本實(shí)用新型涉及電磁加熱領(lǐng)域，特別涉及一種線圈盤組件和電磁烹飪器具。
背景技術(shù)：
：相比傳統(tǒng)的加熱方式，電磁加熱方式具有效率高、安全性好、簡(jiǎn)單方便等優(yōu)勢(shì)，基于電磁加熱方式的電磁烹飪器具受到了廣大用戶的喜愛(ài)。線圈盤組件是電磁烹飪器具的重要組件之一，其產(chǎn)生的高頻交變電磁場(chǎng)在鍋具中產(chǎn)生渦流以加熱。然而，現(xiàn)有的線圈盤組件中，由于磁場(chǎng)分布和散熱條件的不均，導(dǎo)致線圈盤組件內(nèi)部的加熱效果更強(qiáng)，在線圈盤組件的盤心區(qū)域形成一加熱中心，導(dǎo)致線圈盤組件整體加熱不均勻，加熱效果差。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的主要目的是提出一種線圈盤組件，旨在解決上述線圈盤組件加熱不均勻的問(wèn)題，改善線圈盤組件的加熱效果。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提出的線圈盤組件，用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座以及多個(gè)線圈繞組，多個(gè)線圈繞組設(shè)于所述線圈盤座，每一所述線圈繞組呈環(huán)形設(shè)置且包括多匝線圈，至少一個(gè)所述線圈繞組為異形線圈繞組，所述異形線圈繞組具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個(gè)凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對(duì)相鄰部分向外凸出而形成，所述多個(gè)線圈繞組內(nèi)外層相間設(shè)置，外側(cè)的所述線圈繞組的匝數(shù)與內(nèi)側(cè)的所述線圈繞組的匝數(shù)的比值為0.6～1.7。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組的匝數(shù)為4～16匝。優(yōu)選地，至少一個(gè)所述線圈繞組為圓環(huán)形線圈繞組。優(yōu)選地，所述圓環(huán)形線圈繞組的匝數(shù)為4～16匝。優(yōu)選地，所述圓環(huán)形線圈繞組設(shè)于所述異形線圈繞組的內(nèi)側(cè)。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組設(shè)于所述圓環(huán)形線圈繞組的內(nèi)側(cè)。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組的匝數(shù)與所述圓環(huán)形線圈繞組的匝數(shù)的比值為0.6～1.5。優(yōu)選地，所述線圈盤座為純平式線圈盤座。優(yōu)選地，所述線圈盤座為平凹式線圈盤座，所述線圈盤座包括盤底和自所述盤底的周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部，所述異形線圈繞組設(shè)于所述盤底或所述側(cè)部。本實(shí)用新型進(jìn)一步提出一種電磁烹飪器具，包括線圈盤組件，所述線圈盤組件用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座以及多個(gè)線圈繞組，多個(gè)線圈繞組設(shè)于所述線圈盤座，每一所述線圈繞組呈環(huán)形設(shè)置且包括多匝線圈，至少一個(gè)所述線圈繞組為異形線圈繞組，所述異形線圈繞組具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個(gè)凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對(duì)相鄰部分向外凸出而形成，所述多個(gè)線圈繞組內(nèi)外層相間設(shè)置，外側(cè)的所述線圈繞組的匝數(shù)與內(nèi)側(cè)的所述線圈繞組的匝數(shù)的比值為0.6～1.7。優(yōu)選地，所述電磁烹飪器具為電磁爐、電飯煲或電壓力鍋。本實(shí)用新型技術(shù)方案的線圈盤組件中，多個(gè)線圈繞組設(shè)于線圈盤座，呈環(huán)形設(shè)置且包括多匝線圈，以在相應(yīng)區(qū)域內(nèi)形成強(qiáng)度足夠的磁場(chǎng)，產(chǎn)生加熱效果。