本技術(shù)涉及顯示屏封裝領(lǐng)域,尤其涉及一種預(yù)防frit熔接時金屬導(dǎo)線燒傷的oled膜層結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù):
1、amoled是時下最為熱門的顯示技術(shù),具有自發(fā)光、響應(yīng)速度快、高對比度等特點(diǎn)。amoled封裝有柔性封裝與剛性封裝,其中剛性封裝的最主要方式是frit封裝。frit封裝的具體過程為:將蒸鍍了有機(jī)發(fā)光材料的tft器件與網(wǎng)印了frit框膠的玻璃蓋板通過高功率紅外激光燒結(jié)的方式熔接在一起形成合板,frit框膠起到隔絕水氧的作用,對合板內(nèi)的有機(jī)發(fā)光材料形成保護(hù)。
2、紅外激光熔接frit框膠的瞬時溫度可達(dá)800℃以上,而frit框膠正下方連接的tft器件內(nèi)金屬導(dǎo)線是多層金屬結(jié)構(gòu)(mo-al-mo),該金屬導(dǎo)線在經(jīng)過“常溫-800℃-常溫”的溫變過程后,易使金屬mo層和金屬al層之間因應(yīng)力作用而產(chǎn)生膜層褶皺,使得導(dǎo)電效果變差,進(jìn)而使顯示效果變差,產(chǎn)品良率降低。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題,在于提供一種預(yù)防frit熔接時金屬導(dǎo)線燒傷的oled膜層結(jié)構(gòu),以達(dá)到紅外激光熔接frit框膠時避免發(fā)生下方tft器件的金屬線被燒傷的目的。
2、本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的:
3、一種預(yù)防frit熔接時金屬導(dǎo)線燒傷的oled膜層結(jié)構(gòu),從上至下依次包括位于玻璃基板和玻璃蓋板之間的發(fā)光層、有機(jī)膜層及其下方疊加的若干無機(jī)膜層;所述有機(jī)膜層兩側(cè)的frit膠將面板分為內(nèi)部顯示區(qū)和兩側(cè)的封裝區(qū);在所述frit膠下方的封裝區(qū)依次增設(shè)新的無機(jī)膜層和隔熱膜層。
4、進(jìn)一步地,所述隔熱膜層包括基材,以及在基材上覆蓋的納米纖維膜層。
5、更進(jìn)一步地,所述基材為聚酰亞胺膜層。
6、更進(jìn)一步地,所述納米纖維膜層為氧化鋯-氧化硅纖維膜層。
7、進(jìn)一步地,所述若干無機(jī)膜層由下至上依次包括第一無機(jī)膜層、第二無機(jī)膜層。
8、本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:針對現(xiàn)有frit熔接時金屬導(dǎo)線被燒傷的問題,本實(shí)用新型提出了一種新的oled器件膜層結(jié)構(gòu),該結(jié)構(gòu)不僅可以保護(hù)tft器件金屬導(dǎo)線在frit熔接不被激光燒傷,還具有反射熱量的功能,間接提升frit框膠的熔接效果,提升產(chǎn)品良率。
1.一種預(yù)防frit熔接時金屬導(dǎo)線燒傷的oled膜層結(jié)構(gòu),從上至下依次包括位于玻璃基板和玻璃蓋板之間的發(fā)光層、有機(jī)膜層及其下方疊加的若干無機(jī)膜層;所述有機(jī)膜層兩側(cè)的frit膠將面板分為內(nèi)部顯示區(qū)和兩側(cè)的封裝區(qū);其特征在于:在所述frit膠下方的封裝區(qū)依次增設(shè)新的無機(jī)膜層和隔熱膜層。
2.如權(quán)利要求1所述的預(yù)防frit熔接時金屬導(dǎo)線燒傷的oled膜層結(jié)構(gòu),其特征在于:所述隔熱膜層包括基材,以及在基材上覆蓋的納米纖維膜層。
3.如權(quán)利要求2所述的預(yù)防frit熔接時金屬導(dǎo)線燒傷的oled膜層結(jié)構(gòu),其特征在于:所述基材為聚酰亞胺膜層。
4.如權(quán)利要求2所述的預(yù)防frit熔接時金屬導(dǎo)線燒傷的oled膜層結(jié)構(gòu),其特征在于:所述納米纖維膜層為氧化鋯-氧化硅纖維膜層。
5.如權(quán)利要求1所述的預(yù)防frit熔接時金屬導(dǎo)線燒傷的oled膜層結(jié)構(gòu),其特征在于:所述若干無機(jī)膜層由下至上依次包括第一無機(jī)膜層、第二無機(jī)膜層。