本技術(shù)涉及硅片加工設(shè)備領(lǐng)域，特別涉及一種硅片刻蝕機(jī)的下料裝置。

背景技術(shù)：

1、刻蝕工藝是把未被抗蝕劑掩蔽的薄膜層除去，從而在薄膜上得到與抗蝕劑膜上完全相同圖形的工藝，在集成電路制造過(guò)程中，經(jīng)過(guò)掩模套準(zhǔn)、曝光和顯影，在抗蝕劑膜上復(fù)印出所需的圖形，或者用電子束直接描繪在抗蝕劑膜上產(chǎn)生圖形，然后把此圖形精確地轉(zhuǎn)移到抗蝕劑下面的氧化硅上去，制造出所需的薄層圖案，而在硅片進(jìn)行刻蝕加工之后需要下料。

2、申請(qǐng)人經(jīng)過(guò)檢索發(fā)現(xiàn)中國(guó)專(zhuān)利公開(kāi)了“一種激光刻蝕機(jī)自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)”，其公開(kāi)號(hào)為“cn217913494u”，該專(zhuān)利主要通過(guò)上料裝置控制最上端產(chǎn)品的高度位置，為產(chǎn)品的上料提供基礎(chǔ)，通過(guò)上料搬運(yùn)機(jī)械手將上料裝置最上端的產(chǎn)品搬運(yùn)至工作臺(tái)上進(jìn)行加工，同時(shí)下料搬運(yùn)機(jī)械手將工作臺(tái)上加工完成的產(chǎn)品搬運(yùn)至下料裝置中進(jìn)行收集，驅(qū)動(dòng)總成驅(qū)動(dòng)上料搬運(yùn)機(jī)械手與下料搬運(yùn)機(jī)械手同步工作，提高上下料的效率；

3、上述裝置通過(guò)一系列結(jié)構(gòu)能夠完成對(duì)加工完成的產(chǎn)品進(jìn)行上料和下料，并且提高上下料的效率，但是上述裝置在將加工完成的產(chǎn)品進(jìn)行下料時(shí)通過(guò)機(jī)械手進(jìn)行夾持容易導(dǎo)致機(jī)械手碰到硅片對(duì)硅片造成傷害，從而影響硅片的使用并且影響硅片刻蝕的良品率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種硅片刻蝕機(jī)的下料裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出的上述裝置使用時(shí)機(jī)械手容易對(duì)硅片造成損害，從而影響硅片的使用和硅片刻蝕良品率的問(wèn)題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：一種硅片刻蝕機(jī)的下料裝置，包括兩個(gè)支撐腿，兩個(gè)所述支撐腿的頂面均固定連接有支撐板，兩個(gè)所述支撐板的頂面共同固定連接有刻蝕機(jī)本體，兩個(gè)所述支撐板之間共同設(shè)有傳送帶，兩個(gè)所述支撐板的頂面均固定連接有支撐柱，其中一個(gè)所述支撐板表面的一側(cè)固定連接有第一電機(jī)，兩個(gè)所述支撐板的相反一面均設(shè)有對(duì)刻蝕完成的硅片進(jìn)行收納的收納組件，兩個(gè)所述支撐柱的頂面共同設(shè)有能夠進(jìn)行平移的傳動(dòng)組件，所述傳動(dòng)組件上設(shè)有能夠上下移動(dòng)對(duì)刻蝕完成的硅片進(jìn)行吸附的吸附組件。

3、優(yōu)選的，所述收納組件包括固定板，所述固定板表面的一側(cè)與支撐板的一面固定連接，所述固定板的頂面四角處均固定連接有限位柱，四個(gè)所述限位柱的內(nèi)壁共同滑動(dòng)連接有收納筐，所述收納筐表面的兩側(cè)均固定連接有把手，所述收納筐的內(nèi)壁固定連接有緩沖墊。

4、優(yōu)選的，所述收納組件還包括加強(qiáng)筋，所述加強(qiáng)筋的一面與支撐腿的一面固定連接，所述加強(qiáng)筋的頂面與固定板的底面固定連接。

