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一種柔性透明阻隔膜及其制備方法與流程

文檔序號:12066189閱讀:315來源:國知局

本發(fā)明涉及一種光學用薄膜,尤其涉及一種柔性透明阻隔膜及其制備方法。



背景技術:

隨著數(shù)字時代的來臨,液晶顯示器(LCD)已經(jīng)成為了當今最普遍的顯示技術。近年來,量子點和有機發(fā)光二極管在光學性能方面的優(yōu)異表現(xiàn),例如量子點的引入將極大地提高色域,引起了顯示器等相關行業(yè)的廣泛關注。有機發(fā)光二極管(OLED)和量子點會對環(huán)境大氣中存在的氧氣和水分十分敏感,拓寬這類材料的應用,最直接有效的方法是阻隔材料與水或者氧氣的接觸。傳統(tǒng)的封裝工藝采用封裝玻璃蓋板并在其內(nèi)部貼附干燥劑的方法,此方法具有工藝成熟、簡單并且堅固、抗沖擊等方面的優(yōu)點,玻璃蓋板質量大,厚度也大,無法同時滿足在柔性顯示方面的封裝需求。

近年來,隨著顯示背光模組不斷向更亮、更輕、更薄方向發(fā)展,人們開始將研究重點轉向用柔性薄膜封裝法對OLED器件進行封裝。

采用較為便宜的塑料薄膜基板來代替沉重、易于破碎的玻璃基板,不僅滿足了光學性能方面的要求,同時塑料薄膜具有極好的柔韌性,塑料薄膜基板可以適用于輥對輥方式,加工成本變低,工序也相對較少。但是,塑料薄膜基板與玻璃基板相比,最大的問題是水蒸汽阻隔性差,隨著時間的推移,塑料容易老化的缺點愈發(fā)明顯,阻隔性能急劇下降。

以往,在塑料薄膜表面上形成有鋁、銀等金屬薄膜的復合阻隔性薄膜,被廣泛用于需要阻斷水蒸氣或氧等各種氣體的物品的包裝,例如用于防止食品、 工業(yè)用品和藥品等的變質的包裝袋。但是這類鍍金屬的復合塑料薄膜,雖然在氣體阻隔性和力學方面表現(xiàn)優(yōu)異,但是在光學性能方面無法達到高透光率。

目前,阻隔膜主要采用在真空條件下,涂覆無機化合物層(如A12O3,SiNx,氧化硅SiOx等)與塑料薄膜復合,如申請?zhí)枮?01410386722.5(公布日:2014年11月12日)的中國專利申請公開了采用真空濺鍍和等離子輔助氣相沉積無機膜的復合方法,制備一種高氣體阻隔膜,此外,申請?zhí)枮?01280031320.2(公布日:2015年6月10日)的中國專利申請公開了一種在基材上設置含有Si、O和N元素的無機層的阻隔膜。通過此類方法得到的阻隔膜,滿足了高阻隔性能的要求,但是,該阻隔膜一般采用卷對卷(roll to roll)的加工工藝,在卷對卷(roll to roll)加工過程中,收卷多次后,阻隔膜的氣體阻隔性明顯下降,無法形成對水蒸氣和氧氣的有效阻隔,極大的抑制了此類阻隔膜的應用和生產(chǎn)。



技術實現(xiàn)要素:

為了解決現(xiàn)有復合阻隔膜易出現(xiàn)透光率低和收卷后產(chǎn)生的阻隔性能下降的問題,本發(fā)明提供一種柔性透明阻隔膜及其制備方法。該柔性透明阻隔膜具有良好光透過率,在經(jīng)過多次收卷后阻隔性能依然優(yōu)異。本發(fā)明提供的柔性透明阻隔膜,在作為封裝光學元件的高阻隔性薄膜使用時,具有較高的透光率,卷曲后依然對水蒸氣和氧氣保持高阻隔性能,在具有好的阻隔水氧氣的同時,具有良好的耐卷曲能力。

