本實用新型涉及烹飪器具領(lǐng)域,特別涉及一種線圈盤組件和電磁烹飪器具。
背景技術(shù):
現(xiàn)有采用電磁加熱方式的線圈盤,其上設(shè)置的線圈一般為同心圓繞組,同心圓繞組的線圈盤,繞組中間圓環(huán)位置的磁場相對繞組中心和外圍其他位置的磁場要強(qiáng),鍋具加熱時,對應(yīng)繞組中間圓環(huán)位置的溫度相對其他位置要高,如此鍋具各部分受熱不均勻,易導(dǎo)致鍋具糊鍋、變形和烹飪效果不佳等問題。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本實用新型的主要目的是提出一種線圈盤組件,旨在提高線圈盤上各處磁場的均勻性,以使得鍋具受熱更加均勻。
為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提出的線圈盤組件,用于電磁烹飪器具,包括:
線圈盤座,具有由外層向內(nèi)層依次設(shè)置的第一繞設(shè)區(qū)域和第二繞設(shè)區(qū)域;
異形線圈繞組,呈環(huán)形且設(shè)于所述第一繞設(shè)區(qū)域,所述異形線圈繞組具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部,每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成,相鄰兩所述凸部之間形成所述異形線圈繞組的凹部;
圓環(huán)形線圈繞組,設(shè)于所述第二繞設(shè)區(qū)域;
多個第一磁條,設(shè)于所述線圈盤座,并橫跨所述第一繞設(shè)區(qū)域設(shè)置;
多個第二磁條,設(shè)于所述線圈盤座,并橫跨所述第二繞設(shè)區(qū)域設(shè)置,所述第二磁條的高度小于所述第一磁條的高度,和/或所述第二磁條的寬度小于所述第一磁條的寬度。
優(yōu)選地,所述第一磁條包括橫跨所述第一繞設(shè)區(qū)域的第一本體,所述第一本體兩端分別凸設(shè)有伸入至所述線圈盤座的第一加強(qiáng)體;所述第二磁條包括橫跨所述第二繞設(shè)區(qū)域的第二本體,所述第二本體兩端分別凸設(shè)有伸入至所述線圈盤座的第二加強(qiáng)體;其中,所述第二加強(qiáng)體的高度小于所述第一加強(qiáng)體的高度。
優(yōu)選地,所述第一磁條的內(nèi)端對應(yīng)位于一所述凸部所限定的內(nèi)部區(qū)域,所述第一磁條的外端對應(yīng)位于所述凹部所限定出的外部區(qū)域。
優(yōu)選地,每一所述凹部對應(yīng)設(shè)有兩個所述第一磁條,且同一所述凹部的兩個第一磁條自外端朝內(nèi)端呈逐漸遠(yuǎn)離設(shè)置。
優(yōu)選地,所述第二磁條的外端指向所述凹部,并位于兩所述第一磁條之間的區(qū)域。
優(yōu)選地,每一所述凸部對應(yīng)設(shè)有兩個所述第一磁條,且同一所述凸部的兩個第一磁條自內(nèi)端朝外端呈逐漸遠(yuǎn)離設(shè)置。
優(yōu)選地,所述第二磁條的外端指向所述凸部,并指向兩所述第一磁條的內(nèi)端設(shè)置。
優(yōu)選地,所述凸部的數(shù)量為4-10個。
本實用新型還提出一種電磁烹飪器具,所述電磁烹飪器具包括線圈盤組件,所述線圈盤組件包括:
線圈盤座,具有由外層向內(nèi)層依次設(shè)置的第一繞設(shè)區(qū)域和第二繞設(shè)區(qū)域;
異形線圈繞組,呈環(huán)形且設(shè)于所述第一繞設(shè)區(qū)域,所述異形線圈繞組具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部,每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成,相鄰兩所述凸部之間形成所述異形線圈繞組的凹部;
