本發(fā)明涉及一種裝載口，其用于相對于收納半導(dǎo)體晶圓等薄板狀的基板等的密閉容器搬入或搬出該基板等。本發(fā)明尤其涉及具有氣氛置換功能的裝載口及裝載口的氣氛置換方法，為了在處理各種薄板狀的基板等時在各處理工序之間進行搬運，在相對于在從外部環(huán)境被隔離的氣氛內(nèi)收納多個薄板狀的基板等的密閉容器搬入或搬出薄板狀的基板等時，將容器內(nèi)部的氣氛置換成非活性氣體等的氣氛。

背景技術(shù)：

在本說明書中，各種薄板狀的基板等包括半導(dǎo)體晶圓、液晶顯示器面板用基板、有機EL顯示器面板用基板、等離子顯示器面板用基板、或太陽能電池用面板用基板等薄板狀的基板，在以下的說明中，將以上的各種薄板狀的基板等簡稱為“基板或薄板狀基板”。

以往，在對半導(dǎo)體晶圓等薄板狀基板進行鍍膜或蝕刻等各式各樣的處理的各種處理裝置、進行基板的移載的EFEM(Equipment Front End Module)、以及將批次編號讀取分類的被稱為分揀機的裝置等中，為了防止空氣中浮游的微粒附著在薄板狀基板上，采用將薄板狀基板所曝露的裝置內(nèi)部氣氛保持在高度清潔的微環(huán)境方式。在該微環(huán)境方式中，通過將被高度清潔化的空氣僅向EFEM內(nèi)部的比較微小的空間(微環(huán)境空間)供給，從而能夠以比較便宜的費用將基板存在的空間維持為高清潔度。

但是近年來，半導(dǎo)體電路線寬度的微細化快速推進，逐漸出現(xiàn)僅靠基于以往的微環(huán)境方式的高清潔化無法應(yīng)對的問題。尤其是，有時候被處理裝置處理并搬入到密閉容器內(nèi)部的薄板狀基板的表面與空氣中的氧和水分發(fā)生反應(yīng)，生成自然氧化膜之類的各種處理工序中不優(yōu)選的膜。因這種氧化膜存在而產(chǎn)生形成于薄板狀基板的表面的組件無法確保所期望的特性的問題。另外，由于將在處理裝置內(nèi)使用的污染物質(zhì)以附著在薄板狀基板上的狀態(tài)搬入到密閉容器內(nèi)，因此還存在該污染物質(zhì)甚至污染到密閉容器內(nèi)的其他薄板狀基板，對下一個處理工序帶來負面影響而導(dǎo)致成品率惡化的情況。

作為解決這種問題的方法，以往考慮如下方法：用非活性氣體將進入密閉容器內(nèi)的空氣或污染物質(zhì)除去，通過利用非活性氣體充滿密閉容器內(nèi)來防止收納于內(nèi)部的薄板狀基板表面氧化。在專利文獻1中公開了如下方法：對于載置于1個密閉容器即FOUP(Front Opening Unified Pod)的晶圓，從在隔開規(guī)定距離的位置以進退自如的方式設(shè)置的凈化托板將非活性的凈化氣體朝FOUP內(nèi)部供給，由此將附著在晶圓表面的污染物質(zhì)除去。在收納于該凈化托板的內(nèi)部的凈化氣體供給噴嘴的前端部，具備抑制凈化氣體的噴出力的元件，防止凈化氣體有力地朝FOUP內(nèi)部噴出。

根據(jù)該方法，通過不產(chǎn)生亂流地將大量的凈化氣體供給至FOUP內(nèi)部，由此能夠在不使滯留在FOUP內(nèi)部的塵埃飛散的情況下短時間內(nèi)置換FOUP內(nèi)部的氣氛。

在先技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利第5448000號公報

但是在上述的方法中，在全部的處理完成的基板被收納于FOUP內(nèi)之前，F(xiàn)OUP的開口未被蓋封閉。且，在即將利用蓋封堵之前，利用凈化氣體置換FOUP內(nèi)部的氣氛。因此，在利用凈化氣體進行置換之前的期間，載置于FOUP內(nèi)部的基板的表面長時間曝露于空氣中的氧和水分。尤其是，在從第1張基板搬運到FOUP內(nèi)部到最后的基板被搬運為止需要長時間的處理工序的情況下，這期間曝露于氧和水分的基板的表面的氧化持續(xù)進行，因在此生成的氧化膜而產(chǎn)生半導(dǎo)體組件無法獲得所期望的特性的問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的課題

本發(fā)明是鑒于以上的問題點而完成的，提供一種氣氛置換裝置，通過訊速地將表面處理結(jié)束并搬入到FOUP內(nèi)部的基板的表面凈化，由此防止形成于基板表面的半導(dǎo)體電路的氧化。

用于解決課題的手段

為了解決上述的以往的問題點，在本發(fā)明中，在比將基板收納容器的蓋取下的第2位置進一步靠里的第3位置，設(shè)置將基板收納容器的第1開口部遮蔽并且能夠局部開閉的開閉器部，朝該封閉空間內(nèi)供給凈化氣體來防止基板的氧化等化學(xué)變化。開閉器部具備遮蔽部，通過將該遮蔽板開閉而能夠?qū)⒈鹊?開口部窄的第3開口部開閉。經(jīng)由該第3開口部將基板相對于基板收納容器搬出或搬入。由于第3開口部比第1開口部窄(小)，因此凈化氣體朝外部漏出的量少。

本發(fā)明的第1方式提供一種具有氣氛置換功能的裝載口，其載置基板收納容器，用于使所述基板相對于所述基板收納容器進出，所述基板收納容器為了將多個所述基板載置收納到內(nèi)部而形成有在鉛垂方向以一定的間隔配置的多個擱板，并且所述基板收納容器具有用于使所述基板進出的第1開口部、以及能夠?qū)⒃摰?開口部開閉的蓋部，其中，具備：載臺，在該載臺的第1位置載置并固定所述基板收納容器；載臺驅(qū)動部，其使所述載臺在所述第1位置、第2位置及第3位置之間進退移動；門，其在從所述第1位置前進的位置、即所述第2位置與所述基板收納容器的所述蓋部卡合，相對于所述基板收納容器裝卸所述蓋部；門升降部，其使所述門升降移動；框體，其在從所述第2位置進一步前進的位置、即所述第3位置與所述基板收納容器的周緣部抵接；開閉器部，其配置為能夠局部開閉，在所述框體的與所述基板收納容器相反的一側(cè)，將被所述框體包圍的所述第2開口部整體關(guān)閉；開閉器驅(qū)動部，其選擇性地驅(qū)動所述開閉器部的一部分進行開閉，以便在所述開閉器部的所期望的位置設(shè)置比所述第2開口部小的第3開口部；以及至少一個凈化噴嘴，其向所述基板收納容器的內(nèi)部供給凈化氣體。

作為凈化噴嘴，能夠設(shè)置朝基板收納容器的底部供給凈化氣體的底部凈化噴嘴、在基板收納容器的開口部的側(cè)部供給凈化氣體的側(cè)部凈化噴嘴等。通過采用上述結(jié)構(gòu)，能夠利用凈化氣體對收納基板的空間即基板收納容器及開閉器部包圍而成的空間的內(nèi)部進行氣氛置換，且僅能夠在基板的搬入搬出時將狹窄的第3開口部開閉。因此，在搬入搬出時不需要預(yù)先將第1開口部長時間打開，外部氣氛朝基板收納容器內(nèi)的侵入被抑制。

本發(fā)明的另一實施方式提供一種具有氣氛置換功能的裝載口，所述開閉器部具備以能夠上下移動的方式堆疊配置的多個遮蔽板，所述開閉器驅(qū)動部具備遮蔽板驅(qū)動部，該遮蔽板驅(qū)動部與任意位置的所述遮蔽板卡合，使該遮蔽板以及層疊在該遮蔽板之上的所述遮蔽板升降移動，由此將所述第3開口部開閉。

本發(fā)明的另一實施方式提供一種裝載口的氣氛置換方法，該裝載口用于使所述基板相對于基板收納容器進出，所述基板收納容器為了將多個所述基板載置收納到內(nèi)部而形成有在鉛垂方向以一定的間隔配置的多個擱板，并且所述基板收納容器具有用于使所述基板進出的第1開口部、以及能夠?qū)⒃摰?開口部開閉的蓋部，在該裝載口中，通過將搬入到所述基板收納容器的內(nèi)部的基板的表面迅速凈化，由此防止形成于基板表面的半導(dǎo)體電路氧化，其中，包括以下工序：將所述基板收納容器載置在停止于第1位置的載臺的工序；將所述載臺從所述第1位置前進移動至第2位置，將所述基板收納容器的所述蓋取下的工序；使所述載臺從所述第2位置進一步前進移動，并將凈化氣體供給至所述收納容器內(nèi)的工序；將所述載臺前進移動至進行所述基板的進出的第3位置，使所述基板收納容器的所述第1開口部的周緣部與框體抵接的工序；響應(yīng)使所述基板收納容器向所述棚部接近的接近要求訊號，將遮蔽所述框體的開口部即第2開口部的開閉器部的一部分打開，在與存在接近要求的所述棚部的位置對應(yīng)的位置，形成比所述第1開口部窄的開口即第3開口部的工序；以及響應(yīng)針對所述棚部的接近結(jié)束訊號，將所述第3開口部關(guān)閉的工序。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明，由于能夠在將蓋取下的狀態(tài)下向基板收納容器的內(nèi)部供給凈化氣體，因此不需等待基板的搬入或搬出完成就能夠向基板收納容器內(nèi)充滿凈化氣體，能夠防止或抑制基板的氧化等。另外，由于能夠?qū)⒈然迨占{容器的開口部窄的第3開口部開閉而將基板搬出或搬入，由此能夠以高濃度維持基板收納容器內(nèi)部的凈化氣體氣氛，能夠抑制基板表面的氧化等。

