一種用于rie制絨后的鏈?zhǔn)角逑丛O(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種用于RIE制絨后的鏈?zhǔn)角逑丛O(shè)備，包括機(jī)臺支架、設(shè)于機(jī)臺支架上的滾輪傳動系統(tǒng)；所述機(jī)臺支架上按滾輪傳動系統(tǒng)行進(jìn)方向依次設(shè)有背面腐蝕拋光槽、去離子水清洗槽、RIE損傷層腐蝕去除槽、去離子水清洗槽、酸洗槽、去離子水清洗槽、去離子水清洗槽。本實(shí)用新型將多個清洗槽串聯(lián)起來，實(shí)現(xiàn)了背面腐蝕、RIE損傷層腐蝕去除、酸洗去除PSG三種工藝集中在同一臺鏈?zhǔn)皆O(shè)備中，因此大大方便了清洗工藝，提高了生產(chǎn)效率。
【專利說明】一種用于RIE制絨后的鏈?zhǔn)角逑丛O(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種用于RIE制絨后的鏈?zhǔn)角逑丛O(shè)備，用于晶體硅片的刻蝕和清洗，屬于太陽能電池領(lǐng)域。

【背景技術(shù)】
[0002]常規(guī)的化石燃料日益消耗殆盡，在現(xiàn)有的可持續(xù)能源中，太陽能是一種安全可靠、經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且容易獲得的綠色能源。因此，太陽能電池組件得到了越來越多的關(guān)注，而高轉(zhuǎn)換效率、低成本是太陽能電池發(fā)展的主要趨勢，也是技術(shù)研宄者追求的目標(biāo)。
[0003]為了獲得更高的光電轉(zhuǎn)換效率，除了要求晶體硅材料本身的高質(zhì)量、能形成理想的PN結(jié)等內(nèi)在特性外，還需要電池片表面有很好的陷光效果。陷光效應(yīng)通常由表面織構(gòu)化來實(shí)現(xiàn)的，即電池片生產(chǎn)中的重要工序一一制絨。它通過增加電池對光的吸收，降低表面反射率，增大太陽能電池的短路電流從而達(dá)到提高太陽電池效率的目的。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)中，晶體硅太陽電池的制絨通常是采用濕法化學(xué)腐蝕方法制備微米級絨面結(jié)構(gòu)。但是，由于微米級絨面的陷光效果有限，為了進(jìn)一步提高陷光效果，近幾年基于反應(yīng)離子刻蝕方法(RIE)制備納米絨面的方法在產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)中得到了廣泛應(yīng)用。晶體硅RIE制絨主要是在常規(guī)濕法化學(xué)腐蝕工藝制絨后得到的粗糙絨面(微米級)上形成更為精細(xì)的絨面結(jié)構(gòu)(納米級)，從而大大降低反射率，提高電池效率。如日本專利JP2014082430A公開了一種RIE制絨的多晶硅太陽電池制造工藝，其包括如下步驟:(I)化學(xué)腐蝕去除線切割損傷層；(2)RIE制絨；(3)RIE損傷層去除以及后清洗處理；(4)擴(kuò)散；(5)刻蝕以及去除PSG ；(6)PECVD ;(7)絲網(wǎng)印刷以及燒結(jié)。其中，步驟(3)RIE損傷層去除以及后清洗處理是必須進(jìn)行的，是為了給后續(xù)的擴(kuò)散工藝打下基礎(chǔ)。其中，去除RIE損傷層通才采用KOH溶液，而后清洗處理一般采用HF/HCL混合溶液；現(xiàn)有技術(shù)中，一般采用槽式清洗設(shè)備進(jìn)行處理。
[0005]另一方面，隨著技術(shù)的發(fā)展，研宄人員發(fā)現(xiàn)，在硅片背面進(jìn)行拋光處理可以提高電池的長波響應(yīng)，為進(jìn)一步提高光電轉(zhuǎn)換效率奠定了必要的基礎(chǔ)。因此，出現(xiàn)了一些專門用于背面拋光的清洗設(shè)備。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本實(shí)用新型的發(fā)明目的是提供一種用于RIE制絨后的鏈?zhǔn)角逑丛O(shè)備。
[0007]為達(dá)到上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種用于RIE制絨后的鏈?zhǔn)角逑丛O(shè)備，包括機(jī)臺支架、設(shè)于機(jī)臺支架上的滾輪傳動系統(tǒng)；
[0008]所述機(jī)臺支架上按滾輪傳動系統(tǒng)行進(jìn)方向依次設(shè)有背面腐蝕拋光槽、去離子水清洗槽、RIE損傷層腐蝕去除槽、去離子水清洗槽、酸洗槽、去離子水清洗槽、去離子水清洗槽。
[0009]上文中，本實(shí)用新型將多個清洗槽串聯(lián)起來，實(shí)現(xiàn)了背面腐蝕、RIE損傷層腐蝕去除、酸洗三種工藝集中在同一臺鏈?zhǔn)皆O(shè)備中，因此大大方便了清洗工藝，提高了生產(chǎn)效率。
[0010]其中，關(guān)于滾輪傳動系統(tǒng)和各個槽的位置屬于現(xiàn)有技術(shù)，對于背面腐蝕拋光槽而言，滾輪傳動系統(tǒng)的滾輪位于槽體之上沿，使得硅片浮于液面之上，避免硅片上表面浸入槽體內(nèi)。對于RIE損傷層腐蝕去除槽、去離子水清洗槽以及酸洗槽而言，滾輪傳動系統(tǒng)的滾輪位于槽體之內(nèi)，使硅片浸入槽中的液體內(nèi)進(jìn)行清洗。
