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高隔熱節(jié)能防爆膜的制作方法與工藝

文檔序號:11965894閱讀:254來源:國知局
高隔熱節(jié)能防爆膜的制作方法與工藝
本發(fā)明涉及一種節(jié)能防爆膜,屬于膠粘材料技術領域。

背景技術:
目前建筑物和一般場所使用的玻璃以及汽車車身上使用的玻璃一般都是單純的玻璃,單純的玻璃雖然具有透光度好,便于觀察外界情況和便于駕駛員觀察道路交通情況以及車內(nèi)乘坐人員觀察車外的情況,一方面,但玻璃外面的太陽光和其它光線往往會影響玻璃內(nèi)面人員和汽車駕駛員的眼睛和視覺;另一方面,玻璃外面的陽光會透過玻璃曬熱玻璃內(nèi)面和汽車內(nèi)部,使玻璃內(nèi)面和汽車內(nèi)部溫度增高,更為嚴重的是當發(fā)生意外而導致玻璃破碎時,破碎的玻璃飛散會傷害周邊人員,因此,玻璃后面和汽車內(nèi)往往安裝布簾,以遮擋陽光和隔熱,目前則采用粘貼塑料薄膜的方法,但是在隔熱性能上本領域技術人員未能給予足夠的重視。因此,如何提高隔熱效率,又能保證很高的可見光的透過率,以達到既節(jié)能又高透明是本領域技術人員努力的方向。同時,在柔性基材(塑料薄膜)磁控濺射生產(chǎn)高透明高隔熱的防爆膜也是本領域技術人員努力的方向。

技術實現(xiàn)要素:
本發(fā)明目的是提供一種高隔熱節(jié)能防爆膜,該高隔熱節(jié)能防爆膜既有利于將反射和阻隔太陽光線中的紅外線,隔熱效果顯著,又能更好的保護磁控濺射金屬層,防止金屬氧化,提高和保證了產(chǎn)品的性能和使用壽命,從而可適用于要求更高的場所;本發(fā)明同時提供上述高透高隔熱節(jié)能防爆膜的制備工藝。為達到上述目的,本發(fā)明采用的技術方案是:一種高隔熱節(jié)能防爆膜,包括一熱穩(wěn)定性聚酯薄膜層,此熱穩(wěn)定性聚酯薄膜層一表面磁控濺射有第一金屬銦層,此第一金屬銦層另一表面磁控濺射有作為隔熱層的金屬銀層或金屬鋁層,此金屬銀層或金屬鋁層另一表面磁控濺射有第二金屬銦層;所述第一金屬銦層厚度為5nm,所述金屬銀層或金屬鋁層厚度為20nm,所述第二金屬銦層8nm;所述高隔熱節(jié)能防爆膜通過以下工藝獲得:步驟一、制備一聚酯薄膜,厚度為40μm,所述聚酯薄膜為熱穩(wěn)定性聚酯薄膜;步驟二、在步驟一的熱穩(wěn)定性聚酯薄膜上磁控濺射沉積作為防氧化保護的第一金屬銦層,工藝條件為:采用純度為99.99%的銦的靶材,濺射氣體為99.999%的高純氬氣,腔體內(nèi)部的真空度為6.1×10-4Pa,工作壓力設為0.7Pa,靶材距離固定在75mm,氬氣的流量為22sccm,銦的濺射功率是40W,濺射速率分別4.0nm/min,第一金屬銦層厚度為5nm;步驟三、在第一金屬銦層另一表面磁控濺射沉積一隔熱層,此隔熱層金屬銀層,工藝條件為:純度為99.99%銀的靶材,濺射氣體為99.999%高純氬氣,腔體內(nèi)部的真空度為6.1×10-4Pa,工作壓力設為0.7Pa,靶材距離固定在75mm,氬氣的流量為22sccm,銀靶材濺射功率是40W,濺射速率為6.4nm/min,所述隔熱層厚度為20nm;步驟四、然后在步驟三的隔熱層另一表面磁控濺射沉積第二金屬銦層,工藝條件為:銦靶材純度為99.99%,濺射氣體為99.999%的高純氬氣,腔體內(nèi)部的真空度為6.1×10-4Pa,工作壓力設為0.7Pa,靶材距離固定在75mm,氬氣的流量為22sccm,銦的濺射功率都是40W,濺射速率分別4.0nm/min,所述第二金屬銦層厚度為8nm;在所述步驟四中第二金屬銦層濺射前,先對銦靶材進行5min的預濺射,以除去靶表面殘留的氧化物和污染物。