為了解決上述技術問題,本發(fā)明采用下述技術方案:

本發(fā)明提供一種柔性透明阻隔膜,所述阻隔膜包括柔性襯底,柔性襯底上設置阻隔層,阻隔層上設置保護層;所述柔性襯底為透明薄膜;所述阻隔層包括至少兩層有機層和至少兩層無機層,所述有機層和無機層交替設置;所述柔性襯底與阻隔層中的有機層相連接。

進一步的,在柔性襯底的表面上涂布一層硬化涂層(簡稱硬化層);所述硬化涂層與阻隔層中的有機層相連接。

所述硬化涂層的厚度為1-15μm。進一步的,所述硬化涂層的厚度是1-10 μm。

所述硬化涂層的材料為水性聚氨酯樹脂。

進一步的,所述阻隔層包括2-10層有機層和2-10層無機層。

進一步的,所述阻隔層包括2-4層有機層和2-4層無機層。

進一步的,所述阻隔層包括兩層有機層和兩層無機層。

進一步的,所述的柔性透明阻隔膜中,所述柔性襯底的材料選自聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚甲醛(POM)、聚酰胺(PA6)、聚酰胺(PA66)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚偏氯乙烯(PVDF)、乙烯-乙烯醇共聚物(EVOH)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或聚對苯二甲酸丁二醇酯(PBT)中的一種或其中至少兩種的混合物。

所述柔性襯底優(yōu)先選擇聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)。

柔性襯底的厚度優(yōu)選8μm-250μm,最優(yōu)選l0μm-200μm。

所述阻隔層是透光的。

進一步的,所述的柔性透明阻隔膜中,所述阻隔層包括兩層有機層和兩層無機層,所述阻隔層依次包括第一有機層,第一無機層,第二有機層,第二無機層;所述第一有機層設置在柔性襯底的表面,所述第二無機層的表面設置所述保護層。

進一步的,所述的柔性透明阻隔膜中,所述有機層和無機層成對設置于柔性襯底之上。

進一步的,所述的柔性透明阻隔膜中,所述阻隔層中的無機層的材料選自氧化銦、氧化錫、氧化鋁、氧化硅、氧化鈦、氧化鉿、氧化鋯、氧化鉭、氧化鋅、氧化鍺或氧化釩中的任一種。

上述無機層的厚度為5-500nm,優(yōu)選10-200nm。無機層的厚度低于5nm,阻隔層不均勻,缺陷較多,阻隔性能不充分,超過500nm,膜層內(nèi)應力增加,受到彎曲后容易出現(xiàn)裂紋,急劇降低阻隔性能。

所述無機層的材料優(yōu)選氧化鋁和氧化硅。

本發(fā)明提供的柔性透明阻隔膜的阻隔層中的無機層一般為氧化物薄膜層。 無機層的形成方法可以采用真空蒸發(fā)法、濺射法、化學沉積法或等離子輔助化學沉積等方法制備。

進一步的,所述的柔性透明阻隔膜中,所述阻隔層中的有機層材料選自聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚甲基丙烯酸丁酯(PBMA)、聚氨酯(PU)、聚乙烯醇(PVA)、醋酸乙烯醇共聚物(EVA)、聚乙二醇(PEG)、甲基丙烯酸酯-雙丙烯酸己二醇酯共聚物、有機硅聚合物或環(huán)氧樹脂中的一種或其中至少兩種的混合物。

所述有機硅聚合物包括聚二甲基硅氧烷(PDMS)。

所述有機層的厚度為20-150nm。

本發(fā)明提供匠柔性透明阻隔膜的阻隔層中的有機層一般為具有極性的聚合物層。有機層的形成方法可以采用涂布、噴涂、氣相沉積或印刷等方法制備。

進一步的,所述的柔性透明阻隔膜中,所述保護層的材料選自聚四氟乙烯(PTFE)、聚偏氟乙烯(PVDF)、氟化乙烯丙烯共聚物(FEP)、聚氟乙烯(PVF)、四氟乙烯-甲基丙烯酸六氟丁酯共聚物(TFE/HEP)、聚三氟氯乙烯(HFP/VDF)和四氟乙烯-丙烯共聚物(TFE/P)中的一種或其至少兩種的混合物。