在多個(gè)線圈繞組中，至少一個(gè)為異形線圈繞組，具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個(gè)凸部，每一凸部由異形線圈繞組的一部分相對(duì)相鄰部分向外凸出而形成，異形線圈繞組產(chǎn)生磁場(chǎng)強(qiáng)弱間隔分布的區(qū)域，進(jìn)而形成多個(gè)加熱中心，從而避免了傳統(tǒng)的線圈盤組件中，加熱中心位于線圈盤組件的內(nèi)部區(qū)域而導(dǎo)致的加熱不均勻情況。多個(gè)線圈繞組內(nèi)外層相間設(shè)置，為了使線圈盤組件內(nèi)部中心區(qū)域和周圍區(qū)域的磁場(chǎng)強(qiáng)度相當(dāng)，進(jìn)而改善線圈盤組件加熱的均勻性，外側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)與內(nèi)側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)的比值為0.6～1.7，以補(bǔ)償線圈盤組件內(nèi)側(cè)和外側(cè)的磁場(chǎng)差異，改善線圈盤組件的加熱效果。附圖說(shuō)明為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型線圈盤組件一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中線圈盤組件的加熱區(qū)域分布示意圖；圖3為本實(shí)用新型線圈盤組件另一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為圖3中線圈盤組件的加熱區(qū)域分布示意圖。附圖標(biāo)號(hào)說(shuō)明：標(biāo)號(hào)名稱標(biāo)號(hào)名稱100線圈盤座200異形線圈繞組210凸部220凹部300圓環(huán)形線圈繞組具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。需要說(shuō)明，若本實(shí)用新型實(shí)施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)，則該方向性指示僅用于解釋在某一特定姿態(tài)(如附圖所示)下各部件之間的相對(duì)位置關(guān)系、運(yùn)動(dòng)情況等，如果該特定姿態(tài)發(fā)生改變時(shí)，則該方向性指示也相應(yīng)地隨之改變。另外，各個(gè)實(shí)施例之間的技術(shù)方案可以相互結(jié)合，但是必須是以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為基礎(chǔ)，當(dāng)技術(shù)方案的結(jié)合出現(xiàn)相互矛盾或無(wú)法實(shí)現(xiàn)時(shí)應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種技術(shù)方案的結(jié)合不存在，也不在本實(shí)用新型要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。本實(shí)用新型提出一種線圈盤組件。在本實(shí)用新型實(shí)施例中，如圖1所示，該線圈盤組件用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座100以及多個(gè)線圈繞組，多個(gè)線圈繞組設(shè)于線圈盤座100，每一線圈繞組呈環(huán)形設(shè)置且包括多匝線圈，至少一個(gè)線圈繞組為異形線圈繞組200，異形線圈繞組200具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個(gè)凸部210，每一凸部210由異形線圈繞組200的一部分相對(duì)相鄰部分向外凸出而形成，多個(gè)線圈繞組內(nèi)外層相間設(shè)置，外側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)與內(nèi)側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)的比值為0.6～1.7。具體的，在線圈盤組件中，由于磁場(chǎng)分布和散熱條件的不同，通常線圈盤組件內(nèi)部的加熱效果更強(qiáng)，從而形成一加熱中心，導(dǎo)致線圈盤組件整體的加熱不均勻。