2，在鈍化層2之上形成平坦化層3，但不以此為限?？涛g立體下凹孔時，可以未貫穿平坦化層3，或者，貫穿平坦化層3，且未貫穿鈍化層2，但不以此為限。
[0093]本發(fā)明跳脫出現(xiàn)有技術(shù)的思維(平面型的像素構(gòu)造)，給出一種新的既保證真實像素排布(Real排布)模式的高PPI，同時也能保證電流密度不變小的方法。通過在子像素中構(gòu)造立體維度的“縱深結(jié)構(gòu)”，以此來增加發(fā)光點(diǎn)的“表面積”，這時，電流密度并不會增大，電壓自然不會上升，功耗也不會增加。
[0094]綜上可知，本發(fā)明的顯示裝置及其制造方法改變了像素區(qū)域的空間結(jié)構(gòu)，增加發(fā)光區(qū)域表面積，可適用于各種顯示裝置，使得在高PPI情況下，電流密度不會增大，電壓和功耗降低。
[0095]以上對本發(fā)明的具體實施例進(jìn)行了描述。需要理解的是，本發(fā)明并不局限于上述特定實施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在權(quán)利要求的范圍內(nèi)做出各種變形或修改，這并不影響本發(fā)明的實質(zhì)內(nèi)容。
【主權(quán)項】
1.一種包括多種顏色的多個子像素的顯示裝置，包括: 背板模塊，包括包含TFT驅(qū)動背板以及形成于所述TFT驅(qū)動背板之上的絕緣層； 像素定義層，形成于所述絕緣層上，所述像素定義層包含多個開口 ； 有機(jī)發(fā)光層，所述有機(jī)發(fā)光層形成于所述多個開口中，以相應(yīng)形成多個子像素； 其特征在于，在至少一種顏色的所述子像素的下方的所述絕緣層中有立體下凹孔，每個所述立體下凹孔對應(yīng)所述像素定義層的一個開口，所述有機(jī)發(fā)光層形成于所述多個立體下凹孔中，以相應(yīng)形成多個子像素。2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置還包括透明導(dǎo)電層，所述透明導(dǎo)電層位于所述絕緣層表面，包括開口區(qū)透明導(dǎo)電層和非開口區(qū)透明導(dǎo)電層，所述開口區(qū)透明導(dǎo)電層位于所述像素定義層的所述多個開口中，所述非開口區(qū)透明導(dǎo)電層位于所述絕緣層與所述像素定義層之間； 在所述立體下凹孔中，所述開口區(qū)透明導(dǎo)電層貼合每個所述立體下凹孔的表面，所述立體下凹孔中所述透明導(dǎo)電層的表面積大于所述像素定義層的對應(yīng)的開口的面積。3.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其特征在于，所述絕緣層包括平坦化層，所述立體下凹孔未貫穿所述平坦化層。4.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其特征在于，所述絕緣層包括平坦化層和鈍化層，所述平坦化層形成于所述鈍化層之上。5.如權(quán)利要求4所述的顯示裝置，其特征在于，所述立體下凹孔未貫穿所述平坦化層。6.如權(quán)利要求4所述的顯示裝置，其特征在于，所述立體下凹孔貫穿所述平坦化層，且未貫穿所述鈍化層。7.如權(quán)利要求1至6中任意一項所述的顯示裝置，其特征在于，所述多個子像素包括紅色子像素、綠色子像素和藍(lán)色子像素；不同顏色的所述子像素對應(yīng)的立體下凹孔的表面積不同，不同顏色的所述子像素的電壓相等。8.如權(quán)利要求7所述的顯示裝置，其特征在于，紅色子像素對應(yīng)的立體下凹孔的表面積大于綠色子像素對應(yīng)的立體下凹孔的表面積。9.如權(quán)利要求8所述的顯示裝置，其特征在于，綠色子像素對應(yīng)的立體下凹孔的表面積大于藍(lán)色子像素對應(yīng)的立體下凹孔的表面積。10.如權(quán)利要求7所述的顯示裝置，其特征在于，所述不同顏色子像素的電流(I)、電壓(V)、電流密度(J)和發(fā)光區(qū)域的面積(S)四者具有以下基本函數(shù)關(guān)系:J = F(V)，I = JS,J = F(V)對應(yīng)電流密度隨電壓變化的曲線，所述該子像素的電流值為該類型有機(jī)發(fā)光器件中該子像素的可確定的電流值； 所述發(fā)光區(qū)域的面積⑶與電流(I)、電壓(V)的函數(shù)關(guān)系為S= [I/F(V)];利用所述發(fā)光區(qū)域的面積(S)與電流(I)、電壓(V)的函數(shù)關(guān)系，根據(jù)設(shè)定的電壓值來匹配各子像素的表面積。11.