[0011]上述技術(shù)方案中，所述機(jī)臺支架的上方還設(shè)有機(jī)臺上罩。機(jī)臺上罩的作用是防止化學(xué)氣體的揮發(fā)，例如一些酸液的揮發(fā)。
[0012]上述技術(shù)方案中，所述機(jī)臺支架的尾端還設(shè)有風(fēng)刀。其起到吹干硅片的作用。所述風(fēng)刀的英文名是dryer，中文譯為干燥機(jī)或烘干機(jī)或吹風(fēng)機(jī)，本領(lǐng)域的業(yè)內(nèi)人士都稱為風(fēng)刀。
[0013]上述技術(shù)方案中，還設(shè)有控制系統(tǒng)，所述滾輪傳動系統(tǒng)與控制系統(tǒng)控制連接。從而實(shí)現(xiàn)自動化。
[0014]由于上述技術(shù)方案運(yùn)用，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):
[0015]1、本實(shí)用新型設(shè)計(jì)了一套專門用于RIE制絨后的鏈?zhǔn)角逑丛O(shè)備，將多個清洗槽串聯(lián)起來，實(shí)現(xiàn)了背面腐蝕、RIE損傷層腐蝕去除、酸洗去除PSG三種工藝集中在同一臺鏈?zhǔn)皆O(shè)備中，因此大大方便了清洗工藝，提高了生產(chǎn)效率；
[0016]2、本實(shí)用新型設(shè)計(jì)中的背面腐蝕拋光槽，一方面的作用是去除硅片背面殘留的線切割損傷層；同時還起到提高電池長波響應(yīng)的作用；
[0017]3、由于本實(shí)用新型將多個清洗工藝整合在一起，因此避免了現(xiàn)有技術(shù)中因多次搬運(yùn)硅片而帶來的硅片破損問題，減少了硅片損失，降低了企業(yè)成本；
[0018]4、本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)簡單，易于實(shí)現(xiàn)，適于推廣應(yīng)用。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0019]圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例一的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020]1、機(jī)臺支架；2、機(jī)臺上罩；3、背面腐蝕拋光槽；4、RIE損傷層腐蝕去除槽；5、酸洗槽；6、去離子水清洗槽；7、硅片；8、風(fēng)刀；9、控制屏；10、滾輪傳動系統(tǒng)。

【具體實(shí)施方式】
[0021]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)一步描述。
[0022]實(shí)施例一:
[0023]參見圖1所示，一種用于RIE制絨后的鏈?zhǔn)角逑丛O(shè)備，包括機(jī)臺支架1、設(shè)于機(jī)臺支架上的滾輪傳動系統(tǒng)10 ;
[0024]所述機(jī)臺支架上按滾輪傳動系統(tǒng)行進(jìn)方向依次設(shè)有背面腐蝕拋光槽3、去離子水清洗槽6、RIE損傷層腐蝕去除槽4、去離子水清洗槽、酸洗槽5、去離子水清洗槽、去離子水清洗槽。
[0025]所述機(jī)臺支架的上方還設(shè)有機(jī)臺上罩2。所述機(jī)臺支架的尾端還設(shè)有風(fēng)刀8。還設(shè)有控制系統(tǒng)和控制屏9，所述滾輪傳動系統(tǒng)與控制系統(tǒng)控制連接。
[0026]所述滾輪傳動系統(tǒng)用來傳送RIE制絨后的硅片7。
【權(quán)利要求】
1.一種用于虹2制絨后的鏈?zhǔn)角逑丛O(shè)備，其特征在于:包括機(jī)臺支架(1)、設(shè)于機(jī)臺支架上的滾輪傳動系統(tǒng)(10)； 所述機(jī)臺支架上按滾輪傳動系統(tǒng)行進(jìn)方向依次設(shè)有背面腐蝕拋光槽(3)、去離子水清洗槽(6)、812損傷層腐蝕去除槽(4)、去離子水清洗槽、酸洗槽(5)、去離子水清洗槽、去離子水清洗槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗設(shè)備，其特征在于:所述機(jī)臺支架的上方還設(shè)有機(jī)臺上罩⑵。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗設(shè)備，其特征在于:所述機(jī)臺支架的尾端還設(shè)有風(fēng)刀
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗設(shè)備，其特征在于:還設(shè)有控制系統(tǒng)，所述滾輪傳動系統(tǒng)與控制系統(tǒng)控制連接。
【文檔編號】H01L21/67GK204189775SQ201420734682
【公開日】2015年3月4日 申請日期:2014年11月27日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月27日
【發(fā)明者】鄒帥, 王栩生 申請人:蘇州阿特斯陽光電力科技有限公司, 鹽城阿特斯協(xié)鑫陽光電力科技有限公司