一種液刀清洗裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種液刀清洗裝置，以提高基板的均一性，進(jìn)而提高產(chǎn)品品質(zhì)。液刀清洗裝置包括：固定于清洗腔室側(cè)壁的防濺罩；液刀，位于防濺罩的下方；斜擋板，位于防濺罩和液刀之間，斜擋板的較高側(cè)與清洗腔室的側(cè)壁固定連接，斜擋板的較低側(cè)與液刀的刀口頂部固定連接。斜擋板可將液刀和傳送滾輪上的基板與大部分水汽隔離，滴落在斜擋板上的液滴可沿斜擋板的斜面流下，而不會(huì)滴落在液刀尚未沖洗的基板上。相比于現(xiàn)有技術(shù)，本方案可大大減少液滴對(duì)基板均一性的影響，從而提高了產(chǎn)品品質(zhì)。
【專利說明】一種液刀清洗裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示面板制造【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種液刀清洗裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]在平板顯不裝置中，TFT-LCD(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶體管液晶顯示器，簡(jiǎn)稱TFT-LCD)具有體積小、功耗低、制造成本相對(duì)較低和無輻射等特點(diǎn)，在當(dāng)前的平板顯示器市場(chǎng)占據(jù)了主導(dǎo)地位。隨著玻璃基板的尺寸大型化，為保證產(chǎn)品的合格率，每一步制造工藝都面臨著更大的挑戰(zhàn)。
[0003]濕法刻蝕是顯示面板制造過程中的重要一環(huán)，其利用刻蝕液刻蝕掉基板表面未覆蓋光刻膠的金屬區(qū)域，從而形成具有一定圖案的金屬層。如圖1所示，濕法刻蝕后對(duì)基板進(jìn)行清洗的設(shè)備包括液刀清洗裝置100和噴淋裝置200。在液刀清洗裝置100中，液刀14的刀口為線狀，可噴射出均勻的去離子水幕，從而對(duì)傳送滾輪10上的基板13進(jìn)行快速?zèng)_洗，去掉基板13上殘留的刻蝕液。噴淋裝置200設(shè)置在液刀清洗裝置100的下游，包含多個(gè)噴頭201，噴頭201噴灑出的去離子水可對(duì)傳送滾輪10上的基板進(jìn)行淋洗，從而將基板進(jìn)一步清洗干凈。
[0004]如圖1所示，現(xiàn)有的液刀清洗裝置100主要包括:支撐板24、L形防濺罩11和液刀14，其中:支撐板24與清洗腔室的側(cè)壁16固定連接，防濺罩11的頂板與支撐板24固定連接，液刀14設(shè)置在防濺罩11的下方，刀口朝向傳送滾輪10。
[0005]上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷在于，液刀清洗裝置100在工作時(shí)，水汽極易在防濺罩11的下方以及液刀14的G角處凝結(jié)成液滴，液滴滴落在基板13上會(huì)對(duì)殘留的刻蝕液進(jìn)行輕度稀釋，從而使刻蝕液與基板再次發(fā)生刻蝕反應(yīng)。這在一定程度上影響了基板的均一性，進(jìn)而影響到產(chǎn)品品質(zhì)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明實(shí)施例的目的是提供一種液刀清洗裝置，以提高基板的均一性，進(jìn)而提高廣品品質(zhì)。
[0007]本發(fā)明實(shí)施例所提供的液刀清洗裝置，包括:
[0008]防濺罩，固定于清洗腔室的側(cè)壁；
[0009]液刀，位于防濺罩的下方；
[0010]斜擋板，位于防濺罩和液刀之間，所述斜擋板的較高側(cè)與清洗腔室的側(cè)壁固定連接，所述斜擋板的較低側(cè)與液刀的刀口頂部固定連接。
