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半導(dǎo)體裝置及其制造方法與流程

文檔序號(hào):12129212閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種半導(dǎo)體裝置,其特征在于具備:

襯底;

第1電極,設(shè)置在所述襯底的上表面?zhèn)龋?/p>

第2電極,設(shè)置在所述襯底的下表面?zhèn)龋遗c所述第1電極電連接;

第1光阻劑層,以包圍所述第1電極的方式設(shè)置在所述襯底的所述上表面?zhèn)龋遗c所述第1電極隔開;以及

第2光阻劑層,設(shè)置在所述襯底的所述下表面?zhèn)取?/p>

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于:

所述第1電極的上表面的高度低于所述第1光阻劑層的上表面的高度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于:

所述第1光阻劑層具有包圍所述第1電極的外周的內(nèi)周,

所述第1電極的所述外周具有第1直徑,

所述第1光阻劑層的所述內(nèi)周具有大于所述第1直徑的第2直徑。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于:

所述第2電極設(shè)置在所述襯底的所述下表面?zhèn)燃八鲆r底內(nèi)。

5.一種半導(dǎo)體裝置,其特征在于具備:

第1芯片;以及

第2芯片,設(shè)置在所述第1芯片上;且

所述第1及第2芯片各自具備:

襯底;

第1電極,設(shè)置在所述襯底的上表面?zhèn)龋?/p>

第2電極,設(shè)置在所述襯底的下表面?zhèn)?,且與所述第1電極電連接;

第1光阻劑層,以包圍所述第1電極的方式設(shè)置在所述襯底的所述上表面?zhèn)?,且與所述第1電極隔開;以及

第2光阻劑層,設(shè)置在所述襯底的所述下表面?zhèn)?;?/p>

所述第2芯片是以所述第2芯片的所述第2電極與所述第1芯片的所述第1電極相接的方式,設(shè)置在所述第1芯片上。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于:

所述第2芯片是以所述第2芯片的所述第2光阻劑層與所述第1芯片的所述第1光阻劑層相接的方式,設(shè)置在所述第1芯片上。

7.一種半導(dǎo)體裝置的制造方法,其特征在于包含:

在襯底的上表面?zhèn)刃纬傻?電極;

在所述襯底的所述上表面?zhèn)?,形成包圍所述?電極且與所述第1電極隔開的第1光阻劑層;

在所述襯底的下表面?zhèn)刃纬膳c所述第1電極電連接的第2電極;以及

在所述襯底的所述下表面?zhèn)刃纬傻?光阻劑層。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的半導(dǎo)體裝置的制造方法,其特征在于:

還包含在所述襯底的所述下表面形成孔,

所述第2電極形成在所述襯底的所述下表面?zhèn)燃八鲆r底的所述孔內(nèi)。

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