圓環(huán)形線圈繞組,設(shè)于所述第二繞設(shè)區(qū)域;
多個第一磁條,設(shè)于所述線圈盤座,并橫跨所述第一繞設(shè)區(qū)域設(shè)置;
多個第二磁條,設(shè)于所述線圈盤座,并橫跨所述第二繞設(shè)區(qū)域設(shè)置,所述第二磁條的高度小于所述第一磁條的高度,和/或所述第二磁條的寬度小于所述第一磁條的寬度。
優(yōu)選地,所述電磁烹飪器具為電磁爐、電飯煲或電壓力鍋。
由于線圈盤座靠內(nèi)的位置的磁感線為兩個線圈繞組產(chǎn)生的磁感線的疊加,靠外的位置僅具有位于外圍的線圈繞組產(chǎn)生的磁感線,如此,線圈盤座靠內(nèi)的位置磁場強(qiáng)度較強(qiáng),靠外的位置磁場強(qiáng)度較弱。因而本實用新型技術(shù)方案中,通過在靠外的異形線圈繞組上對應(yīng)設(shè)置高度和/或?qū)挾雀蟮牡谝淮艞l,在靠內(nèi)的圓環(huán)形線圈繞組設(shè)置高度和/或?qū)挾雀〉牡诙艞l,如此第一磁條產(chǎn)生的磁感線更多更密集,聚磁效果更好,使得磁場更多地聚集在異形線圈繞組周圍,第二磁條產(chǎn)生的磁感線更少更稀疏,則其產(chǎn)生的磁場相對較弱,如此通過與異形線圈繞組產(chǎn)生的磁場疊加后,在圓環(huán)形線圈繞組周圍的磁場強(qiáng)度相對較小,能夠減小與異形線圈繞組所在位置處的磁場強(qiáng)度的差距,從而提高線圈盤座上各處磁場的均勻性,以使得鍋具受熱更加均勻。
附圖說明
為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。
圖1為本實用新型線圈盤組件一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為圖1中線圈盤組件的加熱區(qū)域分布示意圖;
圖3為圖1中線圈盤組件的剖切示意圖;
圖4為圖1中第一磁條的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為本實用新型線圈盤組件另一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖6為圖5中線圈盤組件的加熱區(qū)域分布示意圖。
附圖標(biāo)號說明:
本實用新型目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結(jié)合實施例,參照附圖做進(jìn)一步說明。
具體實施方式
下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本實用新型的一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護(hù)的范圍。
需要說明,若本實用新型實施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……),則該方向性指示僅用于解釋在某一特定姿態(tài)(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關(guān)系、運(yùn)動情況等,如果該特定姿態(tài)發(fā)生改變時,則該方向性指示也相應(yīng)地隨之改變。
另外,若本實用新型實施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述,則該“第一”、“第二”等的描述僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示其相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個該特征。另外,各個實施例之間的技術(shù)方案可以相互結(jié)合,但是必須是以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為基礎(chǔ),當(dāng)技術(shù)方案的結(jié)合出現(xiàn)相互矛盾或無法實現(xiàn)時應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種技術(shù)方案的結(jié)合不存在,也不在本實用新型要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。