通過(guò)設(shè)置沿環(huán)周間隔分布有多個(gè)凸部210的異形線圈繞組200，形成磁場(chǎng)強(qiáng)弱間隔分布的區(qū)域，進(jìn)而形成多個(gè)分散的加熱中心，以改善線圈盤組件加熱的均勻性。如圖2所示，異形線圈繞組200所在區(qū)域的虛線圍成的閉合區(qū)域?yàn)槠洚a(chǎn)生的多個(gè)分散的加熱中心。每一線圈繞組通常包括多匝內(nèi)外串聯(lián)設(shè)置的線圈，以增大磁場(chǎng)強(qiáng)度，加強(qiáng)加熱效果。線圈具有疏繞和密繞兩種繞設(shè)方式，以滿足相應(yīng)的需求。線圈繞組所產(chǎn)生的磁場(chǎng)的強(qiáng)度與其匝數(shù)相關(guān)，匝數(shù)越多，磁場(chǎng)越強(qiáng)，在線圈盤組件中，通過(guò)設(shè)置外側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)和內(nèi)側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)的比值為0.6～1.7，使線圈盤組件中多個(gè)線圈繞組所產(chǎn)生的磁場(chǎng)的整體強(qiáng)度在線圈盤座的盤面上均勻分布，以補(bǔ)償線圈盤組件中的磁場(chǎng)差異，避免線圈盤組件的外側(cè)或內(nèi)側(cè)的局部磁場(chǎng)過(guò)強(qiáng)或過(guò)弱，從而改善加熱的均勻性，進(jìn)而改善線圈盤組件的加熱效果。本實(shí)用新型技術(shù)方案的線圈盤組件中，多個(gè)線圈繞組設(shè)于線圈盤座100，每一線圈繞組呈環(huán)形設(shè)置且包括多匝線圈。在多個(gè)線圈繞組中，至少一個(gè)為異形線圈繞組200，具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個(gè)凸部210，每一凸部210由異形線圈繞組的一部分相對(duì)相鄰部分向外凸出而形成，異形線圈繞組200產(chǎn)生磁場(chǎng)強(qiáng)弱間隔分布的區(qū)域，進(jìn)而形成多個(gè)加熱中心，從而避免了傳統(tǒng)的線圈繞組中內(nèi)部磁場(chǎng)較強(qiáng)、加熱不均勻的情況。多個(gè)線圈繞組內(nèi)外層相間設(shè)置，為了使線圈盤組件內(nèi)部中心區(qū)域和周圍區(qū)域的磁場(chǎng)強(qiáng)度相當(dāng)，進(jìn)而提高線圈盤組件加熱的均勻性，外側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)與內(nèi)側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)的比值為0.6～1.7，以避免線圈盤組件內(nèi)部和外圍的磁場(chǎng)產(chǎn)生明顯差異，改善線圈盤組件的加熱效果。在本實(shí)用新型的實(shí)施例中，異形線圈繞組200的匝數(shù)N1為4～16匝。異型線圈繞組200的匝數(shù)越多，所產(chǎn)生的磁場(chǎng)越強(qiáng)，然而，在線圈盤組件的尺寸一定的情況下，異型線圈繞組200最外匝的線圈的尺寸有一定的限制，具有一與線圈盤座的尺寸相應(yīng)的最大尺寸，而隨著異形線圈繞組200的匝數(shù)的增多，位于內(nèi)側(cè)的線圈中，凸部210與相鄰兩凸部210之間的凹部220的連接區(qū)域的轉(zhuǎn)折將增大，一方面容易導(dǎo)致相鄰的加熱中心重疊相連，另一方面，使異形線圈繞組200的繞設(shè)工藝難度增大，因此，異形線圈繞組200的匝數(shù)不能過(guò)多，綜上所述，異形線圈繞組的匝數(shù)N1在4～16匝之間。在本實(shí)用新型的實(shí)施例中，如圖1和圖3所示，至少一個(gè)線圈繞組為圓環(huán)形線圈繞組300。根據(jù)安培定則，圓環(huán)形線圈繞組300所產(chǎn)生的磁場(chǎng)沿環(huán)周均勻分布，如圖2和圖4中圓環(huán)形線圈繞組300所在區(qū)域的虛線所示，在線圈盤組件中形成連續(xù)分布的圓形或圓環(huán)形加熱區(qū)域，從而在線圈盤組件內(nèi)產(chǎn)生范圍較大的連續(xù)加熱區(qū)域，改善線圈盤組件的加熱效果。進(jìn)一步的，圓環(huán)形線圈繞組300的匝數(shù)N2為4～16匝。