附圖說明

圖1是示出一般的復(fù)合處理裝置1的概要的立體圖。

圖2是復(fù)合處理裝置1的剖視圖。

圖3是示出以往的裝載口2的概要的立體圖。

圖4是示出晶圓收納容器之一、即FOUP的構(gòu)造的立體圖。

圖5是示出本發(fā)明的一實施方式的裝載口的剖視圖。

圖6是從上方觀察本發(fā)明的一實施方式的裝載口的開閉器部周邊時的剖視圖。

圖7是示意性地示出開閉器部附近的立體圖，且是示出凈化托板的一實施方式的立體圖。

圖8是從側(cè)面觀察開閉器部附近時的剖視圖。

圖9是示出控制部的控制系統(tǒng)的圖。

圖10是示出載臺位于第1位置(等待位置)和第2位置(基座位置)的狀態(tài)的圖。

圖11是示出載臺位于映射位置和第3位置(搬運位置)的狀態(tài)的圖。

圖12是示出遮蔽板驅(qū)動部的動作狀態(tài)的一部分的剖視圖。

圖13是示出遮蔽板驅(qū)動部的動作狀態(tài)的一部分的剖視圖。

圖14是示出載體內(nèi)部及晶圓收納空間內(nèi)部的狀態(tài)的剖視圖。

圖15是用空心箭頭示出開口部附近的向下流動的狀態(tài)的圖。

圖16是示出開口部凈化噴嘴的圖。

圖17是示出具備凈化塔的FOUP的剖視圖。

圖18是示出將側(cè)面凈化噴嘴設(shè)置于框體的例子的圖。

具體實施方式

以下參照附圖詳細說明本發(fā)明的實施方式。圖1是示出包括裝載口、微環(huán)境裝置、各種處理裝置等的復(fù)合處理裝置1的立體圖，圖2是示意性地示出其剖面的圖。復(fù)合處理裝置1設(shè)置于被稱為清潔室(clean room)的、0.5μm以上的灰塵在1立方英尺中100個以下的約為等級100的比較清潔的氣氛的工場內(nèi)。復(fù)合處理裝置1主要包括裝載口2、微環(huán)境空間3、搬運機器人4、風(fēng)扇過濾器單元5、搬運腔室6、各種加工腔室(處理裝置)7、裝載鎖定腔室9。微環(huán)境空間3借助框架3a、固定于框架3a且與外部氣氛分離的壁面、設(shè)置在頂棚的風(fēng)扇過濾器單元5而形成封閉空間。風(fēng)扇過濾器單元5是設(shè)置在頂棚并在將來自外部的空氣凈化為高清潔度的空氣之后，作為向下的層流而朝微環(huán)境空間3導(dǎo)入的高清潔空氣導(dǎo)入機構(gòu)。在風(fēng)扇過濾器單元5中，具備朝向微環(huán)境空間3的內(nèi)部向下供給空氣的風(fēng)扇、以及將存在于被送來的空氣中的微小的塵埃和有機物等污染物質(zhì)除去的高性能的過濾器。另外，在微環(huán)境空間3的底面10安裝有沖壓板等具有規(guī)定的開孔率的空氣能夠流通的構(gòu)件。

通過上述的結(jié)構(gòu)，從風(fēng)扇過濾器單元5供給至微環(huán)境空間3的內(nèi)部的清潔的空氣在微環(huán)境空間3內(nèi)一直朝下方流動，從底面10朝裝置外部排出。另外，因搬運機器人4等的動產(chǎn)生發(fā)生的塵埃也隨著該向下的流動而朝裝置外部排出。因此，微環(huán)境空間3內(nèi)部被保持為高清潔氣氛。搬運機器人4將薄板狀基板的1種即晶圓15保持在指狀部52上，在FOUP13及加工腔室7之間進行搬運，通過機械人4的臂可動部分采用磁性流體密封件等防止引發(fā)灰塵構(gòu)造，從而極力抑制由引發(fā)灰塵所產(chǎn)生的對于晶圓15的負面影響。進一步，微環(huán)境空間3內(nèi)部的氣壓維持在比外部氣氛大1.5Pa的程度，防止來自外部的污染物質(zhì)和塵埃的侵入，由此微環(huán)境空間3的內(nèi)部維持0.5μm灰塵在1立方英尺內(nèi)1個以下的等級1以上的較高的清潔度。

接著，首先參照圖3說明載置FOUP13并將FOUP13的蓋17開閉的以往的裝載口2。至少公知的裝載口2具備：固定于形成微環(huán)境空間3的框架3a的規(guī)定的位置且將FOUP13載置在規(guī)定的位置的載臺14；具有晶圓15能夠通過的面積的端口開口部11；在載臺14移動至規(guī)定的位置時與FOUP13的蓋17一體化的門(FIMS門)12；使載臺14相對于FIMS門12前進、后退移動的載臺驅(qū)動部29；以及使FIMS門12進行升降動作的FIMS門升降部(門升降部)19。在此，F(xiàn)IMS是“Front-Opening Interface Mechanical Standard”的縮略語，表示采用半導(dǎo)體相相關(guān)的國際規(guī)格即根據(jù)SEMI決定的規(guī)格。另外，載臺14具備將FOUP13載置在規(guī)定的位置的動態(tài)銷30、以及將載置于規(guī)定的位置的FOUP13固定的未圖示的固定機構(gòu)。載臺驅(qū)動部29具備驅(qū)動源即馬達29a及進給絲杠29b，馬達29a的旋轉(zhuǎn)被傳遞至進給絲杠29b，從而能夠使載臺14移動至任意位置。需要說明的是，載臺驅(qū)動部29也可以代替馬達29a及進給絲杠29b而具備利用氣壓和液壓之類的流體壓的工作缸。

FOUP13通過配置于載臺14上的動態(tài)銷30準(zhǔn)確地載置在載臺14的規(guī)定的位置。另外，通過利用載臺驅(qū)動部29的工作使FOUP13朝向FIMS門12前進移動，由此使FOUP13的蓋17與FIMS門12抵接。若FOUP13移動至蓋17與FIMS門12抵接的位置，則形成于FOUP13的凸緣部分26及裝載口2的端口開口部11的周圍所具備的凸緣板8形成對置的位置關(guān)系。在此，在公知的裝載口2的構(gòu)造中，例如即使形成為FIMS門12下降移動而載臺14能夠前進的狀態(tài)，由于凸緣板8及凸緣部分26抵接，因此載臺14無法進一步前進。

凸緣板8是配備為將端口開口部11的周緣部包圍的板狀的構(gòu)件，且是限制端口開口部11周緣部分及FOUP13的凸緣部分26的間隙的構(gòu)件。通過使該凸緣板8及凸緣部分26抵接而封堵端口開口部11，防止包含外部的塵埃的低清潔度的空氣流入微環(huán)境空間3內(nèi)部?；蛘?，凸緣板8配置為在與凸緣部分26之間設(shè)置少量的間隙，在內(nèi)壓高的微環(huán)境空間3內(nèi)充滿的清潔空氣通過該間隙朝外部流出，由此承擔(dān)防止包含來自外部的塵埃的空氣流入內(nèi)部的功能。

通過使與FOUP13的蓋17一體化的FIMS門12往復(fù)移動至相對于FOUP13分離的位置，或者通過載臺驅(qū)動部29使載置有FOUP13的載臺14往復(fù)移動至相對于與蓋17一體化的FIMS門12分離的位置，由此能夠?qū)崿F(xiàn)FIMS門12對FOUP13進行的開門及閉門動作。

在FIMS門12上設(shè)有通過吸附力相對于蓋17進行一體化及定位的定位銷23a、及閂鎖鑰匙23。通過將閂鎖鑰匙23b嵌合于蓋17所具備的閂鎖鑰匙孔24(參照圖4(b))并旋轉(zhuǎn)，由此將鎖定機構(gòu)25切換至鎖定狀態(tài)或鎖定解除狀態(tài)。通過上述結(jié)構(gòu)，通過載臺驅(qū)動部29的工作而與FIMS門12抵接的蓋17被解除與載體16鎖定的鎖定狀態(tài)。另外，蓋17及FIMS門12通過使閂鎖鑰匙23b朝鎖定解除方向旋轉(zhuǎn)而一體化。在此，蓋17及FIMS門12「一體化」是指兩者在通過機械機構(gòu)彼此結(jié)合的狀態(tài)下被固定。需要說明的是，上述的機構(gòu)與根據(jù)半導(dǎo)體制造相關(guān)的規(guī)格、即SEMI規(guī)格規(guī)定的FIMS(Front-opening Interface Mechanical Standard)系統(tǒng)對應(yīng)。

當(dāng)蓋17及FIMS門12被一體化時，載臺14繼續(xù)動作，使載體16朝從蓋17分離的方向后退移動，使蓋17及載體16分離?；蛘撸ㄟ^使FIMS門12后退移動的機構(gòu)繼續(xù)動作，使FIMS門12朝相對于載體16分離的方向后退移動，使蓋17及載體16分離。FIMS門12透過托架31升降自如地安裝于FIMS門升降部19。FIMS門12在蓋17及載體16分離之后，通過FIMS門升降部19下降至規(guī)定的位置，搬運機器人4能夠向載體16內(nèi)部接近。通過搬運機器人4向載體16內(nèi)部接近，從而能夠保持載置在載體16的棚18上的晶圓15并朝加工腔室7搬運，將在加工腔室7內(nèi)處理結(jié)束后的晶圓15載置于載體16內(nèi)的棚18。需要說明的是，F(xiàn)IMS門升降部19構(gòu)成為，在本實施方式中通過驅(qū)動源即馬達19a使進給絲杠19b正轉(zhuǎn)或者翻轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)動作，使FIMS門12升降移動至任意位置，但是可取代此，使用利用了空壓或液壓之類的流體壓的工作缸也。

