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基板處理方法以及基板處理裝置的制造方法_3

文檔序號(hào):8545153閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
,能夠在固定板33和其正下方的可動(dòng)板34之間的間隙保持第一張基板W,向該可動(dòng)板34和該可動(dòng)板34的下方的可動(dòng)板34之間的間隙保持第二張基板W。
[0136]然后,在反轉(zhuǎn)單元RT內(nèi)保持基板W的狀態(tài)下,通過旋轉(zhuǎn)促動(dòng)器37使支撐板35圍繞水平的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn),從而能夠使被保持的兩張基板W進(jìn)行上下反轉(zhuǎn)。如在上面說明那樣,反轉(zhuǎn)單元RTl以及反轉(zhuǎn)交接單元RT2能夠?qū)⒍鄰?在該第一實(shí)施方式中為兩張)基板W保持為水平,能夠?qū)Ρ3值幕錡進(jìn)行上下反轉(zhuǎn)。
[0137]本實(shí)施方式的CR移動(dòng)機(jī)構(gòu)17的結(jié)構(gòu)與上述IR移動(dòng)機(jī)構(gòu)15的結(jié)構(gòu)相同。即,CR移動(dòng)機(jī)構(gòu)17具有未圖示的可動(dòng)臺(tái)、在X方向上長(zhǎng)長(zhǎng)的滾珠螺桿、導(dǎo)軌以及使?jié)L珠螺桿旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)馬達(dá)。當(dāng)滾珠螺桿旋轉(zhuǎn)時(shí),固定設(shè)置于可動(dòng)臺(tái)的整個(gè)中央機(jī)械手CR,穿過表面清洗處理部11和背面清洗處理部12之間,在處理區(qū)3的內(nèi)部沿著X方向進(jìn)行水平移動(dòng)。這樣,中央機(jī)械手CR能夠沿著X方向自由地移動(dòng),因此能夠移動(dòng)至能夠訪問(搬入搬出)各清洗處理單元SSl?SS8、SSR1?SSR8的位置。另外,同樣地,還能夠移動(dòng)至能夠訪問(搬入搬出)轉(zhuǎn)接部50的位置。
[0138]中央機(jī)械手CR能夠采用實(shí)際上與圖4的分度器機(jī)械手IR相同的結(jié)構(gòu),即,將相對(duì)固定的兩層手部構(gòu)成為能夠獨(dú)立地進(jìn)行進(jìn)退驅(qū)動(dòng)并在上下方向上兩組的機(jī)械手機(jī)構(gòu)(下面,以“兩組臂部4個(gè)手部”的意思稱為“2A4H機(jī)構(gòu)”),也可以采用其它結(jié)構(gòu)。在將2A4H機(jī)構(gòu)的機(jī)械手用作中央機(jī)械手CR的情況下的各結(jié)構(gòu)構(gòu)件,與在圖4中說明分度器機(jī)械手IR的情況相同,因此省略重復(fù)說明。
[0139]圖7A是以能夠通過4個(gè)臂部13a?16a分別獨(dú)立地驅(qū)動(dòng)4個(gè)手部13b?16b來(lái)使其進(jìn)退的形式(下面,稱為“4A4H機(jī)構(gòu)”)構(gòu)成的情況下的中央機(jī)械手CR的圖解性的側(cè)視圖。另外,圖7B是示出在后述基板的搬入操作以及搬出操作中中央機(jī)械手CR訪問清洗單元SS(SSR)的樣子的圖解性的俯視圖。
[0140]如圖7A所示,4A4H機(jī)構(gòu)的情況下的該中央機(jī)械手CR具有基座部28。各臂部13a?16a的一端安裝于基座部28,在各臂部13a?16a的另一端安裝有各手部13b?16b。因此,各手部13b?16b分別通過各臂部13a?16a保持于基座部28。
[0141]另外,手部13b?16b以不與相鄰的手部13b?16b彼此發(fā)生干涉的方式,在上下方向上錯(cuò)開高度(在鉛垂方向上彼此隔開相同距離hi)配置。而且,各手部13b?16b的前端均具有一對(duì)指狀部。即,在俯視時(shí),各手部13b?16b的前端呈兩叉的叉子狀,各手部13b?16b從下方支撐基板W的下表面,從而能夠?qū)⒁粡埢錡保持為水平。在本實(shí)施方式中,手部15b、16b僅在搬運(yùn)進(jìn)行清洗處理之前的未處理基板時(shí)使用,手部13b、14b僅在搬運(yùn)進(jìn)行清洗處理之后的已處理基板時(shí)使用。