所述保護層的材料優(yōu)選四氟乙烯-甲基丙烯酸六氟丁酯共聚物(TFE/HEP)或聚偏氟乙烯(PVDF)。所述保護層的厚度為10-200μm。

本發(fā)明提供的柔性透明阻隔膜采用的保護層,一般為含有氟元素的聚合物層。含氟聚合層具有極低的表面能,在水分子與保護層表面接觸時,可以有效地延長水蒸氣在表面吸附的時間,可降低阻隔膜的水蒸氣透過率。上述保護層的形成方法可以采用涂布、印刷、噴涂和氣相沉積等。

進一步的,所述的柔性透明阻隔膜中,所述柔性襯底的材料為PET,襯底厚度為80-150μm;所述硬化涂層為水性聚氨酯涂層,厚度為1-10μm;在阻隔層中,所述有機層的材料為PMMA,有機層厚度為60-100nm;所述無機層的材料為氧化硅,無機層厚度為180-220nm;所述保護層的材料為PVDF,保護層厚度為90-110μm。

進一步的,所述柔性襯底為現(xiàn)有的聚酯薄膜。

進一步的,所述柔性襯底為BOPET薄膜(長陽科技有限公司制,商品名稱為“OS100”)。

本發(fā)明所述的阻隔膜用于發(fā)光元件的封裝,所述發(fā)光元件包括OLED器件和量子點膜。

本發(fā)明還提供一種所述柔性透明阻隔膜的制備方法,所述方法包括下述步驟:

(1)準備透明柔性襯底,

(2)在透明柔性襯底的表面形成阻隔層中的有機層,

(3)在步驟(2)得到的有機層的表面形成無機層,

(4)重復步驟(2)和步驟(3),

(5)在步驟(4)得到的無機層或有機層的表面形成保護層。

進一步的,所述方法包括下述步驟:

(1)利用擠出、拉伸工藝生產(chǎn)透明柔性襯底,

(2)在透明柔性襯底的表面采用涂布、噴涂、真空蒸鍍和印刷中的一種方法或組合方式形成有機層,

(3)在步驟(2)得到的有機層的表面采用真空蒸鍍、真空濺射,真空化學沉積和等離子輔助化學沉積中的一種方法或組合方式形成阻隔層中的無機層,

(4)在步驟(3)得到的無機層的表面采用涂布、噴涂、真空蒸鍍和印刷中的一種方法或組合方式形成有機層,

(5)在步驟(4)得到的有機層的表面采用真空蒸鍍、真空濺射,真空化學沉積和等離子輔助化學沉積中的一種方法或組合方式形成無機層,

(6)在步驟(5)得到的無機層的表面采用涂布、噴涂、真空蒸鍍和印刷中的一種方法或組合方式形成保護層。

進一步的,所述方法包括下述步驟:

(1)利用擠出、拉伸工藝生產(chǎn)透明柔性襯底,

(2)在柔性襯底的表面上涂布一層水性聚氨酯樹脂形成硬化涂層,

(3)在硬化涂層的表面采用涂布、噴涂、真空蒸鍍和印刷中的一種方法或組合方式形成有機層。

與現(xiàn)有阻隔膜相比,本發(fā)明提供的柔性透明阻隔膜的有益效果在于:1、在阻隔層中設置多層無機層,以滿足超高阻隔性所要求的無機層厚度,從而提高了阻隔膜整體的阻隔性,同時在阻隔層的無機層間設置有機層,以減小無機層因為厚度增加后所導致的內(nèi)應力過大而產(chǎn)生的結構缺陷,這些結構缺陷是導致阻隔性能下降的直接原因。2、由于把阻隔層中的無機層和有機層成對設置,可以減少單層膜產(chǎn)生缺陷后,阻隔膜整體阻隔性能下降,多層阻隔層的成對設置,在其中某一單層無機層產(chǎn)生缺陷后,其他無機層也能形成有效阻隔,同時單層無機層在厚度低于500nm時,在卷曲后不會破裂,具有一定撓性,整個的阻隔膜可實現(xiàn)收卷后,性能不發(fā)生較大變化,提高了成品率,有利于生產(chǎn)成本的降低,并起到節(jié)能降耗的作用。并且,本發(fā)明提供的柔性透明阻隔膜是疊層聚酯透明復合膜,透光率高、光學特性優(yōu)異,有助于光學制品的品質的提高。本發(fā)明提供的柔性透明阻隔膜,在封裝對水汽或氧氣敏感的的發(fā)光元件時,不出現(xiàn)壽命過短等缺陷,可以賦予發(fā)光元件長時間穩(wěn)定的工作環(huán)境,且具有好的光學性能和加工性能。

附圖說明

圖1為本發(fā)明提供的柔性透明阻隔膜的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖和具體的實施例對本發(fā)明提供的柔性透明阻隔膜進行詳細的說明。

本發(fā)明的核心目的在于提供一種具有良好光透過率,在收卷后阻隔性能依然優(yōu)異的柔性透明阻隔膜。

如圖1所示,本發(fā)明提供一種柔性透明阻隔膜,所述阻隔膜10包括柔性襯底 101,柔性襯底101上設置阻隔層,阻隔層上設置保護層104;所述柔性襯底101為透明薄膜;所述阻隔層包括至少兩層有機層102和至少兩層無機層103,所述有機層102和無機層103交替設置;所述柔性襯底101與阻隔層中的有機層102相連接。

實施例中的SiOx指一氧化硅和二氧化硅組成的混合物,X的取值在1-2之間。

實施例1

本發(fā)明提供一種柔性透明阻隔膜,所述阻隔膜包括柔性襯底,柔性襯底上設置阻隔層,阻隔層上設置保護層;所述柔性襯底為透明薄膜;所述阻隔層包括兩層有機層和兩層無機層,所述有機層和無機層交替設置;所述柔性襯底與阻隔層中的有機層相連接。

選用雙軸拉伸聚酯薄膜(BOPET薄膜,厚度100μm,長陽科技有限公司制,商品名“OS100”)作為柔性襯底,在柔性襯底的表面上涂布一層水性聚氨酯樹脂形成的硬化涂層,硬化涂層的厚度為1μm;通過閃蒸沉積工藝在硬化涂層上制備有機層,有機層的原料單體經(jīng)閃蒸后沉積于硬化涂層上,后經(jīng)等離子體束處理,有機層的原料在硬化涂層上原位聚合,形成第一有機層,該有機層(有機薄膜)的材料為甲基丙烯酸酯-雙丙烯酸己二醇酯的共聚物,有機層厚度為20nm;然后,采用等離子體輔助氣相沉積的方法在第一有機層上沉積一層氧化硅SiOx無機層,形成第一無機層,無機層的厚度為5nm。重復以上制作有機層和無機層的制作過程,形成包括兩對有機層和無機層的阻隔層;最后,在阻隔層上方噴涂聚偏氯乙烯保護層,保護層的厚度為10μm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例2

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為200nm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例3

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中所述無機層為氧化硅SiOx無機層, 厚度為500nm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例4

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,其中所述無機層為氧化鋁無機層,厚度為200nm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例5

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PA6薄膜,厚度為8μm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為200nm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例6

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PA6薄膜,厚度為100μm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為200nm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例7

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PA6薄膜,厚度為200μm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為200nm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例8

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述有機層為PMMA,厚度為20nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為200nm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例9

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述有機層為PMMA,厚度為80nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為200nm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例10

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述有機層為PMMA,厚度為150nm;所述無機層為氧化硅SiOx 無機層,厚度為200nm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例11

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述有機層為PMMA,厚度為80nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為200nm;所述保護層為TFE/HEP,厚度為10μm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例12