另外，在裝載口2中具備檢測收納于FOUP13內(nèi)部的晶圓15的有無及載置狀態(tài)的晶圓映射傳感器32。在晶圓映射傳感器32中，使用具有朝相對于載置晶圓15的面平行(且相對于圖3的紙面垂直)的方向延伸的光軸的一對透過型傳感器。晶圓映射傳感器32的發(fā)光部及傳感器部分別安裝于U字形狀的傳感器安裝部33的各前端部，傳感器安裝部33的基端安裝于傳感器驅(qū)動部34。傳感器驅(qū)動部34的驅(qū)動源適合采用馬達或旋轉(zhuǎn)致動器，通過這些驅(qū)動源繼續(xù)旋轉(zhuǎn)動作，傳感器安裝部33以驅(qū)動源的軸為中心而轉(zhuǎn)動，晶圓映射傳感器32進入載體16內(nèi)部。傳感器驅(qū)動部34固定于托架31，能夠與FIMS門升降部19的動作連動地進行升降動作。通過利用FIMS門升降部19的動作使傳感器安裝部33進行升降動作，由此晶圓映射傳感器32在載體19內(nèi)從上面移動至下面。由此，在載體19內(nèi)收納有晶圓15的情況下，由于晶圓映射傳感器32的光軸因晶圓15的厚度而被遮蔽，因此能夠檢測載體16內(nèi)的全部的棚18的晶圓15的有無。另外，朝各驅(qū)動部的輸出信號和傳感器等的輸入信號被控制部37控制。

在上述結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，也能夠為了防止從裝載口2所具備的各驅(qū)動源或可動部產(chǎn)生的塵埃朝微環(huán)境空間3侵入而設(shè)置蓋35，或為了防止來自外部的低清潔度空氣的進入而將面向外部的部分被防塵蓋36覆蓋也能夠。且，具備將裝載口內(nèi)發(fā)生的塵埃朝外部排出用的排氣風(fēng)扇38。通過上述結(jié)構(gòu)，不僅能夠防止塵埃流出到微環(huán)境空間3內(nèi)，而且在微環(huán)境空間3內(nèi)流動的高清潔度空氣的向下流動從蓋35的上部開口部分滲入，通過設(shè)在裝載口2的底面的排氣風(fēng)扇38朝外部排出。

接著，參照圖4說明能夠民幣的容器的一例即FOUP13。FOUP13是通過將內(nèi)部維持在高清潔度的氣氛而在將被收納物即晶圓15從低清潔度的外部氣氛隔絕的狀態(tài)下，進行針對晶圓的各處理工序間的搬運的能夠密閉的容器。圖4是示出半導(dǎo)體的晶圓收納容器之一即FOUP13的立體圖。FOUP13包括在內(nèi)部收容晶圓15的箱狀的容器即載體16、及為了使晶圓15進出而將設(shè)在載體16的第1開口部16a密閉的蓋17。另外，在載體16的內(nèi)部壁面上，用于載置晶圓15的擱板18以在鉛錘方向上隔開規(guī)定間隔的方式設(shè)置有多個。需要說明的是，圖4(b)是示出蓋17的FIMS門12側(cè)的面的圖，圖4(c)是示出蓋17的載體16側(cè)的面的圖。蓋17在載體16的開放面與載體16嵌合，將FOUP13內(nèi)部形成密閉空間。

在蓋17的外側(cè)、即FIMS門12側(cè)的面，具備限定蓋17相對于FIMS門12的位置的定位孔22、及用于通過使裝載口2所具備的閂鎖鑰匙23b使蓋17與載體16卡合、分離的閂鎖鑰匙孔24。另外，在蓋17的上下雖具備鎖定機構(gòu)25，但是這是為了將蓋17卡合于載體16的凸緣部分26。此蓋鎖定機構(gòu)25與設(shè)在閂鎖鑰匙孔24的機構(gòu)連動，通過FIMS門12所具備的閂鎖鑰匙23b使閂鎖鑰匙孔24左右旋轉(zhuǎn)，由此能夠?qū)㈡i定機構(gòu)25操作位鎖定狀態(tài)及開放狀態(tài)。

參照圖4(c)說明蓋17的載體16側(cè)的面。在蓋17的與載體16接觸的周緣部分設(shè)有用于保持FOUP13內(nèi)的密閉性的密封件27，在中央部縱方向上具備用于將收納于FOUP13的內(nèi)部的晶圓15的端緣部分朝水平方向按壓固定的具有彈性的保持構(gòu)件28。這些詳細尺寸等信息根據(jù)有關(guān)半導(dǎo)體制造的規(guī)格、即SEMI規(guī)格進行規(guī)定。

進一步，在載體16的底部的固定位置設(shè)置有供給非活性氣體等而將FOUP13內(nèi)部的氣氛與非活性氣體等置換的凈化端口39。凈化端口39設(shè)有用于從外部注入非活性氣體的注入用凈化端口39a、及用于將FOUP13內(nèi)部的空氣朝外部排出的排出用凈化端口39b，在各凈化端口39具備通過注入用氣體的注入壓力或者被排出的內(nèi)部氣氛的排出壓力而從閉狀態(tài)朝開狀態(tài)切換的止回閥，防止逆流。另外，在注入用凈化端口39a中具備用于阻止朝注入用氣體混入的微小的塵埃侵入載體16內(nèi)部的過濾器構(gòu)件。

接著，對于具備本發(fā)明的氣氛置換功能的裝載口進行詳細說明。圖5是從側(cè)面觀察具備本發(fā)明的一實施方式的氣氛置換功能的裝載口40時的剖視圖，圖6是從上面觀察使裝載口40移動至后述的第3位置(基板搬運位置)的狀態(tài)時的剖視圖。裝載口40在所述的公知的裝載口2的結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上還具備配置于從載臺14觀察時的FIMS門12的后方、即靠近搬運機器人4的位置的框體41、及堆疊配置為能夠?qū)⑿纬捎诳蝮w41的開口部41a封閉的遮蔽板43。另外，載臺驅(qū)動部47載置在載臺14上，在通過FIMS門12將蓋17取下之后，載體16的凸緣部分26使載臺14移動至與框體41抵接的位置。進一步在本發(fā)明的一實施方式的裝載口40中，在框體41的開口部41a的配置搬運機器人4的一側(cè)配置有開閉器部42。開閉器部42具備能夠?qū)⒁徊糠志植块_閉的遮蔽部。另外，裝載口40進一步具備驅(qū)動遮蔽部的一部分局部開閉的開閉器驅(qū)動部、及朝FOUP13的載體16的內(nèi)部供給凈化氣體的凈化噴嘴。在本說明書中，遮蔽部例示了具備多個遮蔽板43的結(jié)構(gòu)，開閉器驅(qū)動部例示了能夠使遮蔽板43沿鉛錘方向升降移動的遮蔽板驅(qū)動部44。對于凈化噴嘴如后述。在此，本發(fā)明的凈化氣體是對FOUP13的載體16內(nèi)部的氣氛進行置換的氣體，除了氮、氬、氖、氪之外，也包含干燥空氣。

本發(fā)明的一實施方式的裝載口40所具備的框體41在相對于載臺14比FIMS門12更前方、即比FIMS門12更靠近搬運機器人4的位置，經(jīng)由托架41b而安裝于基座構(gòu)件45?？蝮w41是厚度5～10mm的板狀的構(gòu)件，配置為覆蓋端口開口部11的周圍整體。另外，在框體41上形成有開口部41a，該開口部41a具有與載體16的開口部16a同樣的面積及形狀。搬運機器人4能夠通過框體41的開口部41a及載體16的開口部16a，朝形成于載體16的內(nèi)部的各棚18搬入晶圓15，或者將載置于各棚18的晶圓15朝載體16的外部搬出。在此，將形成于FOUP13的載體16的開口部16a作為第1開口部，相對于此，將形成于框體41的開口部41a作為第2開口部。需要說明的是，密封構(gòu)件46在整周方位內(nèi)安裝在第2開口部即框體41的開口部41a的周緣。該密封構(gòu)件46配置為與凸緣部分26氣密地抵接，該凸緣部分26形成于在前進移動至晶圓交接位置的載體16上形成的第1開口部、即開口部16a的周緣。另外，能夠通過密封構(gòu)件46抑制框體41及凸緣部分26抵接時產(chǎn)生的塵埃。密封構(gòu)件46優(yōu)選由密閉性、緩沖性優(yōu)異的橡膠或硅、由發(fā)泡聚氨酯之類的彈性體形成。

框體41經(jīng)由托架41b而固定于裝載口40的基座構(gòu)件45。該托架41b發(fā)揮隔離件的作用，從而框體41以隔開規(guī)定間隔的方式固定于基座構(gòu)件45，防止框體41與FIMS門12或晶圓映射傳感器32之類的各構(gòu)件沖突。在框體41的開口部41a的周緣部及基座構(gòu)件45之間，以將間隙關(guān)閉的方式固定有護罩48。通過該護罩48使框體41及基座構(gòu)件45的各間隙氣密地封閉。但是，由于FIMS門12和晶圓映射傳感器32通過開口部41a的下方的間隙，因此不配置護罩48。另外，也可以在該護罩48上具備用于向被護罩48覆蓋的空間及載體16的內(nèi)部空間供給凈化氣體的側(cè)面凈化噴嘴49。對于側(cè)面凈化噴嘴49、及朝側(cè)面凈化噴嘴49的凈化氣體供給路徑，如后述。