[0011 ] 在本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案中，斜擋板可將液刀和傳送滾輪上的基板與大部分水汽隔離，滴落在斜擋板上的液滴可沿斜面流下，而不會(huì)滴落在液刀尚未沖洗的基板上。相比于現(xiàn)有技術(shù)，本方案可大大減少液滴對(duì)基板均一性的影響，提聞了廣品品質(zhì)。
[0012]優(yōu)選的，所述斜擋板包括至少兩節(jié)平板單元；相鄰兩節(jié)平板單元的上表面交匯處設(shè)置有豎擋板，所述豎擋板與較高一節(jié)的平板單元形成第一導(dǎo)流槽。第一導(dǎo)流槽可快速地將匯聚的去離子水導(dǎo)向液刀清洗裝置的兩側(cè)。
[0013]優(yōu)選的，所述斜擋板的較高側(cè)與清洗腔室的側(cè)壁之間具有第一密封墊。第一密封墊可以防止液滴從斜擋板與清洗腔室側(cè)壁的縫隙處流下，從而防止液滴滴落在基板上，對(duì)基板的均一性產(chǎn)生不良影響。
[0014]優(yōu)選的，所述斜擋板的較低側(cè)與液刀的刀口頂部之間具有第二密封墊，所述斜擋板、第二密封墊和液刀的刀口頂部之間形成第二導(dǎo)流槽。該第二導(dǎo)流槽可快速地將斜擋板下表面匯聚的去離子水導(dǎo)向液刀清洗裝置的兩側(cè)。
[0015]較佳的，液刀清洗裝置還包括:與清洗腔室的側(cè)壁固定連接的支撐板，所述支撐板的上表面具有第三導(dǎo)流槽；所述防濺罩的頂板與所述支撐板的上表面固定連接。當(dāng)防濺罩與支撐板之間的縫隙處滲入去離子水時(shí)，可快速的通過該第三導(dǎo)流槽排向液刀清洗裝置的兩側(cè)。
[0016]優(yōu)選的，所述液刀的刀口朝向相鄰兩個(gè)傳送滾輪之間的間隙。這樣，當(dāng)傳送滾輪上未放置基板時(shí)，液刀刀口噴出的去離子水幕不會(huì)沖擊傳送滾輪，從而減少了液體回濺，有效減少了水汽的產(chǎn)生。
[0017]較佳的，液刀清洗裝置還包括:位于液刀的刀口下方的豎擋板，所述豎擋板的高度低于傳送滾輪的傳送平面。在對(duì)基板進(jìn)行清洗之前，需要先使液刀工作一段時(shí)間，使去離子水幕噴出均勻。設(shè)置豎擋板可有效減少液體的回濺，從而減少水汽的產(chǎn)生。
[0018]較佳的，液刀清洗裝置還包括:位于斜擋板下方、傳送滾輪上方的吹散管；以及向吹散管中鼓入氣流的鼓風(fēng)裝置。鼓風(fēng)裝置可以在傳送滾輪上未放置基板時(shí)向吹散管中鼓入干冷氣流，從而使吹散管將斜擋板下方的水汽吹散，減少液滴的凝結(jié)。
[0019]更佳的，所述吹散管的管壁分布有多個(gè)出氣孔。鼓入吹散管中的干冷氣流可以從多個(gè)出氣孔吹出，從而可以從多個(gè)方向?qū)⑿睋醢逑路降乃瞪ⅲ瞪⑿Ч选?br>
【專利附圖】

【附圖說明】
[0020]圖1為現(xiàn)有清洗設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖2為包含本發(fā)明一種實(shí)施例的液刀清洗裝置的清洗設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖3為包含本發(fā)明另一種實(shí)施例的液刀清洗裝置的清洗設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖4為包含本發(fā)明又一種實(shí)施例的液刀清洗裝置的清洗設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖5為一實(shí)施例中吹散管結(jié)構(gòu)示意圖。
[0025]附圖標(biāo)記:
[0026]100-液刀清洗裝置(現(xiàn)有技術(shù))；24_支撐板(現(xiàn)有技術(shù))；200_噴淋裝置；201-噴頭;100’ -液刀清洗裝置;24，-支撐板；10_傳送滾輪；11-防濺罩；lla-頂板；llb_側(cè)板；12-液滴；13_基板；14_液刀；15-斜擋板；16-清洗腔室的側(cè)壁；17-平板單元；18_豎擋板；19-第一密封墊；20_第二密封墊；21_第一導(dǎo)流槽；22_第二導(dǎo)流槽；23_第三導(dǎo)流槽；25-豎擋板；26_吹散管；27_出氣孔。

【具體實(shí)施方式】
[0027]為了提聞基板的均一性，進(jìn)而提聞廣品品質(zhì)，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種液刀清洗裝置。在本發(fā)明技術(shù)方案中，防濺罩和液刀之間設(shè)置有斜擋板，該斜擋板的較高側(cè)與清洗腔室的側(cè)壁固定連接，該斜擋板的較低側(cè)與液刀的刀口頂部固定連接。斜擋板可將液刀和傳送滾輪上的基板與大部分水汽隔離，滴落在斜擋板上的液滴可沿斜面流下，而不會(huì)滴落在液刀尚未沖洗的基板上。因此，本方案可大大減少液滴對(duì)基板均一性的影響，提聞了廣品品質(zhì)。為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，以下舉實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0028]如圖2所示，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種液刀清洗裝置100’，包括:
[0029]防濺罩11，固定于清洗腔室的側(cè)壁16 ；
[0030]液刀14，位于防濺罩11的下方；
[0031]斜擋板15，位于防濺罩11和液刀14之間，斜擋板15的較高側(cè)與清洗腔室的側(cè)壁16固定連接，斜擋板15的較低側(cè)與液刀14的刀口頂部固定連接。
[0032]防濺罩11可以防止噴淋裝置200噴灑出的去離子水濺落到液刀14、斜擋板15以及待進(jìn)行清洗的基板13上，同時(shí)也對(duì)罩外的水汽起到一定的隔離作用。防濺罩11的具體形狀不限，在圖2至圖4所示實(shí)施例的技術(shù)方案中，防濺罩11呈L形，包括頂板Ila和側(cè)板11b，其中頂板Ila固定于清洗腔室的側(cè)壁16。
[0033]如圖2所示，基板13沿圖示箭頭方向向左側(cè)傳送(傳送滾輪10逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng))。液刀14設(shè)置在防濺罩11的下方并靠近防濺罩11的側(cè)板11b，即靠近液刀清洗裝置100’的出口處。液刀14通過向基板13噴射去離子水幕，從而快速?zèng)_洗掉基板13上殘留的刻蝕液。基板13在經(jīng)過去離子水幕沖洗后被傳送到噴淋裝置200的下方，繼續(xù)進(jìn)行去離子水淋洗。
[0034]斜擋板15的具體形狀不限，可以理解地，其寬度應(yīng)大于基板13的寬度(這里寬度是指垂直于基板13傳送方向的水平尺寸)。為了讓大部分水汽與液刀14和基板13隔離，斜擋板15的位置應(yīng)盡可能的低。
[0035]在本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案中，斜擋板15可將液刀14和傳送滾輪10上的基板13與大部分水汽隔離，滴落在斜擋板15上的液滴12可沿斜擋板15的斜面流下，而不會(huì)滴落在尚未沖洗的基板13上。相比于現(xiàn)有技術(shù)，本方案可大大減少液滴對(duì)基板均一性的影響，提聞了廣品品質(zhì)。