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述有機層為PMMA,厚度為80nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為200nm;所述保護層為PVDF,厚度為100μm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例13

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述有機層為PMMA,厚度為80nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為200nm;所述保護層為PVDF,厚度為200μm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例14

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述硬化層為水性聚氨酯,厚度為8μm;所述有機層為PMMA,厚度為80nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為200nm;所述保護層為PVDF,厚度為100μm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例15

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述硬化層為水性聚氨酯,厚度為15μm;所述有機層為PMMA,厚度為80nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為200nm;所述保護層為PVDF,厚度為200μm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例16

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述硬化層為水性聚氨酯,厚度為8μm;所述有機層為PMMA,厚度為80nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為180nm;所述保護層為PVDF,厚度為100μm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例17

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述硬化層為水性聚氨酯,厚度為8μm;所述有機層為PMMA,厚度為80nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為220nm;所述保護層為PVDF,厚度為100μm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例18

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述硬化層為水性聚氨酯,厚度為8μm;所述有機層為PMMA,厚度為60nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為200nm;所述保護層為PVDF,厚度為100μm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例19

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述硬化層為水性聚氨酯,厚度為8μm;所述有機層為PMMA,厚度為100nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為200nm;所述保護層為PVDF,厚度為100μm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例20

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為80μm;所述硬化層為水性聚氨酯,厚度為8μm;所述有機層為PMMA,厚度為80nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為200nm;所述保護層為PVDF,厚度為100μm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例21

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為150μm;所述硬化層為水性聚氨酯,厚度為8μm;所述有機層為PMMA, 厚度為80nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,厚度為200nm;所述保護層為PVDF,厚度為100μm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例22

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述硬化層為水性聚氨酯,厚度為8μm;所述有機層為PMMA,厚度為80nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,膜厚度為200nm;所述保護層為PVDF,厚度為90μm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例23

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述硬化層為水性聚氨酯,厚度為8μm;所述有機層為PMMA,厚度為80nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,膜厚度為200nm;所述保護層為PVDF,厚度為110μm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例24

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述硬化層為水性聚氨酯,厚度為6μm;所述有機層為PMMA,厚度為80nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,膜厚度為200nm;所述保護層為PVDF,厚度為100μm,阻隔膜性能如表2所示。

實施例25

如實施例1提供的柔性透明阻隔膜,其中,所述柔性襯底為PET薄膜,厚度為100μm;所述硬化層為水性聚氨酯,厚度為10μm;所述有機層為PMMA,厚度為80nm;所述無機層為氧化硅SiOx無機層,膜厚度為200nm;所述保護層為PVDF,厚度為100μm,阻隔膜性能如表2所示。

對比例1

選用雙軸拉伸聚酯薄膜(BOPET薄膜,厚度100μm,寬幅200mm,長陽科技有限公司制,商品名“OS100”)作為柔性襯底,在柔性襯底的表面上涂布一層水性聚氨酯樹脂組成的硬化涂層,厚度為20nm;采用等離子體輔助氣相沉積的方法在硬化涂層上沉積一層SiOx無機層,膜厚度為20nm;通過閃蒸沉 積工藝在無機氧化物薄膜上形成相對應有機薄膜,單體經(jīng)閃蒸后沉積于襯底上,后經(jīng)等離體束處理,在襯底上原位聚合,其中有機薄膜的材料為甲基丙烯酸酯-雙丙烯酸己二醇酯的共聚物,有機層層厚度40nm。最后,在阻隔層上方噴涂聚偏氯乙烯的保護層,厚度為150nm。

本對比例只制備了一組無機層和有機層。

對比例2

選用雙軸拉伸聚酯薄膜(BOPET薄膜,厚度100μm,寬幅200mm,長陽科技有限公司制,商品名“OS100”)作為柔性襯底,在柔性襯底的表面上涂布一層水性聚氨酯樹脂組成的硬化涂層,厚度為20nm;采用等離子體輔助氣相沉積的方法在硬化涂層上沉積一層SiOx無機層,膜厚度為20nm;最后,在阻隔層上方噴涂聚偏氯乙烯的保護層,厚度為150nm。