裝載口40所具備的載臺驅(qū)動部47具備驅(qū)動源即馬達47a及進給絲杠47b，馬達47a的旋轉(zhuǎn)傳遞至進給絲杠47b，能夠使固定于進給絲杠47b的載臺14移動至任意位置。載臺驅(qū)動部47能夠在以下位置進退移動，即，在手動或者與未圖標(biāo)的FOUP搬運裝置之間進行FOUP13的交接的第1位置即等待位置(圖5的位置)、使載臺14前進而使FIMS門12及蓋17抵接并一體化的第2位置即基座位置、及為了在FOUP13本體即載體16與蓋17分離之后與搬運機器人4之間進行晶圓15的交接，進一步使載臺14前進而使形成于載體16的凸緣部分26與框體41抵接的第3位置即搬運位置(圖6的位置)。需要說明的是，也可以取代馬達47a及進給絲杠47b，使用利用氣壓或液壓之類的流體壓的工作缸。需要說明的是，與以往的裝載口2同樣地，F(xiàn)OUP13通過配置于載臺14的定位構(gòu)件即動態(tài)銷30被準(zhǔn)確地載置在載臺14的規(guī)定位置，通過未圖示的卡合機構(gòu)形成與載臺14卡合的構(gòu)造。

在本實施方式的裝載口40的載臺14具備底面凈化噴嘴66。該底面凈化噴嘴66用向朝載體16內(nèi)部供給凈化氣體，配置于與通過動態(tài)銷30定位在載臺14的規(guī)定位置的載體16的底部所具備的凈化端口39a、39b對應(yīng)的位置。經(jīng)由該底面凈化噴嘴66將凈化氣體供給到被載體16及開閉器部42包圍的收納晶圓15的空間的內(nèi)部。

接著，參照圖6、圖7、圖8說明將設(shè)置于框體41的第2開口部即開口部41a封閉的多個遮蔽板43及開閉器部42。圖7是示意性地示出開閉器部42附近的立體圖，圖8是從側(cè)面觀察開閉器部42附近時的局部放大剖視圖。遮蔽板43是方柱狀的構(gòu)件，具有與設(shè)置在框體41的開口部41a的水平方向的尺寸相比更大的長度方向的尺寸，各遮蔽板43均具有與形成于FOUP13的內(nèi)部的各棚18的上下方向的間隔大致相同的高度方向的尺寸(厚度)。該遮蔽板43在鉛錘方向上堆疊配置，從而形成于框體41的開口部41a被層疊的多個遮蔽板43封閉。在各遮蔽板43的左右兩端部附近沿鉛錘方向設(shè)有貫通孔，限制遮蔽板43的水平方向的位置的圓柱狀的構(gòu)件即定位軸50被插入到各貫通孔中。該一對定位軸50配置為以隔開距離的方式相互平行，至少能夠供在指狀部52上水平支承的晶圓15通過。另外，在左右各定位軸50的上端及下端安裝有固定組件51a、51b，進一步，該固定組件51a、51b固定于框體41。

固定組件51a、51b固定于框體41的與載體16側(cè)相反的一側(cè)(配置搬運機器人4一側(cè))的面。另外，各遮蔽板43開口的貫通孔的直徑形成為比定位軸50的直徑略大，各遮蔽板43被支承為，能夠以堆疊在固定于框體41的開口部41a的下側(cè)的固定組件51a上的狀態(tài)沿鉛錘方向移動。上側(cè)的固定組件51b相對于配置于最上層的遮蔽板43的上面以與上方隔開規(guī)定的間隔的方式固定。通過該結(jié)構(gòu)，多個各遮蔽板43能夠從任一位置朝上方向抬起，若抬起規(guī)定的遮蔽板43a，則堆疊于比該規(guī)定的遮蔽板43a靠上方的遮蔽板43的全部被抬起。

如圖8所示，若抬起規(guī)定的遮蔽板43a，則與已抬起的遮蔽板43a的正下方的遮蔽板43b之間局部出現(xiàn)間隙。該間隙成為支承晶圓15及晶圓15的指狀部52能夠通過的開口部65。在此，比已朝上方抬起的遮蔽板43a更靠下方的遮蔽板43處于已堆疊的狀態(tài)靜止的狀態(tài)，比遮蔽板43a更靠上方的遮蔽板43在堆疊的狀態(tài)下與遮蔽板43a一體地朝上方移動。由此，形成比形成于框體41的開口部41a窄的第3開口部65。即，相當(dāng)于開口部41a的區(qū)域中的該第3開口部65以外的部分保持被多個遮蔽板43封閉的狀態(tài)。需要說明的是，各遮蔽板43配置為相對于框體41在搬運機器人側(cè)隔開少量的間隙，以便不與框體41接觸。因此，在各遮蔽板43沿著定位軸50朝上下方向升降移動時，不會因遮蔽板43與框體41接觸而產(chǎn)生塵埃。

在搬運機器人4向載體16內(nèi)的晶圓15接近時，借助已抬起的遮蔽板43a的下邊及該遮蔽板43a的正下方的遮蔽板43b的上邊形成劃分出上下方向的位置的開口部65。因此，優(yōu)選關(guān)閉狀態(tài)下的各遮蔽板43的位置定位為，與固定在載臺14的載體16上形成的擱板18的高度對應(yīng)。例如，既可以是各擱板18的上面、及與該擱板18對置的遮蔽板43的上面或者下面配置為在鉛錘方向上達到相同的高度位置，也可以是與各擱板18的上面對置的遮蔽板43的上面或者下面配置為以規(guī)定尺寸在上下方向上改變位置。尤其是，出于維持載體16內(nèi)部的氣氛的目的，考慮到搬運機器人4所具備的指狀部52的厚度尺寸、被支承于指狀部52且通過開口時的晶圓的撓曲量等，優(yōu)選開口部65調(diào)整為盡可能小的開口面積。

接著參照圖7說明使遮蔽板43沿上下方向升降移動的遮蔽板驅(qū)動部44。遮蔽板驅(qū)動部44包括在左右兩端具備鉤53的遮蔽板支承機構(gòu)54、及使遮蔽板支承機構(gòu)54沿上下方向升降移動的升降驅(qū)動機構(gòu)55。

遮蔽板支承機構(gòu)54包括與形成于遮蔽板43的兩端的缺口部59卡合且在兩端支承遮蔽板43的鉤53、使鉤53在水平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)動作且與缺口部分59卡合的鉤驅(qū)動機構(gòu)56、以及將鉤驅(qū)動機構(gòu)56固定支承的支承構(gòu)件57。鉤53的前端部是具有能夠與遮蔽板43的缺口部分59卡合的形狀及尺寸，固定于一端固定在支承構(gòu)件57的鉤驅(qū)動機構(gòu)56的驅(qū)動軸。鉤驅(qū)動機構(gòu)56例如能夠?qū)飧?8作為驅(qū)動源。氣缸58所具備的活塞桿的伸縮動作通過配置于遮蔽板支承機構(gòu)54的兩端的一對凸輪機構(gòu)或者連桿機構(gòu)而轉(zhuǎn)換成一對鉤53的旋轉(zhuǎn)動作。該氣缸58及凸輪機構(gòu)等以能夠動作的方式固定于支承構(gòu)件57，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過經(jīng)由未圖示的配管及控制用的閥供給壓縮空氣而使氣缸58的活塞桿伸長，另外，當(dāng)停止壓縮空氣的供給而釋放供給壓力時，通過彈性構(gòu)件等使得活塞桿收縮。該活塞桿的伸縮動作通過凸輪機構(gòu)等轉(zhuǎn)換為鉤53的正轉(zhuǎn)、逆轉(zhuǎn)動作。

需要說明的是，在本實施方式中，示出了鉤驅(qū)動機構(gòu)56具備氣缸58與凸輪機構(gòu)等的例子，但是本發(fā)明不限定于此。例如既可以取代氣缸58而使用馬達或電磁鐵，也可以使鉤53在馬達或旋轉(zhuǎn)致動器的旋轉(zhuǎn)軸上旋轉(zhuǎn)。另外，在本實施方式中，通過使鉤53旋轉(zhuǎn)而與缺口部分59卡合，但是除此以外，也完全能夠通過使鉤53滑動移動而與缺口部分59卡合。

接著，說明使遮蔽板支承機構(gòu)54沿鉛垂方向升降移動的升降驅(qū)動機構(gòu)55的結(jié)構(gòu)。升降驅(qū)動機構(gòu)55具備驅(qū)動源即馬達60與進給絲杠61，馬達60的旋轉(zhuǎn)經(jīng)由未圖示的帶輪及皮帶以規(guī)定的減速比傳遞至進給絲杠61，從而使螺合于進給絲杠的移動件62升降移動。本實施方式的升降驅(qū)動機構(gòu)55所具備的馬達60優(yōu)選為能夠通過脈沖進行馬達軸的角度控制的步進馬達或伺服馬達。另外，在升降驅(qū)動機構(gòu)55中具備使移動件62的移動朝鉛垂方向的直線移動導(dǎo)引的導(dǎo)引機構(gòu)63。另外，支承托板64的下部固定于移動件62，支承托板64的頂部安裝于遮蔽板支承機構(gòu)54的支承構(gòu)件57底部，從下方對支承構(gòu)件57進行支承。由此，通過控制馬達60的旋轉(zhuǎn)角度，能夠利用鉤53支承規(guī)定的遮蔽板43的兩端并使之升降移動。