[0142]此外,各手部13b?16b的一對(duì)指狀部的外部尺寸小于,轉(zhuǎn)接部50中的一對(duì)相向的支撐構(gòu)件54的間隔。因此,防止在后述基板搬入以及搬出操作中各手部13b?16b與轉(zhuǎn)接部50的支撐構(gòu)件54發(fā)生干涉。
[0143]而且,在各手部13b?16b的一對(duì)指狀部之間形成有構(gòu)件通過區(qū)域。該區(qū)域大于清洗處理單元SS(SSR)的旋轉(zhuǎn)卡盤111。因此,能夠防止在后述基板搬入以及搬出操作中各手部13b?16b與旋轉(zhuǎn)卡盤111發(fā)生干涉(參照?qǐng)D7B)。另外,各手部13b?16b的厚度小于,旋轉(zhuǎn)卡盤111的上表面與旋轉(zhuǎn)支撐部114的上表面之間的間隔。另外,臂部13a?16a均為多關(guān)節(jié)型的伸縮式臂部。中央機(jī)械手CR通過進(jìn)退驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)29使各臂部13a?16a分別單獨(dú)地伸縮,從而能夠使與該臂部對(duì)應(yīng)的手部13b?16b分別單獨(dú)水平地移動(dòng)。另外,在基座部28內(nèi)置有:旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)31,用于使基座部28圍繞鉛垂軸線旋轉(zhuǎn);升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)32,用于使基座部28沿著鉛垂方向升降。
[0144]在通過CR移動(dòng)機(jī)構(gòu)17使中央機(jī)械手CR移動(dòng)至能夠訪問各清洗處理單元SSl?SS8、SSR1?SSR8的位置之后,通過旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)31使基座部28旋轉(zhuǎn)來(lái)使各手部13b?16b圍繞規(guī)定的鉛垂軸線旋轉(zhuǎn),并且通過升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)32使基座部28沿著鉛垂方向升降,從而能夠使上述任意的手部13b?16b與所希望的清洗處理單元SSl?SS8、SSRl?SSR8相向。然后,在手部13b?16b與清洗處理單元相向的狀態(tài)下,使臂部13a?臂部16a伸長(zhǎng),從而能夠使與該臂部對(duì)應(yīng)的手部13b?16b訪問該清洗處理單元。同樣地,能夠使中央機(jī)械手CR的任意的手部13b?16b訪問轉(zhuǎn)接部50。
[0145]無(wú)論在將2A4H機(jī)構(gòu)用作中央機(jī)械手CR的情況下,還是在將4A4H機(jī)構(gòu)用作中央機(jī)械手CR的情況下,能夠從轉(zhuǎn)接部50向清洗處理單元SSl?SS8、SSRl?SSR8統(tǒng)一搬運(yùn)(同時(shí)搬運(yùn))的未處理基板最多為兩張,能夠從清洗處理單元SSl?SS8、SSRl?SSR8向轉(zhuǎn)接部50統(tǒng)一搬運(yùn)的已處理基板最多為兩張。因此,能夠進(jìn)行統(tǒng)一搬運(yùn)的基板的最多張數(shù)均相同,因此下面為了便于說明,對(duì)于構(gòu)成為4A4H機(jī)構(gòu)的中央機(jī)械手CR進(jìn)行說明,但是在將2A4H機(jī)構(gòu)用作中央機(jī)械手CR的情況下,也能夠通過從分度器機(jī)械手IR的臂部動(dòng)作進(jìn)行類推來(lái)理解中央機(jī)械手CR的各個(gè)臂部動(dòng)作。
[0146]此外,上面,對(duì)于通過并用CR移動(dòng)機(jī)構(gòu)17來(lái)使中央機(jī)械手CR的各手部13b?16b能夠訪問清洗處理單元SS、SSR以及轉(zhuǎn)接部50的方式進(jìn)行了說明。但是,當(dāng)然也能夠不利用CR移動(dòng)機(jī)構(gòu)17,而僅通過中央機(jī)械手CR的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)31、升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)32、進(jìn)退驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)29來(lái)使中央機(jī)械手CR的各手部13b?16b訪問清洗處理單元SS、SSR以及轉(zhuǎn)接部50。