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述立體下凹孔由至少一個凹坑組成，所述凹坑是倒梯形槽、三角槽、倒金字塔型坑、倒棱臺坑、倒椎體坑、半球體坑中的任意一種。12.—種顯示裝置的制造方法，所述顯示裝置包括多種顏色的多個子像素，其特征在于，所述制造方法包括以下步驟: 制作背板模塊，所述背板模塊包括TFT驅(qū)動背板以及形成于所述TFT驅(qū)動背板之上的絕緣層，在至少一種顏色的所述子像素的對應(yīng)背板區(qū)設(shè)置立體下凹孔； 在所述絕緣層與所述多個立體下凹孔的表面形成透明導(dǎo)電層； 在所述絕緣層上形成像素定義層，所述像素定義層包含多個開口，所述多個立體下凹孔對應(yīng)所述像素定義層的多個開口，位于所述開口區(qū)的透明導(dǎo)電層對應(yīng)為開口區(qū)透明導(dǎo)電層，位于所述絕緣層與所述像素定義層之間的透明導(dǎo)電層對應(yīng)為非開口區(qū)透明導(dǎo)電層； 在所述多個開口中形成有機(jī)發(fā)光層，其中所述有機(jī)發(fā)光層形成于開口區(qū)透明導(dǎo)電層之上，以相應(yīng)形成多個子像素。13.如權(quán)利要求12所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，利用灰階掩膜來刻蝕所述立體下凹孔。14.如權(quán)利要求12所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，分次刻蝕不同顏色的所述子像素對應(yīng)的立體下凹孔。15.如權(quán)利要求12至14中任意一項所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述立體下凹孔開設(shè)于所述絕緣層中，所述開口區(qū)透明導(dǎo)電層貼合每個所述立體下凹孔的表面，所述立體下凹孔中所述透明導(dǎo)電層的表面積大于所述像素定義層的對應(yīng)的開口的面積。16.如權(quán)利要求15所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述絕緣層包括平坦化層，刻蝕所述立體下凹孔時，未貫穿所述平坦化層。17.如權(quán)利要求15所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述絕緣層包括平坦化層和鈍化層，在所述鈍化層之上形成所述平坦化層。18.如權(quán)利要求17所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，刻蝕所述立體下凹孔時，未貫穿所述平坦化層。19.如權(quán)利要求17所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，刻蝕所述立體下凹孔時，貫穿所述平坦化層，且未貫穿所述鈍化層。20.如權(quán)利要求12所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述立體下凹孔由至少一個凹坑組成，所述凹坑是倒梯形槽、三角槽、倒金字塔型坑、倒棱臺坑、倒椎體坑、半球體坑中的任意一種。
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種顯示裝置及其制造方法，顯示裝置包括：背板模塊，包括TFT驅(qū)動背板以及TFT驅(qū)動背板之上的絕緣層；像素定義層、透明導(dǎo)電層和有機(jī)發(fā)光層，形成于絕緣層之上，像素定義層包含多個開口，透明導(dǎo)電層包括開口區(qū)透明導(dǎo)電層與非開口區(qū)透明導(dǎo)電層，開口區(qū)透明導(dǎo)電層位于像素定義層的多個開口中，有機(jī)發(fā)光層形成于開口區(qū)透明導(dǎo)電層之上，以相應(yīng)形成多個子像素；在至少一種顏色的子像素的下方的背板模塊中設(shè)有立體下凹孔，每個立體下凹孔對應(yīng)一個開口，開口區(qū)透明導(dǎo)電層和有機(jī)發(fā)光層位于立體下凹孔中。本發(fā)明改變了像素區(qū)域的空間結(jié)構(gòu)，增加發(fā)光區(qū)域表面積，可適用于各種顯示裝置，使得在高PPI情況下，電流密度不會增大，電壓和功耗降低。
【IPC分類】H01L21/77, H01L27/32
【公開號】CN105226080
【申請?zhí)枴緾N201510794028
【發(fā)明人】熊志勇
【申請人】上海天馬有機(jī)發(fā)光顯示技術(shù)有限公司, 天馬微電子股份有限公司
【公開日】2016年1月6日
【申請日】2015年11月18日