本實用新型提出一種線圈盤組件。
在本實用新型實施例中,如圖1和圖3所示,該線圈盤組件用于電磁烹飪器具,包括線圈盤座10、異形線圈繞組20、圓環(huán)形線圈繞組40、多個第一磁條30和多個第二磁條50,其中,線圈盤座10具有由外層向內(nèi)層依次設(shè)置的第一繞設(shè)區(qū)域和第二繞設(shè)區(qū)域,異形線圈繞組20設(shè)于所述第一繞設(shè)區(qū)域,所述異形線圈繞組20呈環(huán)形,其具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部21,每一所述凸部21由所述異形線圈繞組20的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成,相鄰兩所述凸部21之間形成所述異形線圈繞組20的凹部22。圓環(huán)形線圈繞組40設(shè)于所述線圈盤座10的第二繞設(shè)區(qū)域。多個第一磁條30設(shè)于所述線圈盤座10,并橫跨所述第一繞設(shè)區(qū)域設(shè)置。多個第二磁條50設(shè)于所述線圈盤座10,并橫跨所述第二繞設(shè)區(qū)域設(shè)置。所述第二磁條50的高度H2小于所述第一磁條30的高度H1,和/或所述第二磁條50的寬度小于所述第一磁條30的寬度L1。
需要說明的是,本實用新型實施例中,以靠近環(huán)心為內(nèi),遠(yuǎn)離環(huán)心為外。
具體的,線圈盤座10用于支撐異形線圈繞組20和圓環(huán)形線圈繞組40,根據(jù)安培定則,沿環(huán)周間隔分布的凸部21和凹部22改變了線圈盤座10中的磁場分布情況,凸部21產(chǎn)生的磁場主要分布在線圈盤座10靠外的位置,而凹部22產(chǎn)生的磁場主要分布在線圈盤座10的靠內(nèi)的位置,如此,僅需要設(shè)置一組線圈繞組即可擴(kuò)大磁場的分布范圍。
圓環(huán)形線圈繞組40所產(chǎn)生的磁場沿環(huán)周均勻分布,在線圈盤座10中形成連續(xù)分布的圓形或圓環(huán)形加熱區(qū)域,從而使得線圈盤座10在內(nèi)外方向上的加熱更加均勻。如圖2所示,虛線所圍成的圓形區(qū)域為圓環(huán)形線圈繞組40所形成的加熱區(qū)域。
第一磁條30橫跨第一繞設(shè)區(qū)域設(shè)置具體為,第一磁條30自內(nèi)朝外延伸,其兩端超出第一繞設(shè)區(qū)域的內(nèi)外側(cè)。第一磁條30對異形線圈繞組20產(chǎn)生的磁場起到聚磁作用。
第二磁條50橫跨第二繞設(shè)區(qū)域設(shè)置具體為,第二磁條50自內(nèi)朝外延伸,其兩端超出第二繞設(shè)區(qū)域的內(nèi)外側(cè)。第二磁條50同樣對圓環(huán)形線圈繞組40產(chǎn)生的磁場起到聚磁作用。
在線圈盤座10中,加熱區(qū)域的分布與磁場強(qiáng)度的分布基本相對應(yīng),即線圈盤座10中磁場較強(qiáng)的區(qū)域,加熱效果也較強(qiáng)。同時由于第一磁條30和第二磁條50的聚磁作用,則在設(shè)置有磁條的區(qū)域的加熱效果會相應(yīng)較強(qiáng)。