上述技術方案中進一步改進的方案如下:1、上述方案中,所述熱穩(wěn)定性聚酯薄膜層磁控濺射前在150~160℃下進行預熱收縮處理。2、上述方案中,所述熱穩(wěn)定性聚酯薄膜層和第一金屬銦層之間涂覆有丙烯酸乳液層。3、上述方案中,所述熱穩(wěn)定性聚酯薄膜層厚度為15~70μm。4、上述方案中,所述隔熱層為金屬鋁層,此金屬鋁層厚度為20~50nm。由于上述技術方案運用,本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比具有下列優(yōu)點和效果:1、本發(fā)明高隔熱節(jié)能防爆膜,其基材層一表面磁控濺射有第一金屬銦層,此金屬銦層另一表面磁控濺射有作為隔熱層的金屬銀層或金屬鋁層,此金屬銀層或金屬鋁層另一表面磁控濺射有第二金屬銦層,所述第一金屬銦層厚度為2~15nm,所述金屬銀層或金屬鋁層厚度為8~55nm,所述第二金屬銦層5~20nm,既有利于將磁控濺射金屬層可以反射和阻隔太陽光線中的紅外線,隔熱效果顯著,又能更好的保護磁控濺射金屬層,防止金屬氧化,提高和保證了產(chǎn)品的性能和使用壽命,從而可適用于要求更高的場所。2、本發(fā)明高隔熱節(jié)能防爆膜,其塑料基膜在150~160℃下進行預熱收縮處理,提高了塑料基膜的分子取向,同時,提高塑料基膜結晶度和完善晶格結構,從而提高了塑料基膜熱穩(wěn)定性,具體數(shù)據(jù),普通塑料基膜的熱收縮一般是1~3%,避免了塑料基膜在磁控濺射時熱收縮和變形,大大提高了產(chǎn)品的。3、本發(fā)明高隔熱節(jié)能防爆膜,其塑料基膜和第一金屬銦層之間涂覆有丙烯酸乳液層,塑料基膜與磁控濺射的金屬層具有更好的附著力,且產(chǎn)品具有更高的可見光透過率,具體數(shù)據(jù)如下:普通塑料基膜的可見光透過率88~90%,但本發(fā)明,可達到92~95%;尤其是,在基材層磁控濺射前在150~160℃下進行預熱收縮處理后再在第一金屬銦層之間涂覆有丙烯酸乳液層,提高透光率的同時,也提高了PET薄膜與磁控濺射的金屬銦層的附著力;本發(fā)明優(yōu)選了金屬銦層和隔熱層厚度,既實現(xiàn)了防腐蝕效果,又保證了隔熱效果和可見光的透過率。附圖說明附圖1為本發(fā)明高隔熱節(jié)能防爆膜結構示意圖一;附圖2為本發(fā)明高隔熱節(jié)能防爆膜結構示意圖二。以上附圖中:1、基材層;2、第一金屬銦層;31、金屬銀層;32、金屬鋁層;4、第二金屬銦層。具體實施方式下面結合實施例對本發(fā)明作進一步描述:實施例1:一種高隔熱節(jié)能防爆膜,包括一熱穩(wěn)定性聚酯薄膜層1,此熱穩(wěn)定性聚酯薄膜層1一表面磁控濺射有第一金屬銦層2,此第一金屬銦層2另一表面磁控濺射有作為隔熱層的金屬銀層31或金屬鋁層32,此金屬銀層31或金屬鋁層32另一表面磁控濺射有第二金屬銦層4;所述第一金屬銦層厚度為5nm,所述金屬銀層或金屬鋁層厚度為20nm,所述第二金屬銦層8nm;所述高隔熱節(jié)能防爆膜通過以下工藝獲得:步驟一、制備一聚酯薄膜,厚度為40μm,所述聚酯薄膜為熱穩(wěn)定性聚酯薄膜;步驟二、在步驟一的熱穩(wěn)定性聚酯薄膜上磁控濺射沉積作為防氧化保護的第一金屬銦層,工藝條件為:采用純度為99.99%的銦In的靶材,濺射氣體為99.999%的高純氬氣,腔體內(nèi)部的真空度為6.1×10-4Pa,工作壓力設為0.7Pa,靶材距離固定在75mm,氬氣的流量為22sccm,銦In的濺射功率是40W,濺射速率分別4.0nm/min,第一金屬銦層厚度為5nm;步驟三、在第一金屬銦層另一表面磁控濺射沉積一隔熱層,此隔熱層金屬銀層,工藝條件為:純度為99