在該結(jié)構(gòu)中，為了將第3開口部開閉，需要使遮蔽板43能夠朝上下方向移動。因此，第3開口部的開閉量根據(jù)上端的固定組件51b及最上層的遮蔽板43的間隔而規(guī)定。因此，通過使該間隔足夠大，能夠?qū)⑸舷碌纳狄苿恿繑U大。即，通過將該間隔擴大，也能夠?qū)⒌?開口部的開口高度設(shè)為各擱板間的距離或者各遮蔽板的間距以上。

另外，當(dāng)使升降驅(qū)動機構(gòu)55朝下方移動時，遮蔽板43借助自重而下降，第3開口部被關(guān)閉。在此，為了將第3開口部可靠地關(guān)閉，通過在上端的固定組件51b與最上層的遮蔽板43之間設(shè)置螺旋彈簧(未圖示)，并朝下方按壓，由此能夠更可靠地將第3開口部關(guān)閉。另外，也可以取代螺旋彈簧而利用板簧或橡膠之類的其他彈性構(gòu)件將最上層的遮蔽板43朝下方按壓。

需要說明的是，在上述的說明中，示出開閉器部在與多個擱板位置對應(yīng)的位置具有與擱板相同數(shù)量的遮蔽板的例子。但是，開閉器部也可以具備比擱板的數(shù)量少的遮蔽板。

另外，遮蔽板驅(qū)動部將第3開口部開閉，以達到與收納一片所述基板的各棚部的區(qū)域相同的高度，由此能夠利用非常小的開口進行基板的搬入搬出。但是，通過利用遮蔽板驅(qū)動部改變遮蔽板的升降移動量，由此能夠變更第3開口部的大小。例如，也能夠選擇性地開閉第3開口部的大小，以使得遮蔽板驅(qū)動部的升降移動量達到與收納一片基板的各棚部的區(qū)域相同的高度、或者達到該高度的整數(shù)倍的高度。

參照圖9對控制以上說明的各種驅(qū)動部和本發(fā)明的裝載口的控制部進行說明。載臺驅(qū)動部47、FIMS門驅(qū)動部19、遮蔽板驅(qū)動部44的各動作由裝載口40所具備的控制部37控制。進一步，控制部37也進行凈化氣體的供給時間點、供給量的切換控制。朝各凈化噴嘴66、49、73(對于凈化噴嘴73如后述)導(dǎo)入的凈化氣體既可以從設(shè)有復(fù)合處理裝置1的工場設(shè)備供給，也可以從復(fù)合處理裝置1內(nèi)所具備的貯留有凈化氣體的容器供給。從供給源67供給的凈化氣體經(jīng)由供給路徑導(dǎo)入至裝載口40，經(jīng)由裝載口40內(nèi)所具備的配管經(jīng)過壓力調(diào)整器68、壓力傳感器69被分配至四個系統(tǒng)。被分配至四個系統(tǒng)的凈化氣體經(jīng)由配管并經(jīng)由各系統(tǒng)所具備的電磁閥70及流量調(diào)整閥71向各凈化噴嘴66、49、73導(dǎo)入。壓力調(diào)整器68對于在供給源67產(chǎn)生的入口側(cè)的壓力變動而將出口側(cè)(裝載口側(cè))的壓力調(diào)整為恒定。壓力傳感器69測定從壓力調(diào)整器68供給的凈化氣體的壓力測量，在凈化氣體相對于預(yù)先設(shè)定的壓力值的上限及下限的閾值處于高壓狀態(tài)或者低壓狀態(tài)的情況下，將警報信號發(fā)送至控制部37。

電磁閥70根據(jù)從控制部37發(fā)送的信號將凈化氣體進行流通的閥開閉，限制凈化氣體的供給。控制部37根據(jù)預(yù)先存儲在配備于內(nèi)部的存儲裝置中的步驟向電磁閥70發(fā)送閥的開閉信號，由此能夠在規(guī)定的時間點進行規(guī)定期間的凈化氣體的供給。另外，在從各電磁閥70與各凈化噴嘴連接的配管路徑中具備流量調(diào)整閥71，能夠利用該流量調(diào)整閥71調(diào)整凈化氣體的準(zhǔn)確流量。在本實施方式的裝載口40中，具備對于底面凈化噴嘴66控制大流量的凈化氣體的流量的電磁閥70a和流量調(diào)整閥71a、以及控制小流量的凈化氣體的流量的電磁閥70b和流量調(diào)整閥71b這兩個系統(tǒng)，對于側(cè)面凈化噴嘴49，具備供給規(guī)定的凈化氣體的電磁閥70c和流量調(diào)整閥71c這一個系統(tǒng)。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，被導(dǎo)入到裝載口40內(nèi)部的凈化氣體能夠在被調(diào)整至規(guī)定的壓力及流量之后，在規(guī)定的時間點以規(guī)定的期間向各凈化噴嘴供給。

接著，參照圖10、圖11對本發(fā)明的一實施方式的裝載口40的動作進行詳細說明。圖10(a)是示出載臺14位于第1位置即等待位置的狀態(tài)的圖，圖10(b)是示出載臺14是位于比第1位置更靠里側(cè)的第2位置(基座位置)，且FIMS門12與蓋17一體化的狀態(tài)的圖。圖11(a)是示出載臺14移動到略微向跟前后退的映射位置，一體化的FIMS門12和蓋17與晶圓映射傳感器32一起進行下降動作的狀態(tài)的圖，圖11(b)是示出載臺14從第2位置進一步朝里側(cè)前進，移動到第3位置即搬運位置的狀態(tài)的圖。

為了接收復(fù)合處理裝置1中的表面處理結(jié)束的晶圓15，若將內(nèi)部空的FOUP13載置于在等待位置即圖10(a)所示的第1位置等待的載臺14的規(guī)定的位置，則控制部37使FOUP13固定于載臺14。之后，載臺驅(qū)動部47驅(qū)動而使載臺14移動至圖10(b)所示的第2位置即基座位置。當(dāng)?shù)竭_該第2位置的移動結(jié)束時，控制部37使FIMS門12的各機構(gòu)動作，進行FIMS門12與蓋17的一體化，同時進行蓋17與載體16的鎖定狀態(tài)的解除。接著如圖11(a)所示，控制部37使載臺14后退，使蓋17與載體16分離。當(dāng)載臺14的后退動作結(jié)束時，在使FIMS門12及晶圓映射傳感器32沿垂直方向微小下降之后，使晶圓映射傳感器32朝向載體16動作。當(dāng)晶圓映射傳感器32朝向載體16動作時，控制部37在此使載臺14前進至第2位置即基座位置。需要說明的是，在本實施方式的裝載口40中，在將載體16同樣蓋17分離時，使載體16后退，但是不限定于此，也能夠使與蓋17一體化的FIMS門12相對于載體16后退。即，通過使載體16與蓋17相對地移動而進行使載體16與蓋17分離的動作。

接著，控制部37通過使FIMS門12與晶圓映射傳感器32沿鉛垂方向下降至規(guī)定的位置來檢測晶圓15，從而確認(rèn)晶圓15是否載置在載體16內(nèi)部的棚18上。當(dāng)檢測結(jié)束時，控制部37使晶圓映射傳感器32后退至原來的等待位置，使FIMS門12與晶圓映射傳感器32下降至不與載臺14干涉的下降位置。

當(dāng)FIMS門12與晶圓映射傳感器32的下降動作結(jié)束使，如圖11(b)所示，控制部37使載臺14從第2位置即基座位置朝向配置于前方的框體41進一步前進，移動至第3位置即搬運位置。當(dāng)載臺14前進至第3位置時，載體16的凸緣部分26與框體41所具備的密封構(gòu)件46氣密地抵接。需要說明的是，在本發(fā)明的實施方式的裝載口40中，由于以往的裝載口2不具備在端口開口部11附近所具備的凸緣板8(參照圖3)，因此載體16的凸緣部分26能夠不與任何構(gòu)件干涉地穿過端口開口部11而前進至規(guī)定的位置。

在從該第2位置到第3位置的移動結(jié)束的期間，控制部37將電磁閥70a打開，經(jīng)由底面凈化噴嘴66朝載體16內(nèi)部供給大流量的凈化氣體。略微，控制部37使電磁閥70c動作，經(jīng)由側(cè)面凈化噴嘴49向被載體16、護罩48、框體42及開閉器部42包圍的晶圓收納空間72內(nèi)供給凈化氣體。被供給的凈化氣體充滿該晶圓收納空間72內(nèi)，使晶圓收納空間72內(nèi)的普通大氣以被該凈化氣體擠出的方式從設(shè)置在開閉器部42的各遮蔽板43與框體42之間的間隙朝外部排出。如此進行晶圓收納空間72內(nèi)的氣氛置換。需要說明的是，例如在因FOUP13的容積大而氣氛置換需要時間的情況、或無法加大凈化氣體的供給量的情況下，也可以在FOUP13剛固定于載臺14之后就開始凈化氣體的供給。但是，由于FOUP13被密閉，因此優(yōu)選經(jīng)由注入用凈化端口39a而供給凈化氣體，并且經(jīng)由排出用凈化端口39b將FOUP13的內(nèi)部氣氛排出。由此，能夠短時間內(nèi)完成氣氛置換。