本實用新型實施例中,所述第二磁條50的高度H2小于所述第一磁條30的高度H1,和/或所述第二磁條50的寬度小于所述第一磁條30的寬度L1。具體可為:在一些實施例中,所述第二磁條50的高度H2小于所述第一磁條30的高度H1。在另一些實施例中,所述第二磁條50的寬度小于所述第一磁條30的寬度L1。在其它實施例中,所述第二磁條50的高度H2小于所述第一磁條30的高度H1,且所述第二磁條50的寬度小于所述第一磁條30的寬度L1。
由于線圈盤座10靠內(nèi)的位置的磁感線為兩個線圈繞組產(chǎn)生的磁感線的疊加,靠外的位置僅具有位于外圍的線圈繞組產(chǎn)生的磁感線,如此,線圈盤座10靠內(nèi)的位置磁場強(qiáng)度較強(qiáng),靠外的位置磁場強(qiáng)度較弱。因而本實用新型技術(shù)方案中,通過在靠外的異形線圈繞組20上對應(yīng)設(shè)置高度和/或?qū)挾雀蟮牡谝淮艞l30,在靠內(nèi)的圓環(huán)形線圈繞組40設(shè)置高度和/或?qū)挾雀〉牡诙艞l50,如此第一磁條30產(chǎn)生的磁感線更多更密集,聚磁效果更好,使得磁場更多地聚集在異形線圈繞組20周圍,第二磁條50產(chǎn)生的磁感線更少更稀疏,則其產(chǎn)生的磁場相對較弱,如此通過與異形線圈繞組20產(chǎn)生的磁場疊加后,在圓環(huán)形線圈繞組40周圍的磁場強(qiáng)度相對較小,能夠減小與異形線圈繞組20所在位置處的磁場強(qiáng)度的差距,從而提高線圈盤座10上各處磁場的均勻性,以使得鍋具受熱更加均勻。
所述第一磁條30和所述第二磁條50均可呈長條狀,也可呈U形。例如,請結(jié)合參考圖3和圖4,在一實施例中,所述第一磁條30包括橫跨所述第一繞設(shè)區(qū)域的第一本體31,所述第一本體31兩端分別凸設(shè)有伸入至所述線圈盤座10的第一加強(qiáng)體32;所述第二磁條50包括橫跨所述第二繞設(shè)區(qū)域的第二本體51,所述第二本體51兩端分別凸設(shè)有伸入至所述線圈盤座10的第二加強(qiáng)體52。其中,所述第二加強(qiáng)體52的高度小于所述第一加強(qiáng)體32的高度。
由于鍋具通常放置在線圈盤座10的正面,第一磁條30和第二磁條50設(shè)置在線圈盤座的背面,第一加強(qiáng)體32和第二加強(qiáng)體52則從下向上插入。第二加強(qiáng)體52的高度小于第一加強(qiáng)體32的高度,也即第一加強(qiáng)體32距離鍋具底面較近,第二加強(qiáng)體52距離鍋具底面較遠(yuǎn)。而由于磁體產(chǎn)生磁感線的特性,越靠近磁體兩端的位置,磁感線越密集,即鍋具在與第一加強(qiáng)體32對應(yīng)的位置的磁感線更加密集,磁場更強(qiáng),在與第二加強(qiáng)體52對應(yīng)的位置的磁感線更加稀疏,磁場更弱。同時由于第一加強(qiáng)體32距離第二加強(qiáng)體52較遠(yuǎn),則第一加強(qiáng)體32在第二加強(qiáng)體52附近所產(chǎn)生的磁感線較為稀疏,形成的磁場較弱,鍋具在與第二加強(qiáng)體52對應(yīng)的位置的磁場為兩個較弱磁場的疊加,疊加后的磁場強(qiáng)度與外圍磁場強(qiáng)度較為接近,因而線圈盤座10上各處磁場分布較為均勻,加熱效果更好。
所述第一磁條30橫跨所述第一繞設(shè)區(qū)域,例如在一實施例中,其具體可以是,所述第一磁條30對應(yīng)所述凸部21設(shè)置,而橫跨所述凸部21內(nèi)外側(cè)設(shè)置。由于在線圈盤座10中,加熱區(qū)域的分布與磁場強(qiáng)度的分布基本相對應(yīng),即線圈盤座10中磁場較強(qiáng)的區(qū)域,加熱效果也較強(qiáng)。通過在凸部21對應(yīng)設(shè)置第一磁條30的方式,在該第一磁條30的聚磁作用下,凸部21的磁場較強(qiáng),而在該凸部21處形成磁場集中分布區(qū)域,因此也相當(dāng)于在凸部21形成一個加熱中心,多個凸部21形成多個分散的加熱中心。由于凹部22未設(shè)置第一磁條30,該凹部22處的磁場較弱,因而線圈盤座10上的磁場呈強(qiáng)弱間隔分布,也即多個加熱中心是間隔分布的,從而避免了加熱中心的重疊,使得線圈盤座10整體的加熱更加均勻,改善了線圈盤座10的加熱效果。
