本實(shí)用新型涉及電子元器件領(lǐng)域,具體是一種分流電阻器。
背景技術(shù):
分流電阻器廣泛應(yīng)用于數(shù)字式電度表、高精密測(cè)試儀表、以及所有對(duì)電流進(jìn)行測(cè)量、取樣、分流的各種儀器儀表中,也可作為電流傳感器的主要部件。目前傳統(tǒng)的分流電阻器精度較低,且溫度系數(shù)偏高,難以滿足更高的要求。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的目的在于提供一種分流電阻器,該電阻器精度高、溫度系數(shù)低,并且能夠消除接觸電阻與連線電阻,提高電阻器的整體性能。
本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:
分流電阻器,包括由相連的上部T2紫銅導(dǎo)電片、錳銅片與下部T2紫銅導(dǎo)電片構(gòu)成的電阻體,下部T2紫銅導(dǎo)電片設(shè)有引腳;所述錳銅片中部?jī)蓚?cè)均設(shè)有凹口,兩側(cè)的凹口處分別設(shè)有朝內(nèi)的切口,形成調(diào)阻區(qū);所述引腳包括四個(gè)。
進(jìn)一步的,所述分流電阻器還包括將電阻體包覆的硅酮模壓殼體,所述引腳伸出硅酮模壓殼體外。
進(jìn)一步的,所述引腳上電鍍有錫層。
本實(shí)用新型的有益效果是:
一、采用多向切口調(diào)阻結(jié)構(gòu),每個(gè)切口均可以實(shí)現(xiàn)電阻阻值精密調(diào)節(jié),保證了電阻的高精度;同時(shí),多向切口結(jié)構(gòu),避免了單側(cè)調(diào)阻過(guò)度造成的局部導(dǎo)電帶過(guò)窄的問(wèn)題,使電阻導(dǎo)電帶寬度均勻,通過(guò)的電流密度也均勻,整個(gè)電阻體不會(huì)出現(xiàn)局部發(fā)熱過(guò)高的問(wèn)題,保證了產(chǎn)品精度、使用功率及長(zhǎng)期使用的穩(wěn)定性;
二、在采用多向切口調(diào)阻結(jié)構(gòu),保證了產(chǎn)品功率的前提下;凹口深入錳銅片,將T2紫銅導(dǎo)電片和錳銅片的焊接共融區(qū)域完全去除,徹底解決了T2銅與電子束焊焊縫對(duì)電阻溫度系數(shù)的影響,實(shí)現(xiàn)了低溫度系數(shù);
三、由于本電阻是毫歐級(jí)電阻,屬于低阻值測(cè)量系統(tǒng),在低阻測(cè)量中,因測(cè)量電路中總是存在接觸電阻與連線電阻,其大小約為0.01Ω數(shù)量級(jí),但待測(cè)電阻≤0.001Ω,接觸電阻與連線電阻使得測(cè)量結(jié)果失去正確性。因此,本實(shí)用新型采用四個(gè)引腳的設(shè)計(jì),利用開(kāi)爾文四線檢測(cè)原理,它是一種電阻抗測(cè)量技術(shù),使用單獨(dú)的對(duì)載電流和電壓檢測(cè)電極,相比兩個(gè)終端端子測(cè)量能夠進(jìn)行更精確的測(cè)量電阻阻值,從而消除接觸電阻與連線電阻;
四、增加硅酮模壓殼體,相對(duì)于傳統(tǒng)的裸片、涂漆或注塑方式,耐溫與熱傳導(dǎo)性能都有了明顯提高。
五、采用電鍍工藝對(duì)引腳進(jìn)行鍍錫處理,相對(duì)于傳統(tǒng)的不處理或搪錫處理,使得錫層厚度一致,方便焊接。
附圖說(shuō)明
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明:
圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本實(shí)用新型電阻體的示意圖。
具體實(shí)施方式
結(jié)合圖1與圖2所示,本實(shí)用新型提供一種分流電阻器,包括由相連的上部T2紫銅導(dǎo)電片1、錳銅片2與下部T2紫銅導(dǎo)電片3構(gòu)成的電阻體,下部T2紫銅導(dǎo)電片3設(shè)有引腳4;所述錳銅片2中部?jī)蓚?cè)均設(shè)有凹口5,兩側(cè)的凹口處分別設(shè)有朝內(nèi)的切口6,形成調(diào)阻區(qū);所述引腳4包括四個(gè)。所述分流電阻器還包括將電阻體包覆的硅酮模壓殼體7,引腳4伸出硅酮模壓殼體7外;引腳4上還電鍍有錫層8。
具體制造時(shí),可將兩條T2紫銅帶與一條錳銅帶采用電子束焊接工藝制成條狀電阻體帶材,再經(jīng)過(guò)退火等工藝,最后按所需電阻體的形狀整體沖壓成型。
以上所述,僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并非對(duì)本實(shí)用新型作任何形式上的限制;任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員,在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍情況下,都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案做出許多可能的變動(dòng)和修飾,或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此,凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同替換、等效變化及修飾,均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。