[0036]如圖3所示，斜擋板15的板體可以為一平板。如圖2和圖4所示的實(shí)施例，斜擋板15也可以包括至少兩節(jié)平板單元17 ;相鄰兩節(jié)平板單元17的上表面交匯處設(shè)置有豎擋板18,豎擋板18與較高一節(jié)的平板單元形成第一導(dǎo)流槽21 (V形槽)。滴落在較高一節(jié)平板單元上的液滴可在重力作用下沿斜面流入第一導(dǎo)流槽21內(nèi)，并快速排向液刀清洗裝置100’的兩側(cè)(排水方向垂直于圖面方向)。平板單元17的數(shù)量可根據(jù)防濺罩11內(nèi)的實(shí)際空間來設(shè)計(jì)。如圖4所示，該實(shí)施例中，斜擋板15包括三節(jié)平板單元17，相鄰兩節(jié)平板單元17的上表面交匯處設(shè)置有豎擋板18。
[0037]斜擋板15的較高側(cè)與清洗腔室的側(cè)壁16可以通過緊固件實(shí)現(xiàn)固定連接。請(qǐng)繼續(xù)參照?qǐng)D2所示，在該實(shí)施例中，斜擋板15的較高側(cè)與清洗腔室的側(cè)壁16之間具有第一密封墊19。第一密封墊19可以防止液滴從斜擋板15與清洗腔室側(cè)壁16的縫隙處流下，從而防止液滴滴落在基板13上，對(duì)基板的均一性產(chǎn)生不良影響。
[0038]此外，斜擋板15的較低側(cè)與液刀14的刀口頂部之間具有第二密封墊20，斜擋板15、第二密封墊20和液刀14的刀口頂部之間形成第二導(dǎo)流槽22。當(dāng)斜擋板15的下表面凝結(jié)有液滴時(shí)，液滴可在重力作用下沿斜面流入第二導(dǎo)流槽22內(nèi)，并快速排向液刀清洗裝置100，的兩側(cè)。
[0039]在現(xiàn)有技術(shù)中，如圖1所示，防濺罩11與支撐板24之間的縫隙處極易滲入去離子水，這些去離子水滴落在基板13上也會(huì)影響到基板的均一性，進(jìn)而影響到產(chǎn)品品質(zhì)。針對(duì)該技術(shù)問題，在本發(fā)明圖2所示的優(yōu)選實(shí)施例中，液刀清洗裝置100’還進(jìn)一步包括:與清洗腔室的側(cè)壁16固定連接的支撐板24’，支撐板24’的上表面具有第三導(dǎo)流槽23 ;防濺罩11的頂板Ila與支撐板24’的上表面固定連接。防濺罩11的頂板Ila與支撐板24’之間可以通過緊固件實(shí)現(xiàn)固定連接。當(dāng)防濺罩11與支撐板24’之間的縫隙處滲入去離子水時(shí)，可快速的通過該第三導(dǎo)流槽23排向液刀清洗裝置100’的兩側(cè)。第三導(dǎo)流槽23的具體形狀不限，可以為U形槽，V形槽或者矩形槽等等。此外，防濺罩11的頂板Ila也可以直接與清洗腔室的側(cè)壁16密封連接，以將噴淋產(chǎn)生的液滴隔離在防濺罩11的外側(cè)。
[0040]液刀14在剛啟動(dòng)時(shí)，噴出的去離子水幕不夠均勻、穩(wěn)定，因此不適于對(duì)基板進(jìn)行沖洗。通常的做法是，先使液刀14啟動(dòng)一段時(shí)間，待去離子水幕均勻、穩(wěn)定后，再將基板13傳送至液刀清洗裝置100’的下方進(jìn)行清洗。如圖1所示，在現(xiàn)有技術(shù)中，液刀14的刀口朝向傳送滾輪10，當(dāng)傳送滾輪10上未放置基板時(shí)，去離子水幕沖擊傳送滾輪10會(huì)產(chǎn)生回濺，這加重了防濺罩11內(nèi)水汽的產(chǎn)生，從而對(duì)產(chǎn)品品質(zhì)造成不良影響。如圖2至圖4所示，在本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案中，液刀14的刀口朝向相鄰兩個(gè)傳送滾輪10之間的間隙。這樣，當(dāng)傳送滾輪10上未放置基板時(shí)，液刀14刀口噴出的去離子水幕不會(huì)沖擊到傳送滾輪10，從而減少了液體回濺，進(jìn)而有效減少了水汽的產(chǎn)生。