當(dāng)載臺14結(jié)束移動至第3位置即搬運位置時，載體16與框體42氣密地抵接，控制部37將電磁閥70c關(guān)閉，使來自側(cè)面凈化噴嘴49的凈化氣體的供給中止。另外，控制部37在載臺14結(jié)束移動至第3位置且經(jīng)過規(guī)定的時間之后，關(guān)閉將大流量的凈化氣體供給至底面凈化噴嘴66的電磁閥70a，取而代之地打開控制小流量的凈化氣體的供給的電磁閥71b，開始朝凈化噴嘴66進行小流量的凈化氣體的供給。向晶圓收納空間72持續(xù)進行小流量的凈化氣體供給，維持內(nèi)部的清潔環(huán)境。需要說明的是，在上述說明中使用內(nèi)部未收納晶圓15的FOUP13，但是不限定于此，裝載口40也能夠載置收納有要通過復(fù)合處理裝置1進行處理的預(yù)定的晶圓15的FOUP13，將其蓋17打開并在搬運位置等待。在該情況下，也可以依據(jù)上述說明的步驟利用凈化氣體對晶圓收納空間72的內(nèi)部進行氣氛置換。

當(dāng)上述的動作結(jié)束時，控制部37向未圖示的上位控制機構(gòu)發(fā)送晶圓16的搬運準(zhǔn)備完成信號，接收到此信號的上位控制機構(gòu)向搬運機器人4發(fā)送信號，以便將規(guī)定的處理結(jié)束后的晶圓15從加工腔室7朝裝載口40搬運。另外，上位控制機構(gòu)對控制部37發(fā)送指定規(guī)定的棚18并搬運晶圓16的指令的信號(接近要求信號)。接收到接近要求信號的控制部37使遮蔽板驅(qū)動部44工作，使對應(yīng)于指定的棚18的遮蔽板43上升移動。在此，通過使遮蔽板43上升，從而使凈化氣體從開口部65朝外部排出，存在晶圓收納空間72內(nèi)部的凈化氣體濃度下降的可能性。因此，控制部37通過操作電磁閥70a、70b，將供給至晶圓收納空間72內(nèi)的凈化氣體的流量從小流量切換至大流量，由此防止晶圓收納空間72內(nèi)部的凈化氣體濃度下降。

接著說明在本發(fā)明的一實施方式的裝載口40中將利用復(fù)合處理裝置1進行的表面處理結(jié)束后的晶圓15收納到FOUP13內(nèi)部的步驟、及凈化氣體的供給的控制。首先，根據(jù)所述的裝載口40的動作步驟，預(yù)先將未收納晶圓15的FOUP13的蓋17打開，將晶圓收納區(qū)域72的內(nèi)部用凈化氣體充滿。表面處理結(jié)束后的晶圓15通過搬運機器人4從復(fù)合處理裝置1搬出。此時，上位控制機構(gòu)對控制部37發(fā)送將晶圓搬運至載體16的規(guī)定的棚18的指令信號。接收到信號的控制部37使遮蔽板驅(qū)動部44工作。遮蔽板驅(qū)動部44使遮蔽板支承機構(gòu)54上升至規(guī)定位置，使鉤53與對應(yīng)于所期望的棚18的遮蔽板43的缺口部59卡合，之后使遮蔽板支承機構(gòu)54上升，在對應(yīng)于所期望的棚的位置形成能夠接近的開口部65。參照圖12(a)參照，在此，為了抑制充滿晶圓收容空間72的內(nèi)部的凈化氣體從開口部65朝空間外部流出而使得晶圓收納空間72內(nèi)部的凈化氣體濃度下降的情況，控制部37切換電磁閥70a、70b的工作，開始朝晶圓收納空間72供給大流量的凈化氣體。

在上述動作結(jié)束后，控制部37向上位控制機構(gòu)發(fā)送晶圓15的接收準(zhǔn)備完成信號。接收到該信號的上位控制機構(gòu)使搬運機器人4工作，將指狀部52及被指狀部52保持的晶圓15經(jīng)由開口部65而移動至預(yù)先指引的規(guī)定的棚的規(guī)定的搬運位置。參照圖12(b)，當(dāng)水平方向的移動完成時，搬運機器人4進行微小的下降動作，將由指狀部52保持的晶圓15載置于目標(biāo)的棚18。參照圖13(a)，需要說明的是，由于開口部65具有不與搬運機器人4的一連串動作干涉的上下尺寸，因此晶圓15、指狀部52不會與遮蔽板43沖突。另外，在朝晶圓收納空間72移動的晶圓15的表面上殘留有復(fù)合處理裝置1中使用的反應(yīng)氣體的分子的情況下，該反應(yīng)氣體的分子有可能伴著晶圓收納空間72內(nèi)部的凈化氣體的流動而朝晶圓收納空間72內(nèi)部擴散。但是，由于凈化氣體一直供給且經(jīng)由開口部65或遮蔽板43與框體41的間隙而朝晶圓收納空間72的外部排出，因此反應(yīng)氣體滯留在晶圓收納空間72內(nèi)部，不會污染其他的晶圓。另外，由于充滿晶圓收納空間72的凈化氣體不含水分子和氧分子，因此也不會在被搬入到晶圓收納區(qū)域72的晶圓15的表面生成氧化膜。

當(dāng)搬運機器人4的動作結(jié)束時，控制部37使遮蔽板驅(qū)動部44工作，使遮蔽板43移動至原來的位置。參照圖13(b)，之后解除鉤53的卡合，使遮蔽板驅(qū)動部44移動至規(guī)定的等待位置。在此，若下一個晶圓15的搬入開始，則控制部37維持電磁閥70a的工作并持續(xù)從底面凈化噴嘴66供給大流量的凈化氣體。另外，若不進行下一個晶圓15的搬入，則在經(jīng)過規(guī)定的時間后，控制部37切換電磁閥70a、70b的工作，以便從底面凈化噴嘴66朝晶圓收納空間72內(nèi)部供給小流量的凈化氣體。

接著，使用圖14及圖18說明側(cè)面凈化噴嘴49及底面凈化噴嘴66的詳細情況。圖14(a)是例示從第2位置朝第3位置移動的途中的凈化氣體的供給狀態(tài)的圖，圖14(b)是例示第3位置中的凈化氣體供給狀態(tài)的圖。圖18是示出側(cè)面凈化噴嘴的其他例子的圖。為了高效地進行晶圓收納空間72內(nèi)部的氣氛置換，重要的是利用凈化氣體將滯留在晶圓收納空間72內(nèi)部的普通大氣以擠出的方式排出。若為了供給大量的凈化氣體而有力地供給凈化氣體，因凈化氣體所產(chǎn)生的亂流而使凈化氣體與一般大氣被攪拌。若像這樣凈化氣體及普通大氣被攪拌，則晶圓收納空間72內(nèi)部的氣氛置換完成之前需要長時間。進一步，因凈化氣體產(chǎn)生的亂流而使載體16內(nèi)部殘留的塵埃向晶圓收納空間72內(nèi)部飛散，該塵埃也會附著在晶圓15上。在此，優(yōu)選設(shè)置如圖14(a)、(b)的實施方式所示的側(cè)面凈化噴嘴49，以便也可以不從一個位置有力地供給凈化氣體。另外，優(yōu)選該側(cè)面凈化噴嘴49的噴出口具有噴出抑制構(gòu)件，該噴出抑制構(gòu)件使被供給的凈化氣體的流速降低，并且使凈化氣體大范圍地擴散。通過該噴出抑制構(gòu)件，無需降低凈化氣體的供給量就能夠降低凈化氣體的力度。

側(cè)面凈化噴嘴49是向被載體16、開閉器部42及護罩48包圍的晶圓收納空間72的內(nèi)部供給凈化氣體的噴嘴。如圖14(a)所示，側(cè)面凈化噴嘴49優(yōu)選為在護罩48的上方及左右配置多個。進一步，對于配置于上方的護罩48上的側(cè)面凈化噴嘴49的位置及個數(shù)，優(yōu)選使凈化氣體遍布橫跨開口部16a、41a的橫方向整個區(qū)域。另外，優(yōu)選被配置于左右的護罩48上的側(cè)面凈化噴嘴49與形成有載體16的棚18的上下方向的間距對應(yīng)地配置，尤其是，側(cè)面凈化噴嘴49優(yōu)選配置為向載置于各棚18的晶圓15的上下方向的各間隙供給凈化氣體。

從以上的多個側(cè)面凈化噴嘴49供給的凈化氣體將晶圓收納空間72內(nèi)部的普通大氣經(jīng)由端口開口部11、凸緣部分26與框體41的間隙、以及框體41和開閉器部42的遮蔽板43的間隙而朝外部壓出。需要說明的是，若預(yù)先經(jīng)由底面凈化噴嘴66朝載體16內(nèi)部充滿凈化氣體，則該氣氛置換能夠短時間結(jié)束。

參照圖14(a)，需要說明的是，在圖14(a)、(b)及第18圖等中，示出了將底面凈化噴嘴66配置于載體16的底面的第1開口部附近的位置的例子，但是底面凈化噴嘴66也可以配置于載體16的底面的中央部附近，或者第17圖(b)所示的載體16的底面的里側(cè)。

底面凈化噴嘴66形成為與在FOUP12的底面具備的凈化端口39對應(yīng)的形狀。另外，底面凈化噴嘴66構(gòu)成為經(jīng)由凈化端口39向FOUP12內(nèi)部供給凈化氣體，底面凈化噴嘴66不具有如側(cè)面凈化噴嘴49所具有的噴出抑制構(gòu)件。代替于此，將凈化端口39所具備的止回閥和雜質(zhì)除去的過濾器發(fā)揮作為噴出抑制構(gòu)件的功能。另外，如圖14(b)所示，由于在載臺14位于搬運位置時，載體16的凸緣部分26與框體41氣密抵接，因此朝晶圓收納空間72的凈化氣體的供給經(jīng)由底面凈化端口66而進行。此時，晶圓收納空間72的內(nèi)部氣氛經(jīng)由框體41與遮蔽板43的間隙和開口部65朝外部排出。另外，載置于載體16內(nèi)的晶圓15發(fā)揮整流板的功能，將被供給的凈化氣體整流成朝向開閉器部42的平行的流動。