5、優(yōu)選的，所述傳動(dòng)組件包括傳動(dòng)箱以及固定于傳動(dòng)箱表面一側(cè)的第二電機(jī)，所述傳動(dòng)箱的底面與兩個(gè)支撐柱的頂面固定連接，所述傳動(dòng)箱內(nèi)壁的一側(cè)轉(zhuǎn)動(dòng)連接有傳動(dòng)絲桿，所述傳動(dòng)絲桿的桿壁螺紋連接有兩個(gè)傳動(dòng)塊，所述傳動(dòng)絲桿的一端貫傳動(dòng)箱內(nèi)壁的一側(cè)并延伸至傳動(dòng)箱表面的一側(cè)與第二電機(jī)的輸出端固定連接。

6、優(yōu)選的，所述傳動(dòng)組件還包括開(kāi)設(shè)在傳動(dòng)箱表面一側(cè)的滑動(dòng)槽以及開(kāi)設(shè)在傳動(dòng)箱內(nèi)壁一側(cè)的限位槽，所述滑動(dòng)槽與傳動(dòng)箱的內(nèi)部相通，所述滑動(dòng)槽的內(nèi)壁與兩個(gè)傳動(dòng)塊的表面滑動(dòng)連接，所述限位槽的內(nèi)壁滑動(dòng)連接有兩個(gè)限位塊，兩個(gè)所述限位塊的一面分別與兩個(gè)傳動(dòng)塊的一面固定連接。

7、優(yōu)選的，所述吸附組件包括兩個(gè)連接板，兩個(gè)所述連接板的一面分別與對(duì)應(yīng)的傳動(dòng)塊的一面固定連接，兩個(gè)所述連接板的底面共同固定連接有安裝板，所述安裝板底面的兩側(cè)分別固定連接有第一電動(dòng)伸縮桿以及第二電動(dòng)伸縮桿，所述第一電動(dòng)伸縮桿以及第二電動(dòng)伸縮桿的底端均固定連接有電動(dòng)吸盤(pán)。

8、優(yōu)選的，兩個(gè)所述電動(dòng)吸盤(pán)之間的距離與傳送帶中心位置到其中一個(gè)收納筐的中心處距離相等。

9、優(yōu)選的，兩個(gè)所述支撐板的頂面均固定連接有擋塊。

10、本實(shí)用新型的技術(shù)效果和優(yōu)點(diǎn)：本實(shí)用性新型通過(guò)傳送帶將已經(jīng)刻蝕完成的硅片送出，然后再由傳動(dòng)組件帶動(dòng)吸附組件進(jìn)行移動(dòng)，然后將刻蝕完成的硅片進(jìn)行吸附，然后將刻蝕完成的硅片送至收納組件里進(jìn)行收納，從而避免了因?yàn)闄C(jī)械手對(duì)硅片進(jìn)行抓取時(shí)造成硅片損壞而影響硅片的使用和硅片刻蝕良品率的問(wèn)題，并且通過(guò)傳動(dòng)組件與吸附組件的配合能夠提高下料的效率。