[0041]此外，為了進(jìn)一步加強(qiáng)防回濺效果，液刀清洗裝置100’還可包括:位于液刀14的刀口下方的豎擋板25，豎擋板25的高度應(yīng)低于傳送滾輪10的傳送平面。設(shè)置豎擋板25可有效減少液體的回濺，從而減少水汽的產(chǎn)生。
[0042]如圖2和圖4所示，作為本發(fā)明實(shí)施例的一個(gè)優(yōu)選方案，液刀清洗裝置100’還可包括:位于斜擋板15下方、傳送滾輪10上方的吹散管26 ;以及向吹散管26中鼓入氣流的鼓風(fēng)裝置(圖中未示出)。鼓風(fēng)裝置可以在傳送滾輪10上未放置基板時(shí)向吹散管26中鼓入干冷氣流，從而使吹散管26將斜擋板15下方的水汽吹散，減少液滴的凝結(jié)。如圖5所示，更佳的，吹散管26的管壁分布有多個(gè)出氣孔27，鼓入吹散管26中的干冷氣流可以從多個(gè)出氣孔27吹出，從而可以從多個(gè)方向?qū)⑿睋醢?5下方的水汽吹散，吹散效果更佳。采用該方案，液刀14的G角處也不易凝結(jié)液滴。
[0043]值得一提的是，本發(fā)明實(shí)施例所提供的技術(shù)方案也可以用在其它類似清洗工藝中。斜擋板的下方不易凝結(jié)液滴，從而減少了液滴滴落對(duì)工藝或產(chǎn)品品質(zhì)造成的影響。
[0044]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種液刀清洗裝置，其特征在于，包括: 防濺罩，固定于清洗腔室的側(cè)壁； 液刀，位于防派罩的下方； 斜擋板，位于防濺罩和液刀之間，所述斜擋板的較高側(cè)與清洗腔室的側(cè)壁固定連接，所述斜擋板的較低側(cè)與液刀的刀口頂部固定連接。
2.如權(quán)利要求1所述的液刀清洗裝置，其特征在于，所述斜擋板包括至少兩節(jié)平板單元；相鄰兩節(jié)平板單元的上表面交匯處設(shè)置有豎擋板，所述豎擋板與較高一節(jié)的平板單元形成第一導(dǎo)流槽。
3.如權(quán)利要求1所述的液刀清洗裝置，其特征在于，所述斜擋板的較高側(cè)與清洗腔室的側(cè)壁之間具有第一密封墊。
4.如權(quán)利要求1所述的液刀清洗裝置，其特征在于，所述斜擋板的較低側(cè)與液刀的刀口頂部之間具有第二密封墊，所述斜擋板、第二密封墊和液刀的刀口頂部之間形成第二導(dǎo)流槽。
5.如權(quán)利要求1?4任一項(xiàng)所述的液刀清洗裝置，其特征在于，還包括與清洗腔室的側(cè)壁固定連接的支撐板，所述支撐板的上表面具有第三導(dǎo)流槽；所述防濺罩的頂板與所述支撐板的上表面固定連接。
6.如權(quán)利要求1?4任一項(xiàng)所述的液刀清洗裝置，其特征在于，所述液刀的刀口朝向相鄰兩個(gè)傳送滾輪之間的間隙。
7.如權(quán)利要求1?4任一項(xiàng)所述的液刀清洗裝置，其特征在于，還包括:位于液刀的刀口下方的豎擋板，所述豎擋板的高度低于傳送滾輪的傳送平面。
8.如權(quán)利要求1?4任一項(xiàng)所述的液刀清洗裝置，其特征在于，還包括: 位于斜擋板下方、傳送滾輪上方的吹散管；以及向吹散管中鼓入氣流的鼓風(fēng)裝置。
9.如權(quán)利要求8所述的液刀清洗裝置，其特征在于，所述吹散管的管壁分布有多個(gè)出氣孔。
【文檔編號(hào)】H01L21/67GK104362118SQ201410682980
【公開日】2015年2月18日 申請(qǐng)日期:2014年11月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月24日
【發(fā)明者】李登濤, 鄭載潤(rùn), 王世凱, 金童燮, 許亞東, 梁渲祺, 王華東 申請(qǐng)人:合肥鑫晟光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司