需要說明的是，在本實施方式中，在圖14所示的例子中，側(cè)面凈化噴嘴49固定于護罩48，但也能夠如圖18所示那樣固定于框體41。在框體41上形成有使載置在載體16的棚18上的晶圓15能夠通過的第2開口部41a。以能夠朝向該開口部41a供給凈化氣體的方式，將側(cè)面凈化噴嘴49固定于框體41的上方及左右。

在側(cè)面凈化噴嘴49所具備的噴出抑制構(gòu)件、凈化端口39所具備的過濾器中，能夠使用對于所供給的凈化氣體具有所需的噴出抑制功能的各種原料，尤其優(yōu)選多孔質(zhì)的材料。例如能夠使用具備PTFE微粒子鍵合復(fù)合材料或燒結(jié)金屬、燒結(jié)玻璃、連續(xù)發(fā)泡玻璃、層積濾芯、或者中空纖維膜作為濾芯的空氣過濾器用構(gòu)件。進一步，還能夠進行流通于配管時混入的塵埃的除去。另外，由于利用多孔質(zhì)的微細構(gòu)造，因此具有所需的噴出抑制能力且還能夠采用小型的外形。

本發(fā)明的凈化端口40設(shè)置為，開閉器部42以及操作該開閉器部42的機構(gòu)與以往的裝載口2相比進一步朝微環(huán)境空間3側(cè)伸出。在此，載體16配置在根據(jù)以往的裝載口2規(guī)定的晶圓的搬運位置(圖10(b)的位置)，由于以往的搬運機器人4的指狀部過短，因此無法經(jīng)由開閉器部42的開口部65接近收納于載體16的內(nèi)部的棚部的晶圓15。因此，在本發(fā)明的一實施方式的裝載口40中，使載體16的位置移動至朝搬運機器人4側(cè)前進的第3位置，將該位置作為搬運位置。通過這樣做，搬運機器人4無需更換指狀部52等就能夠容易地接近收納于被載置于裝載口40的載體16內(nèi)的晶圓15。即，由于載置于裝載口40的基板收納容器能夠移動至比根據(jù)以往的裝載口規(guī)定的搬運位置進一步前進的位置，因此不需要特別的改造，基板搬運機器人就能夠接近載置于本發(fā)明的裝載口的基板收納容器。

進一步，由于裝載口40構(gòu)成為與關(guān)于半導(dǎo)體制造裝置的國際規(guī)格即SEMI(Semiconductor Equipment Material International)所規(guī)定的限定微環(huán)境空間3的排除區(qū)域的規(guī)格一致，因此無需對復(fù)合處理裝置1進行特別的改造，就能夠在設(shè)有以往的裝載口2的位置設(shè)置本發(fā)明的一實施方式的裝載口40。

在本發(fā)明的一實施方式的裝載口40中，在載臺14位于第3位置即搬運位置時，通過經(jīng)由凈化端口39供給凈化氣體，將被載體16、框體41及開閉器部42包圍的晶圓收納空間72的內(nèi)部維持為比周邊環(huán)境更大壓力的凈化氣體氣氛，由此防止來自外部的塵埃和普通大氣的侵入。另外，例如即便在開閉器部42開設(shè)有用于進行搬運的開口部65，也向晶圓收納空間72的內(nèi)部供給對于維持正壓的氣氛而言足夠的流量的凈化氣體。但是，根據(jù)復(fù)合處理裝置1的不同，也有將風(fēng)扇過濾器單元5所具備的風(fēng)扇的轉(zhuǎn)數(shù)提高，將微環(huán)境空間3內(nèi)的壓力維持于較高的正壓的情況。在如此的復(fù)合處理裝置1的微環(huán)境空間3中，在搬運機器人4保持晶圓15并使之通過開口部65時，晶圓15進行整流板那樣的工作，來自風(fēng)扇過濾器單元5的強力的向下的層流變成水平方向的氣流。其結(jié)果，如圖15的空心箭頭所示，該包含氧和水分的水平方向的氣流從微環(huán)境空間3經(jīng)由開口部65朝晶圓收納空間72內(nèi)部侵入。于是，在本發(fā)明的裝載口的第2實施方式中，如圖16所示，在開口部65的上方設(shè)置將來自微環(huán)境空間3的向下的氣流阻斷的檐部74，而且該檐部74具備1個或者多個開口部凈化噴嘴73。圖16是示出本發(fā)明的第2實施方式的一例的圖，圖16(a)、(b)分別是從側(cè)面方向及正面方向觀察使時的意示圖，且是示出從開口部噴嘴73供給凈化氣體的狀態(tài)的局部放大圖。

通過在開口部65的上方配備檐部74，來自風(fēng)扇過濾器單元5的向下流動被阻斷，能夠減少凈化氣體受到的負面影響。檐部74優(yōu)選為設(shè)在開口部65的稍上方并與開口部65一起移動。例如，也能夠經(jīng)由托架將板狀的構(gòu)件安裝于支承構(gòu)件57，通過升降驅(qū)動機構(gòu)55與鉤53和遮蔽板支承機構(gòu)54一起上下移動。檐部74配置為不與開閉器部42的遮蔽板43接觸且向配置有搬運機器人4的空間側(cè)伸出。需要說明的是，為了阻斷來自風(fēng)扇過濾器單元5的向下流動，檐部74的面積愈大，阻斷效果愈大，但是優(yōu)選配置為在微環(huán)境空間3內(nèi)包含在規(guī)定的排除區(qū)域內(nèi)。

進一步，通過從該檐部74所具備的第3凈化噴嘴即開口部凈化噴嘴73將凈化氣體朝開口部65周邊局部地噴出，由此防止來自風(fēng)扇過濾器單元5的向下流動從開口部65朝晶圓收納空間72侵入。開口部凈化噴嘴73配置于與形成開口部65的遮蔽板43平行的直線上，對通過開口部65及開口部65的晶圓15從上方噴出凈化氣體。由于開口部凈化噴嘴73安裝于檐部74，因此與檐部74同樣地能夠與鉤53和遮蔽板支承機構(gòu)54一起上下移動，無論在開閉器部42任意位置形成開口部65，開口部凈化噴嘴73及開口部65的位置關(guān)系始終恒定。另外，由于開口部65與開口部凈化噴嘴73的距離是比較近的距離，因此能夠通過噴出與其他的凈化噴嘴相比較少量的凈化氣體而獲得充分的阻斷效果。

來自開口部凈化噴嘴73的凈化氣體的供給被控制部37控制，在開口部65被關(guān)閉時不供給凈化氣體。在開口部65打開后，控制部37將電磁閥70d打開并朝開口部凈化噴嘴73供給凈化氣體?？刂撇?7在搬運機器人4進行朝載體16的接近時，開始進行用于使遮蔽板43開閉的遮蔽板驅(qū)動部44的動作，并且使電磁閥70d工作，開始朝開口部凈化噴嘴73供給凈化氣體。

開口部凈化噴嘴73不具有側(cè)面凈化噴嘴49所具有的噴出抑制構(gòu)件，凈化氣體從點狀的噴出口自上方向被指狀部52保持的晶圓15噴出。凈化氣體噴出的方向也可以是從晶圓15的上方朝鉛垂方向噴出，但是為了防止起因于凈化氣體的噴出力的亂流將微環(huán)境空間3內(nèi)部的空氣卷入并經(jīng)由開口部65朝晶圓收納空間72內(nèi)部侵入的情況，優(yōu)選朝向晶圓15向開口部65進入的方向以微小的角度噴出。另外，利用流量調(diào)整閥71d將凈化氣體調(diào)整為如下流量，即，對于防止從風(fēng)扇過濾器單元5供給的空氣通過開口部65而侵入晶圓收納空間72內(nèi)部而言足夠的流量。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，防止從風(fēng)扇過濾器單元5供給的空氣借助從各開口部凈化噴嘴73噴出的凈化氣體而通過開口部65，侵入到晶圓收納空間72內(nèi)部，晶圓收納空間72內(nèi)部被維持為高純度的凈化氣體氣氛。另外，還利用從開口部凈化噴嘴73噴出的凈化氣體將附著在晶圓15表面的反應(yīng)氣體的成分吹飛，從而雜質(zhì)混入晶圓收納空間72內(nèi)部的可能性也變少。

通過設(shè)置這種結(jié)構(gòu)的開口部凈化噴嘴，能夠局部防止供給至微環(huán)境空間的向下的清潔空氣經(jīng)由開口部侵入到收納空間內(nèi)部的情況。另外，由于檐部借助使遮蔽板升降的遮蔽板驅(qū)動部而上下移動，因此即便在上下方向的任何位置形成有開口部，檐部也必然能夠位于開口部的上方。

由此，來自風(fēng)扇過濾器單元5的強力的向下的層流通過與基板沖突而改變方向，能夠阻斷想要經(jīng)由第3開口部從正面侵入的清潔空氣。另外，由于開口部凈化噴嘴安裝于檐部，且與檐部一起上下移動，因此能夠局部向開口部供給凈化氣體，能夠抑制收納空間內(nèi)部的凈化氣體濃度下降。