本對比例只制備了一層無機層。

對比例3

選用雙軸拉伸聚酯薄膜(BOPET薄膜,厚度100μm,寬幅200mm,長陽科技有限公司制,商品名“OS100”)作為柔性襯底,在柔性襯底的表面上涂布一層水性聚氨酯樹脂組成的硬化涂層,厚度為20nm;采用等離子體輔助氣相沉積的方法在硬化涂層上沉積一層SiOx無機層,膜厚度為20nm;通過閃蒸沉積工藝在無機氧化物薄膜上形成相對應有機薄膜,單體經(jīng)閃蒸后沉積于襯底上,后經(jīng)等離體束處理,在襯底上原位聚合,其中有機薄膜的材料為甲基丙烯酸酯-雙丙烯酸己二醇酯的共聚物,有機層層厚度40nm。

本對比例只制備了一組無機層和有機層,未制備保護層。

表1本發(fā)明實施例1-25所述技術方案中各項的數(shù)據(jù)

注:表1中,共聚物*指甲基丙烯酸酯-雙丙烯酸己二醇酯的共聚物。

表2實施例1-25提供的柔性透明阻隔膜及對比例提供的阻隔膜的阻隔性能、耐彎曲性和透光率的檢測結果

測試方法如下:

水蒸氣透過率測試:在溫度為38℃,濕度為100%RH條件下,通過MOCON公司的Permatran W3/31測試儀,對實施例以及對比例得到的阻隔膜進行水蒸氣透過率(WVTR)測試,多個樣品測試取平均值。

氧氣透過率測試:溫度為23℃,濕度為0%RH條件下,通過MOCON公司的OX-TRAN100測試儀,對實施例以及對比例得到的阻隔膜進行氧氣透過率(OTR)測試,多個樣品測試取平均值。

可承受卷曲度測試:將實施例以及對比例得到的阻隔膜以半徑為10mm的曲率的方式、以180度的角度重復100次的彎曲之后,用與上述同樣的方法測定卷后水蒸氣透過率(RWVTR)和卷后氧氣透過率(ROTR),由彎曲處理前后的透過水分量和氧氣量的變化,按照下式算出可承受卷曲度Tw和To,按照下述的基準評價耐彎曲性(彎曲性)。

Tw=(彎曲處理前的WVTR/彎曲處理后的RWVTR)×100%

To=(彎曲處理前的OTR/彎曲處理后的ROTR)×100%

Tw和To的數(shù)值越高,說明阻隔膜的可承受卷曲度越高,耐彎曲性越好,說明阻隔膜經(jīng)多次彎曲(收卷)后阻隔性能下降越少。

透光率測試:使用分光光度計722N(上海精密儀器儀表有限公司制)測定各氣體阻隔膜的可見光透射率。透光率越高說明光學性能越好,亮度越高。

由表2所示測試結果可以得出,本發(fā)明提供的柔性透明阻隔膜的阻隔性能好、亮度高、在受到卷曲后依然能保持較高的阻隔性能。其中,實施例12、14、16-25提供的綜合性能更好(水蒸氣透過率小于5×10-4(g/m2·天),氧氣透過率小于5×10-2(cc/m2·天),經(jīng)過可承受卷曲度測試后,保持了原有氣體阻隔率的83%以上,同時透光率為87.6%以上)。特別的,實施例14所得到的阻隔膜的水蒸氣透過率小于5×10-4(g/m2·天),氧氣透過率小于5×10-2(cc/m2·天),經(jīng)過可承受卷曲度測試后,保持了原有氣體阻隔率的84%以上,同時透光率為88.9%,綜合性能最好。

以上所述,僅為本發(fā)明的較佳實施例而已,并非用于限定本發(fā)明的保護范圍。凡是根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容所做的均等變化與修飾,均涵蓋在本發(fā)明的專利范圍內(nèi)。

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