在線圈盤組件的尺寸一定的情況下，為了合理分配異形線圈繞組200和圓環(huán)形線圈繞組300的設(shè)置空間，避免圓環(huán)形線圈繞組300的匝數(shù)過(guò)多導(dǎo)致異形線圈繞組200的分布空間減小而增加繞設(shè)難度，同時(shí)，保障圓環(huán)形線圈繞組300所產(chǎn)生的磁場(chǎng)強(qiáng)度，避免線圈盤組件因磁場(chǎng)強(qiáng)度不均而導(dǎo)致加熱效果的不均，圓環(huán)形線圈繞組300的匝數(shù)N2為4～16匝。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，如圖1所示，圓環(huán)形線圈繞組300設(shè)于異形線圈繞組200的內(nèi)側(cè)?？紤]到異形線圈繞組200的繞制工藝，其尺寸較大時(shí)，相應(yīng)的繞制工藝更簡(jiǎn)單，將圓環(huán)形線圈繞組300設(shè)于異形線圈繞組200的內(nèi)側(cè)，在線圈盤組件的內(nèi)部中心區(qū)域形成圓形的連續(xù)加熱區(qū)域，有利于填補(bǔ)異形線圈繞組200內(nèi)部的加熱盲區(qū)，改善線圈盤組件加熱的均勻性。進(jìn)一步的，異形線圈繞組200的匝數(shù)N1與圓環(huán)形線圈繞組300的匝數(shù)N2的比值N1/N2為0.6～1.5。通常，線圈盤組件呈圓形設(shè)置，當(dāng)線圈盤組件的直徑較小時(shí)，線圈盤組件的內(nèi)部中心磁場(chǎng)與周圍磁場(chǎng)的強(qiáng)度差別較小，同時(shí)，為了便于異形線圈繞組200的繞制，N1/N2的值較小；當(dāng)線圈盤組件的直徑較大時(shí)，線圈盤組件的內(nèi)部中心磁場(chǎng)與周圍磁場(chǎng)的強(qiáng)度較大，且異形線圈繞組200的設(shè)置空間較大，此時(shí)，可適當(dāng)增加異形線圈繞組200的匝數(shù)，以補(bǔ)償內(nèi)外磁場(chǎng)的差異，使線圈盤組件的加熱效果更加均勻。在本實(shí)用新型的另一實(shí)施例中，如圖3所示，異形線圈繞組200設(shè)于圓環(huán)形線圈繞組300的內(nèi)側(cè)，從而在線圈盤組件內(nèi)部中心區(qū)域形成多個(gè)分散的加熱中心，以滿足相應(yīng)的加熱需求。進(jìn)一步的，異形線圈繞組200的匝數(shù)與圓環(huán)形線圈繞組300的匝數(shù)的比值N1/N2為0.6～1.5，以保持線圈盤組件的內(nèi)外磁場(chǎng)強(qiáng)度相當(dāng)，且避免異形線圈繞組200的繞設(shè)困難。在上述實(shí)施例中，線圈盤座100可以為純平式線圈盤座，異形線圈繞組200和/或圓環(huán)形線圈繞組300繞設(shè)在同一平面上，相應(yīng)的，分散的加熱中心和/或連續(xù)加熱區(qū)域也分布在同一平面上，適用于對(duì)平底鍋具進(jìn)行加熱。在上述實(shí)施例中，線圈盤座100也可以為平凹式線圈盤座，線圈盤座100包括盤底和自盤底的周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部，異形線圈繞組200設(shè)于盤底或側(cè)部，當(dāng)異形線圈繞組設(shè)于盤底時(shí)，盤底形成分散的加熱中心；當(dāng)異形線圈繞組設(shè)于側(cè)部時(shí)，側(cè)部形成分散的加熱中心，以滿足不同情況下的烹飪需求。本實(shí)用新型還提出一種電磁烹飪器具，該電磁烹飪器具包括線圈盤組件，該線圈盤組件的具體結(jié)構(gòu)參照上述實(shí)施例，由于本電磁烹飪器具采用了上述所有實(shí)施例的全部技術(shù)方案，因此至少具有上述實(shí)施例的技術(shù)方案所帶來(lái)的所有有益效果，在此不再一一贅述。其中，電磁烹飪器具可以是根據(jù)電磁加熱原理工作的電磁爐、電飯煲或電壓力鍋等。以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是在本實(shí)用新型的發(fā)明構(gòu)思下，利用本實(shí)用新型說(shuō)明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接/間接運(yùn)用在其他相關(guān)的
技術(shù)領(lǐng)域：
均包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3