[0147]此外,在IR移動(dòng)機(jī)構(gòu)15、分度器機(jī)械手IR、CR移動(dòng)機(jī)構(gòu)17、中央機(jī)械手CR這樣的各部設(shè)置有用于檢測(cè)上述機(jī)構(gòu)的動(dòng)作異常的傳感器。
[0148]< 1.3 轉(zhuǎn)接單元 50a >
[0149]在分度器區(qū)2和處理區(qū)3的邊界部分配置有轉(zhuǎn)接單元50a,該轉(zhuǎn)接單元50a用于在分度器機(jī)械手IR和中央機(jī)械手CR之間交接基板W。轉(zhuǎn)接單元50a為具有基板載置部PASSl?PASS4的框體,在分度器機(jī)械手IR和中央機(jī)械手CR之間交接基板W時(shí),在基板載置部PASSl?PASS4內(nèi)暫時(shí)載置基板W。
[0150]圖8是第一實(shí)施方式的轉(zhuǎn)接單元50a的側(cè)視圖。另外,圖9是從圖8中的A — A截面向箭頭方向觀察的俯視圖。在轉(zhuǎn)接單元50a的框體的側(cè)壁中的與分度器機(jī)械手IR相向的一側(cè)壁,設(shè)置有用于搬入搬出基板W的開口部51。另外,在與上述一側(cè)壁相向的位于中央機(jī)械手CR側(cè)的另一側(cè)壁,也設(shè)置有同樣的開口部52。
[0151 ] 在框體內(nèi)的與開口部51、52相向的部位設(shè)置有基板載置部PASSl?PASS4,該基板載置部PASSl?PASS4將上述基板W支撐為大致水平。因此,分度器機(jī)械手IR以及中央機(jī)械手CR能夠從開口部51、52訪問基板載置部PASSl?PASS4。此外,在本實(shí)施方式中,上側(cè)的基板載置部PASSl、PASS2在從處理區(qū)3向分度器區(qū)2搬運(yùn)已處理基板W時(shí)使用,下側(cè)的基板載置部PASS3、PASS4在從分度器區(qū)2向處理區(qū)3搬運(yùn)未處理基板W時(shí)使用。
[0152]如圖8、圖9所示,基板載置部PASSl?PASS4具有:一對(duì)支撐構(gòu)件54,固定設(shè)置于框體內(nèi)部的側(cè)壁;支撐銷55,在各支撐構(gòu)件54上表面的兩端部以兩個(gè)為一組設(shè)置共計(jì)4個(gè)。另外,支撐構(gòu)件54固定設(shè)置于與形成有開口部51、52的側(cè)壁不同的一對(duì)側(cè)壁。支撐銷55的上端呈圓錐狀。因此,使基板W的周緣部的4個(gè)部位與兩對(duì)支撐銷55卡合,從而將基板W能夠裝卸地保持在兩對(duì)支撐銷55上。
[0153]在此,PASSl- PASS2 之間、PASS2 — PASS3 之間以及 PASS3 — PASS4 之間的各支撐銷55,沿著鉛垂方向隔開相同距離h2設(shè)置(參照?qǐng)D8)。該距離h2與所述中央機(jī)械手CR的手部13b?16b的鉛垂方向上的間隔hi相等。因此,在使中央機(jī)械手CR與轉(zhuǎn)接單元50a相向的狀態(tài)下,通過進(jìn)退驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)29使中央機(jī)械手CR的手部15b、16b同時(shí)伸長(zhǎng),從而能夠從轉(zhuǎn)接單元50a的基板載置部PASS3、PASS4同時(shí)接受兩張未處理基板W。同樣地,通過進(jìn)退驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)29使中央機(jī)械手CR的手部13b、14b同時(shí)伸長(zhǎng),從而能夠?qū)⒈皇植?3b、14b保持的兩張已處理基板W同時(shí)交至轉(zhuǎn)接單元50a的基板載置部PASS1、PASS2。
[0154]< 1.4 控制部 60 >
[0155]圖10是用于說明基板處理裝置I的電氣結(jié)構(gòu)的框圖。另外,圖11是用于說明控制部60的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的框圖。如圖11所示,控制部60例如構(gòu)成為,CPU61、R0M62、RAM63、存儲(chǔ)裝置64等經(jīng)由總線65相互連接的一般的計(jì)算機(jī)。R0M62保存有基本程序等,RAM63用作CPU61進(jìn)行規(guī)定的處理時(shí)的操作區(qū)域。存儲(chǔ)裝置64由閃存或者硬盤裝置等非易失性的存儲(chǔ)裝置構(gòu)成。在存儲(chǔ)裝置64保存有處理方案變更數(shù)據(jù)庫(kù)CDB、從主機(jī)向控制部60發(fā)送的處理方案FR、基于處理方案FR制作的管理表數(shù)據(jù)SD (后述)、單元處理方案數(shù)據(jù)庫(kù)UDB。