需要說明的是，本實施方式的開口部凈化噴嘴73安裝于檐部74，從開口部65的上方朝向開口部65周邊沿鉛垂方向噴出凈化氣體，但是不限定于此，例如也可以將開口部凈化噴嘴73安裝在一對鉤53附近，從側(cè)面朝向開口部65周邊沿水平方向噴出凈化氣體。進一步，還能夠?qū)⑽龣C構(gòu)設(shè)在開閉器部42下方，該吸引機構(gòu)吸引從框體41及開閉器部42的間隙朝晶圓收納空間72的外部排出的大氣或反應(yīng)氣體分子等。通過設(shè)置該吸引機構(gòu)，晶圓收納空間72內(nèi)部的氣氛置換短時間完成。吸引機構(gòu)具體而言優(yōu)選為軸流風(fēng)扇或泵、空氣噴射器等。

在上述的本發(fā)明的裝載口的第1及第2實施方式中，朝載體16內(nèi)部的凈化氣體的供給經(jīng)由在載體16的底面所具備的凈化端口39而進行。其目的在于，標(biāo)準(zhǔn)的FOUP13在底面具備凈化端口39，無需對FOUP13進行特別的加工或購入特殊的FOUP13，就能夠進行有效的氣氛置換。但是，在經(jīng)由普通的FOUP13的底面所具備的凈化端口39將凈化氣體從底面供給的方法中，收納于內(nèi)部的晶圓15成為障礙，使凈化氣體遍布FOUP13整體需要時間。因此，在本發(fā)明的裝載口的第3實施方式中，應(yīng)對了代替從載體16的底面供給凈化氣體的結(jié)構(gòu)而是從載體16的后方朝向開口部16a供給凈化氣體的FOUP13。

圖17是例示本發(fā)明的第3實施方式的圖，圖17(a)、(b)分別是從平面方向及側(cè)面方向觀察時的意示圖，且是示出從設(shè)在載體16內(nèi)部的凈化塔75供給凈化氣體的狀態(tài)的局部放大圖。在本發(fā)明的第3實施方式中，如圖17所示，為了應(yīng)對在載體16內(nèi)部的后方配備的凈化塔75，底面凈化噴嘴66配置于載臺14的后方。經(jīng)由該底面凈化噴嘴66供給的凈化氣體從在載體16的后方配備的圓筒上的凈化塔75朝載體16內(nèi)部供給。凈化塔75是內(nèi)部空洞的圓筒狀的構(gòu)件，設(shè)有用于朝規(guī)定位置供給凈化氣體的供給口76。另外，在凈化塔75內(nèi)部具備使從供給口76供給的凈化氣體的流速降低且大范圍擴散的噴出力抑制構(gòu)件77。凈化塔75的內(nèi)部所具備的噴出抑制構(gòu)件77中能夠使用對于所供給的凈化氣體具有所需的噴出抑制功能的各種原材料，尤其優(yōu)選多孔質(zhì)的材料。例如能夠使用具備PTFE微粒子鍵合復(fù)合材料或燒結(jié)金屬、燒結(jié)玻璃、連續(xù)發(fā)泡玻璃、層積濾芯、或者中空纖維膜作為濾芯的空氣過濾器用構(gòu)件。

形成于凈化塔75的供給口76具有橫方向(與晶圓面品行的方向)上較長的形狀(細橫長的狹縫形狀)，以便使凈化氣體遍布大范圍地向分別對應(yīng)的晶圓15的表面流出。從該供給口76流出的凈化氣體形成將載體16內(nèi)部的普通大氣朝向載體開口部16a擠出的氣流。另外，從凈化塔75流出的凈化氣體還將殘留于在載體16內(nèi)部以隔開規(guī)定間隔沿鉛垂方向堆疊的方式收納的晶圓15的表面的反應(yīng)氣體的分子朝向載體開口部16a擠出。從載體16內(nèi)部的后方供給的凈化氣體及通過凈化氣體被擠出的氧化性的大氣通過設(shè)在框體41及開閉器部42的遮蔽板43之間的間隙而朝晶圓收納空間72的外部排出。尤其是，在本實施方式的例子中，與鉛垂方向上隔開間隙收納的晶圓15平行的流動在不從載體16內(nèi)部的后方朝向前方的開閉器部42改變方向的情況下繼續(xù)流動。由此，亂流的發(fā)生被抑制，實現(xiàn)短時間內(nèi)的氣氛置換。

朝凈化塔75的凈化氣體的供給通過控制部37在所期望的時間點進行。優(yōu)選為在與上述的其他的實施方式所示的例子同樣的時間點供給適當(dāng)?shù)牧髁?。例如，在載臺14移動至第2位置即基座位置之后，在載體16與蓋17分離的時間點開始繼續(xù)供給。需要說明的是，在本實施方式中，從2個凈化塔75的雙方朝向載體16內(nèi)部供給凈化氣體，但是不限定于此，也可以從一方的凈化塔75將凈化氣體供給至載體16內(nèi)部，由另一方的凈化塔75吸引載體16內(nèi)部的氣氛。

以上，說明了上述本發(fā)明的幾個實施方式，但是本發(fā)明的范圍不限定于上述例示的實施方式。例如，在上述的實施方式中，示出了遮蔽板驅(qū)動部將遮蔽板抬起至形成與一個棚的高度幾乎相同高度的開口(第3開口部65)。但是，也能夠根據(jù)來自控制部的命令改變第3開口部的開口的大小(高度)。

另外，在上述的實施方式中示出與棚同數(shù)量的多個遮蔽板向上方向堆疊的結(jié)構(gòu)。雖然優(yōu)選像這樣在與1個棚對應(yīng)的位置設(shè)置1個遮蔽板的結(jié)構(gòu)，但是也能夠采用1個遮蔽板與2個或者3個或者以上的棚的高度對應(yīng)的結(jié)構(gòu)。在該情況下，也優(yōu)選通過遮蔽板驅(qū)動部來改變第3開口部的高度。

若能夠像這樣改變開口部的高度，例如，通過將第3開口部設(shè)為2個棚的高度或者這以上的高度的開口，在將收納于載體16內(nèi)的基板朝相同載體內(nèi)的其他棚移動時等，能夠高效地進行作業(yè)。

需要說明的是，在上述的實施方式中，作為開閉器部而例示了向上方向堆疊的遮蔽板，作為開閉器驅(qū)動部例示了遮蔽板驅(qū)動部，但是也能夠?qū)㈤_閉器部及開閉器驅(qū)動部設(shè)為其他方式。

例如開閉器部也可以構(gòu)成為，能夠在水平軸方向上轉(zhuǎn)動的多個平板狀的遮蔽板與各擱板的間距對應(yīng)地配置，通過選擇性地使各遮蔽板轉(zhuǎn)動而將第3開口部開閉。在該情況下，通過作為開閉器驅(qū)動部而設(shè)置單獨驅(qū)動各遮蔽板進行開閉的馬達或者電磁式或空氣驅(qū)動式的致動器，能夠選擇性地將各遮蔽板開閉。

或者也可以構(gòu)成為，朝向載體軸16的內(nèi)部使能夠在水平軸方向上轉(zhuǎn)動的多個平板狀的遮蔽板與各擱板的間距對應(yīng)地配置，在各遮蔽板的下部設(shè)置鉸鏈構(gòu)件，通過利用彈簧等的彈力將各遮蔽板向開閉器部關(guān)閉的方向按壓，由此搬運機器人的指狀部前進，從而利用指狀部將遮蔽板推開而形成第3開口部，通過在指狀部前進的期間由指狀部持續(xù)按壓遮蔽板，從而第3開口部維持開口，若指狀部后退，則通過彈簧等的彈力(復(fù)原力)使遮蔽板返回至原來的位置，使開閉器部形成封閉狀態(tài)。

此外，也可以在各遮蔽板的內(nèi)部配置超小型的馬達，在框體41中配置棒狀的齒條，將固定于馬達的旋轉(zhuǎn)軸的小齒輪與上述齒條組合，通過超小型的馬達的旋轉(zhuǎn)使各遮蔽板單獨進行升降動作。

另外，不言而喻，本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠進行將載體16與蓋17開閉的機構(gòu)的變形。例如，不言而喻，能夠變形為與蓋17一體化的FIMS門12將下方的支點作為旋轉(zhuǎn)中心相對于載體16進退移動。另外，在本說明書的說明中，公開了SEMI規(guī)格所規(guī)定的晶圓用FOUP13以及與FOUP13相適的裝載口作為對象，但是本發(fā)明不限定于此，本發(fā)明也能夠應(yīng)用于液晶顯示器基板和太陽能電池板基板等需要微細處理的基板。

另外，只要處理裝置具有收納要處理的基板且相對于外部氣氛密閉的容器、對該容器進行載置或者搬運的搬運裝置、以及從該容器內(nèi)搬運被處理物并實施規(guī)定處理，就能夠有用滴應(yīng)用本發(fā)明的具有氣氛置換功能的裝載口。

【符號說明】

1：復(fù)合處理裝置

2：裝載口

3：微環(huán)境空間

4：搬運機器人

5：風(fēng)扇過濾器單元

6：搬運腔室

7：各種加工腔室(處理裝置)

11：端口開口部

12：門(FIMS門)

13：FOUP

14：載臺

15：晶圓

16：載體

16a：第1開口部

17：FOUP的蓋

18：載體的棚

19：門升降部(FIMS門升降部)

29：載臺驅(qū)動部

37：控制部

41：框體

41a：第2開口部

42：開閉器部

43：遮蔽板

44：遮蔽板驅(qū)動部

49、66、73：各種凈化噴嘴

54：遮蔽板支承機構(gòu)

55：升降驅(qū)動機構(gòu)

56：鉤驅(qū)動機構(gòu)

65：第3開口部

74：檐部