技術(shù)特征：

1.一種硅片刻蝕機(jī)的下料裝置，包括兩個(gè)支撐腿(1)，其特征在于：兩個(gè)所述支撐腿(1)的頂面均固定連接有支撐板(5)，兩個(gè)所述支撐板(5)的頂面共同固定連接有刻蝕機(jī)本體(9)，兩個(gè)所述支撐板(5)之間共同設(shè)有傳送帶(7)，兩個(gè)所述支撐板(5)的頂面均固定連接有支撐柱(10)，其中一個(gè)所述支撐板(5)表面的一側(cè)固定連接有第一電機(jī)(8)，兩個(gè)所述支撐板(5)的相反一面均設(shè)有對(duì)刻蝕完成的硅片進(jìn)行收納的收納組件(4)，兩個(gè)所述支撐柱(10)的頂面共同設(shè)有能夠進(jìn)行平移的傳動(dòng)組件(2)，所述傳動(dòng)組件(2)上設(shè)有能夠上下移動(dòng)對(duì)刻蝕完成的硅片進(jìn)行吸附的吸附組件(3)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片刻蝕機(jī)的下料裝置，其特征在于：所述收納組件(4)包括固定板(405)，所述固定板(405)表面的一側(cè)與支撐板(5)的一面固定連接，所述固定板(405)的頂面四角處均固定連接有限位柱(404)，四個(gè)所述限位柱(404)的內(nèi)壁共同滑動(dòng)連接有收納筐(401)，所述收納筐(401)表面的兩側(cè)均固定連接有把手(403)，所述收納筐(401)的內(nèi)壁固定連接有緩沖墊(402)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種硅片刻蝕機(jī)的下料裝置，其特征在于：所述收納組件(4)還包括加強(qiáng)筋(406)，所述加強(qiáng)筋(406)的一面與支撐腿(1)的一面固定連接，所述加強(qiáng)筋(406)的頂面與固定板(405)的底面固定連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片刻蝕機(jī)的下料裝置，其特征在于：所述傳動(dòng)組件(2)包括傳動(dòng)箱(201)以及固定于傳動(dòng)箱(201)表面一側(cè)的第二電機(jī)(202)，所述傳動(dòng)箱(201)的底面與兩個(gè)支撐柱(10)的頂面固定連接，所述傳動(dòng)箱(201)內(nèi)壁的一側(cè)轉(zhuǎn)動(dòng)連接有傳動(dòng)絲桿(204)，所述傳動(dòng)絲桿(204)的桿壁螺紋連接有兩個(gè)傳動(dòng)塊(205)，所述傳動(dòng)絲桿(204)的一端貫傳動(dòng)箱(201)內(nèi)壁的一側(cè)并延伸至傳動(dòng)箱(201)表面的一側(cè)與第二電機(jī)(202)的輸出端固定連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種硅片刻蝕機(jī)的下料裝置，其特征在于：所述傳動(dòng)組件(2)還包括開(kāi)設(shè)在傳動(dòng)箱(201)表面一側(cè)的滑動(dòng)槽(203)以及開(kāi)設(shè)在傳動(dòng)箱(201)內(nèi)壁一側(cè)的限位槽(207)，所述滑動(dòng)槽(203)與傳動(dòng)箱(201)的內(nèi)部相通，所述滑動(dòng)槽(203)的內(nèi)壁與兩個(gè)傳動(dòng)塊(205)的表面滑動(dòng)連接，所述限位槽(207)的內(nèi)壁滑動(dòng)連接有兩個(gè)限位塊(206)，兩個(gè)所述限位塊(206)的一面分別與兩個(gè)傳動(dòng)塊(205)的一面固定連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種硅片刻蝕機(jī)的下料裝置，其特征在于：所述吸附組件(3)包括兩個(gè)連接板(301)，兩個(gè)所述連接板(301)的一面分別與對(duì)應(yīng)的傳動(dòng)塊(205)的一面固定連接，兩個(gè)所述連接板(301)的底面共同固定連接有安裝板(302)，所述安裝板(302)底面的兩側(cè)分別固定連接有第一電動(dòng)伸縮桿(303)以及第二電動(dòng)伸縮桿(304)，所述第一電動(dòng)伸縮桿(303)以及第二電動(dòng)伸縮桿(304)的底端均固定連接有電動(dòng)吸盤(pán)(305)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種硅片刻蝕機(jī)的下料裝置，其特征在于：兩個(gè)所述電動(dòng)吸盤(pán)(305)之間的距離與傳送帶(7)中心位置到其中一個(gè)收納筐(401)的中心處距離相等。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片刻蝕機(jī)的下料裝置，其特征在于：兩個(gè)所述支撐板(5)的頂面均固定連接有擋塊(6)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)了一種硅片刻蝕機(jī)的下料裝置，涉及硅片加工設(shè)備領(lǐng)域，包括兩個(gè)支撐腿，兩個(gè)所述支撐腿的頂面均固定連接有支撐板，兩個(gè)所述支撐板的頂面共同固定連接有刻蝕機(jī)本體，兩個(gè)所述支撐板之間共同設(shè)有傳送帶，兩個(gè)所述支撐板的頂面均固定連接有支撐柱。本技術(shù)通過(guò)傳送帶將已經(jīng)刻蝕完成的硅片送出，然后再由傳動(dòng)組件帶動(dòng)吸附組件進(jìn)行移動(dòng)，然后將刻蝕完成的硅片進(jìn)行吸附，然后將刻蝕完成的硅片送至收納組件里進(jìn)行收納，從而避免了因?yàn)闄C(jī)械手對(duì)硅片進(jìn)行抓取時(shí)造成硅片損壞而影響硅片的使用和硅片刻蝕良品率的問(wèn)題，并且通過(guò)傳動(dòng)組件與吸附組件的配合能夠提高下料的效率。

技術(shù)研發(fā)人員：馬勝南,馬勝北
受保護(hù)的技術(shù)使用者：南軒（天津）科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240521
技術(shù)公布日：2025/1/6