在另一實施例中,所述第一磁條30對應(yīng)所述凹部22設(shè)置,而橫跨所述凹部22內(nèi)外側(cè)設(shè)置。如此在該第一磁條30的聚磁作用下,凹部22的磁場較強(qiáng),而在該凹部22處形成磁場集中分布區(qū)域,因此也相當(dāng)于在凹部22形成一個加熱中心,多個凹部22形成多個分散的加熱中心。同理,由于凸部21未設(shè)置第一磁條30,該凸部21處的磁場較弱,因而線圈盤座10上的磁場呈強(qiáng)弱間隔分布,也即多個加熱中心是間隔分布的,從而避免了加熱中心的重疊,使得線圈盤座10整體的加熱更加均勻,改善了線圈盤座10的加熱效果。
在其它實施例中,所述第一磁條30的內(nèi)端對應(yīng)位于一所述凸部21所限定的內(nèi)部區(qū)域,所述第一磁條30的外端對應(yīng)位于所述凹部22所限定出的外部區(qū)域。如此所述第一磁條30能夠?qū)⒋鸥芯€引導(dǎo)至所述凹部22外側(cè)和所述凸部21內(nèi)側(cè),從而使得所述凹部22外側(cè)和所述凸部21內(nèi)側(cè)均具有磁感線分布,如此,使得異形線圈繞組20內(nèi)外側(cè)各處的磁場分布更加均勻,也即使得所述異形線圈繞組20上的加熱效果更加均勻。
上述實施例中,如圖1和圖2所示,每一所述凹部22對應(yīng)設(shè)有兩個所述第一磁條30,且同一所述凹部22的兩個第一磁條30自外端朝內(nèi)端呈逐漸遠(yuǎn)離設(shè)置,而呈八字形分布。本實施例中,同一所述凹部22與相鄰的兩凸部21之間各設(shè)有一第一磁條30,從而使得凹部22在鄰接兩凸部21的兩側(cè)的磁場分布情況更加一致,也即使得各處磁場更加均勻。同時,由于同一凹部22上的兩第一磁條30是自所述凹部22外側(cè)朝內(nèi)側(cè)逐漸朝相互遠(yuǎn)離的方向傾斜,也即第一磁條30是朝凸部21所在位置傾斜的,則第一磁條30將磁場引導(dǎo)至凸部21,從而使得凸部21也具有較強(qiáng)的加熱效果,從而避免加熱盲區(qū)的產(chǎn)生。該實施例中,所述第二磁條50的外端指向所述凹部22,并位于兩所述第一磁條30之間區(qū)域,從而形成個字形。第二磁條50的外端位于同一凹部22上的兩第一磁條30之間,使得該處聚磁效果更強(qiáng),如此同一凹部22上的兩第一磁條30之間對應(yīng)形成更強(qiáng)的磁場,也即在該凹部22形成一加熱中心,多個凹部22對應(yīng)形成多個加熱中心,每一加熱中間間隔分布,從而避免加熱中心的重疊,使得線圈盤座10整體的加熱更加均勻,改善了線圈盤座10的加熱效果。如圖2所示,虛線所圍成的圓形區(qū)域為圓環(huán)形線圈繞組40所形成的加熱區(qū)域,異形線圈繞組20所在區(qū)域的虛線所圍成的閉合區(qū)域即為加熱中心。
在上述實施例中,如圖5和圖6所示,每一所述凸部21對應(yīng)設(shè)有兩個所述第一磁條30,且同一所述凸部21的兩個第一磁條30自內(nèi)端朝外端呈逐漸遠(yuǎn)離設(shè)置。如此所述第一磁條30能夠?qū)⒋鸥芯€引導(dǎo)至所述凸部21內(nèi)側(cè)和所述凹部22外側(cè),從而使得所述凹部22外側(cè)和所述凸部21內(nèi)側(cè)均具有磁感線分布,從而使得異形線圈繞組20內(nèi)外側(cè)各處的磁場分布更加均勻,所述異形線圈繞組20上的加熱效果更加均勻。