.99%銀的靶材,濺射氣體為99.999%高純氬氣,腔體內(nèi)部的真空度為6.1×10-4Pa,工作壓力設為0.7Pa,靶材距離固定在75mm,氬氣的流量為22sccm,銀靶材濺射功率是40W,濺射速率為6.4nm/min,所述隔熱層厚度為20nm;步驟四、然后在步驟三的隔熱層另一表面磁控濺射沉積第二金屬銦層,工藝條件為:銦靶材純度為99.99%,濺射氣體為99.999%的高純氬氣,腔體內(nèi)部的真空度為6.1×10-4Pa,工作壓力設為0.7Pa,靶材距離固定在75mm,氬氣的流量為22sccm,銦的濺射功率都是40W,濺射速率分別4.0nm/min,所述第二金屬銦層厚度為8nm;在所述步驟四中第二金屬銦層濺射前,先對銦靶材進行5min的預濺射,以除去靶表面殘留的氧化物和污染物。上述熱穩(wěn)定性聚酯薄膜層磁控濺射前在150~160℃下進行預熱收縮處理。所述熱穩(wěn)定性聚酯薄膜層厚度為15~70μm。實施例2:一種高隔熱節(jié)能防爆膜,包括一熱穩(wěn)定性聚酯薄膜層1,此熱穩(wěn)定性聚酯薄膜層1一表面磁控濺射有第一金屬銦層2,此第一金屬銦層2另一表面磁控濺射有作為隔熱層的金屬銀層31或金屬鋁層32,此金屬銀層31或金屬鋁層32另一表面磁控濺射有第二金屬銦層4;所述第一金屬銦層厚度為5nm,所述金屬銀層或金屬鋁層厚度為20nm,所述第二金屬銦層8nm;所述高隔熱節(jié)能防爆膜通過以下工藝獲得:步驟一、制備一聚酯薄膜,厚度為40μm,所述聚酯薄膜為熱穩(wěn)定性聚酯薄膜;步驟二、在步驟一的熱穩(wěn)定性聚酯薄膜上磁控濺射沉積作為防氧化保護的第一金屬銦層,工藝條件為:采用純度為99.99%的銦In的靶材,濺射氣體為99.999%的高純氬氣,腔體內(nèi)部的真空度為6.1×10-4Pa,工作壓力設為0.7Pa,靶材距離固定在75mm,氬氣的流量為22sccm,銦In的濺射功率是40W,濺射速率分別4.0nm/min,第一金屬銦層厚度為5nm;步驟三、在第一金屬銦層另一表面磁控濺射沉積一隔熱層,此隔熱層金屬銀層,工藝條件為:純度為99.99%銀的靶材,濺射氣體為99.999%高純氬氣,腔體內(nèi)部的真空度為6.1×10-4Pa,工作壓力設為0.7Pa,靶材距離固定在75mm,氬氣的流量為22sccm,銀靶材濺射功率是40W,濺射速率為6.4nm/min,所述隔熱層厚度為20nm;步驟四、然后在步驟三的隔熱層另一表面磁控濺射沉積第二金屬銦層,工藝條件為:銦靶材純度為99.99%,濺射氣體為99.999%的高純氬氣,腔體內(nèi)部的真空度為6.1×10-4Pa,工作壓力設為0.7Pa,靶材距離固定在75mm,氬氣的流量為22sccm,銦的濺射功率都是40W,濺射速率分別4.0nm/min,所述第二金屬銦層厚度為8nm;在所述步驟四中第二金屬銦層濺射前,先對銦靶材進行5min的預濺射,以除去靶表面殘留的氧化物和污染物。上述熱穩(wěn)定性聚酯薄膜層磁控濺射前在150~160℃下進行預熱收縮處理。上述熱穩(wěn)定性聚酯薄膜層和第一金屬銦層之間涂覆有丙烯酸乳液層。上述實施例只為說明本發(fā)明的技術構思及特點,其目的在于讓熟悉此項技術的人士能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并據(jù)以實施,并不能以此限制本發(fā)明的保護范圍。凡根據(jù)本發(fā)明精神實質(zhì)所作的等效變化或修飾,都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
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