[0156]如圖10所示,從功能的角度來(lái)說,控制部60具有管理表功能部71以及處理執(zhí)行部72??刂撇?0使CPU61執(zhí)行預(yù)先保存在R0M62等中的控制程序,從而使CPU61發(fā)揮管理表功能部71以及處理執(zhí)行部72等功能部的功能,并且使RAM63、存儲(chǔ)裝置64等存儲(chǔ)部發(fā)揮處理方案FR存儲(chǔ)部、管理表數(shù)據(jù)SD存儲(chǔ)部、單元處理方案數(shù)據(jù)庫(kù)UDB存儲(chǔ)部、允許時(shí)間存儲(chǔ)部等功能部的功能。
[0157]管理表功能部71基于處理方案FR,以按時(shí)序排列而成的表形式等,制作成為處理對(duì)象的各基板W的管理表數(shù)據(jù)(下面,作為“SD”)。此外,制作出的管理表數(shù)據(jù)SD保存在存儲(chǔ)裝置64中。
[0158]處理執(zhí)行部72根據(jù)管理表數(shù)據(jù)SD,使基板處理裝置I的各種功能發(fā)揮作用,在基板處理裝置I內(nèi)搬運(yùn)對(duì)象基板W,或者在清洗處理單元SS (SSR)中進(jìn)行清洗處理。
[0159]在控制部60中,輸入部66、顯示部67、通信部68也與總線65連接。輸入部66由各種開關(guān)、觸控面板等構(gòu)成,從操作者接受處理方法等各種輸入設(shè)定指示。顯示部67由液晶顯示裝置、燈等構(gòu)成,在CPU61的控制下顯示各種信息。通信部68具有通過LAN等進(jìn)行的數(shù)據(jù)通信功能??刂撇?0與作為控制對(duì)象的分度器機(jī)械手IR、中央機(jī)械手CR、IR移動(dòng)機(jī)構(gòu)15、CR移動(dòng)機(jī)構(gòu)17、表面清洗處理部11、背面清洗處理部12、反轉(zhuǎn)單元RTl以及反轉(zhuǎn)交接單元RT2連接。此外,在說明基板處理裝置I的動(dòng)作之后對(duì)于與管理表數(shù)據(jù)SD的制作以及變更有關(guān)的內(nèi)容進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0160]< 2.基板處理裝置I的動(dòng)作>
[0161]上面,對(duì)于基板處理裝置I的各裝置的結(jié)構(gòu)以及各裝置內(nèi)的動(dòng)作(清洗處理、反轉(zhuǎn)處理等)進(jìn)行了說明。下面,對(duì)于基板處理裝置I內(nèi)部的各裝置(基板載置部PASS、反轉(zhuǎn)單元RTl、反轉(zhuǎn)交接單元RT2、清洗處理單元SS等)與分度器機(jī)械手IR、中央機(jī)械手CR之間的基板W的交接動(dòng)作、以及整個(gè)基板處理裝置I的基板處理動(dòng)作進(jìn)行說明。
[0162]< 2.1基板W的交接動(dòng)作>
[0163]如上所述,在分度器機(jī)械手IR以及中央機(jī)械手CR設(shè)置有移動(dòng)機(jī)構(gòu)、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、升降機(jī)構(gòu)、進(jìn)退機(jī)構(gòu),能夠使該機(jī)械手的各手部訪問基板處理裝置I內(nèi)部的各構(gòu)件。
[0164]對(duì)于這時(shí)的基板的交接動(dòng)作,將中央機(jī)械手CR訪問表面清洗處理單元SS的情況和中央機(jī)械手CR訪問轉(zhuǎn)接部50的情況舉為例子來(lái)進(jìn)行說明。圖12A?12D以及圖13A?13D是示出中央機(jī)械手CR和表面清洗處理單元SS之間的基板交接動(dòng)作的一例的示意圖。另外,圖14A?14C是示出中央機(jī)械手CR和基板載置部PASS (轉(zhuǎn)接部50)之間的基板交接動(dòng)作的示意圖,為了容易理解,僅通過基板W、基板載置部PASSl?PASS4的支撐構(gòu)件54、手部13b?16b簡(jiǎn)單地表現(xiàn)基板交接動(dòng)作。