同時由于第一磁條30是自所述凸部21內(nèi)側(cè)朝外側(cè)逐漸朝相互遠(yuǎn)離的方向傾斜,也即第一磁條30是朝凹部22所在位置傾斜的,則第一磁條30將磁場引導(dǎo)至凹部22,從而使得凹部22也具有較強(qiáng)的加熱效果,從而避免加熱盲區(qū)的產(chǎn)生。該實施例中,所述第二磁條50的外端指向所述凸部21,并指向兩所述第一磁條30的內(nèi)端設(shè)置,而形成Y字形。該實施例中,第二磁條50的外端與兩第一磁條30的內(nèi)端距離較近,聚磁效果更強(qiáng),則在該凸部21附近對應(yīng)形成更強(qiáng)的磁場,也即形成一加熱中心,多個凸部21對應(yīng)形成多個加熱中心,每一加熱中心間隔分布,從而避免加熱中心的重疊,使得線圈盤座10整體的加熱更加均勻,改善了線圈盤座10的加熱效果。如圖6所示,虛線所圍成的圓形區(qū)域為圓環(huán)形線圈繞組40所形成的加熱區(qū)域,異形線圈繞組20所在區(qū)域的虛線所圍成的閉合區(qū)域即為加熱中心。
當(dāng)然,上述實施例中,所述第二磁條50也可指向所述凸部21和所述凹部22之間的位置設(shè)置。
該實施例中,若設(shè)置第一磁條30過多,則導(dǎo)致第一磁條30排布過于緊密,增加第一磁條30的成本;若設(shè)置第一磁條30過少,則不利于磁場的分散,因此所述第一磁條30的數(shù)量為5-20根。同理,所述第二磁條50的數(shù)量為4-10根。
考慮到每一分散的加熱中心和連續(xù)加熱區(qū)域的擴(kuò)散范圍,使外部的加熱中心之間、以及外部加熱中心和內(nèi)部的連續(xù)加熱區(qū)域之間不產(chǎn)生重疊或盲區(qū);同時,考慮到線圈盤座10的生產(chǎn),避免異形線圈繞組20的凸部21和凹部22之間的連接部折角過大而導(dǎo)致繞設(shè)困難。因此,異形線圈繞組20的凸部21的數(shù)量設(shè)置為4-10個,優(yōu)選為6個,6個分散的加熱中心之間、以及與位于線圈盤中部的圓形連續(xù)加熱區(qū)域之間,沒有重疊,且無過大的分隔距離所導(dǎo)致的加熱盲區(qū),從而保證了線圈盤加熱的均勻性。
在上述實施例中,線圈盤座10可以為純平式線圈盤座。異形線圈繞組20和/或圓環(huán)形線圈繞組40繞設(shè)在同一平面上,相應(yīng)的,分散的加熱中心和/或連續(xù)加熱區(qū)域也分布在同一平面上,適用于對平底鍋具進(jìn)行加熱。
在上述實施例中,線圈盤座10也可以為平凹式線圈盤座,線圈盤座10包括盤底和自盤底的周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部,異形線圈繞組20設(shè)于盤底或側(cè)部,當(dāng)異形線圈繞組20設(shè)于盤底時,盤底形成分散的加熱中心;當(dāng)異形線圈繞組20設(shè)于側(cè)部時,側(cè)部形成分散的加熱中心,以滿足不同情況下的烹飪需求。
本實用新型還提出一種電磁烹飪器具,該電磁烹飪器具包括線圈盤,該線圈盤的具體結(jié)構(gòu)參照上述實施例,由于本電磁烹飪器具采用了上述所有實施例的全部技術(shù)方案,因此至少具有上述實施例的技術(shù)方案所帶來的所有有益效果,在此不再一一贅述。其中,電磁烹飪器具可以是根據(jù)電磁加熱原理工作的電磁爐、電飯煲或電壓力鍋等。
以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例,并非因此限制本實用新型的專利范圍,凡是在本實用新型的發(fā)明構(gòu)思下,利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換,或直接/間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域均包括在本實用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。