào)A61B6/03GK102256548SQ200980150981
公開日2011年11月23日 申請(qǐng)日期2009年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月17日
發(fā)明者C·博伊默, G·福格特米爾 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司