[0165][中央機(jī)械手CR與清洗處理單元之間的訪問]
[0166]如圖12A所示,在處理單元SS的旋轉(zhuǎn)卡盤111上載置有已處理基板W1。另外,清洗處理單元SS的狹縫116滑動(dòng)而使門部117開放。在中央機(jī)械手CR從這樣的表面清洗處理單元SS搬出已處理基板Wl時(shí),首先,控制部60控制旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)31,使手部13b與該表面清洗處理單元SS相向。同時(shí),控制部60控制升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)32,使手部13b位于如下高度位置,即,使手部13b的上表面位于旋轉(zhuǎn)卡盤111的上表面的下方,使手部13b的下表面位于旋轉(zhuǎn)支撐部114的上表面的上方(參照?qǐng)D12A)。
[0167]接著,控制部60控制進(jìn)退驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)29,使臂部13a伸長(zhǎng)。由此,手部13b進(jìn)行水平移動(dòng)來(lái)進(jìn)入表面清洗處理單元SS的內(nèi)部,手部13b前端的構(gòu)件通過區(qū)域通過旋轉(zhuǎn)卡盤111,如圖12B所示,手部13b配置于被旋轉(zhuǎn)卡盤111保持的基板Wl的下方。本實(shí)施方式的各手部13b?16b能夠分別單獨(dú)地伸縮,因此能夠僅使基板的搬入搬出操作所需的手部(在此為手部13b)進(jìn)入清洗處理單元SS(SSR)的機(jī)殼單元115中。由此能夠?qū)⑹植?3b?16b可能代入機(jī)殼單元115內(nèi)的顆粒的量限制為最小限度。另外,能夠?qū)⑿D(zhuǎn)卡盤111和旋轉(zhuǎn)支撐部114之間的空間縮小為僅能夠使一個(gè)手部13b?16b進(jìn)入的程度的上下寬度。
[0168]然后,控制部60控制升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)32,使手部13b上升。由此,如圖12C所示,將載置于旋轉(zhuǎn)卡盤111上的基板Wl交至手部13b的上側(cè)。接著,控制部60控制進(jìn)退驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)29,使臂部13a收縮。由此,如圖12D所示,手部13b從表面清洗處理單元SS退避。另夕卜,在上述一系列動(dòng)作中,對(duì)于利用手部13b從某一個(gè)表面清洗處理單元SS搬出一張基板W的情況進(jìn)行了說明,但是在利用其它手部14b?16b時(shí),也只要以與上述搬出一張基板W時(shí)具有相同條件的方式,通過升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)32變更手部的高度,就能夠進(jìn)行同樣的搬出動(dòng)作。
[0169]接著,對(duì)于基板的搬入動(dòng)作進(jìn)行說明??刂撇?0控制升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)32,使臂部15a上升至如下高度,即,保持于手部15b的上表面的未處理基板W2位于旋轉(zhuǎn)卡盤111的上方(圖13A)。接著,控制部60控制進(jìn)退驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)29,使臂部15a伸長(zhǎng)。由此,使手部15b進(jìn)行水平移動(dòng)來(lái)進(jìn)入表面清洗處理單元SS的內(nèi)部,如圖13B所示,保持在手部15b的上側(cè)的基板W2配置于旋轉(zhuǎn)卡盤111的上方。然后,控制部60控制升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)32,使手部15b下降。由此,如圖13C所示,被手部15b保持的基板W2交至旋轉(zhuǎn)卡盤111。然后,控制部60控制進(jìn)退驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)29,使臂部15a收縮。由此,如圖13D所示,手部15b從表面清洗處理單元SS退避。<
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