濕法刻蝕絕緣清洗機(jī)水膜保護(hù)裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種濕法刻蝕絕緣清洗機(jī)水膜保護(hù)裝置。其技術(shù)方案是：包括快速接頭、水刀管路、水刀、水刀支架、單向閥，所述的水刀管路的一側(cè)連接快速接頭，快速接頭外側(cè)連接單向閥，水刀管路的另一側(cè)連接水刀，所述水刀管路的端部設(shè)有水刀支架，通過(guò)水刀支架固定水刀管路的位置。有益效果是：在入料時(shí)通過(guò)水刀加裝一層水膜，形成保護(hù)層，隔絕了酸霧與硅片表面的接觸，從而保護(hù)了硅片表面的磷硅玻璃，保證了硅片出料后的方阻提升在一個(gè)可控的范圍之內(nèi)，有效的控制了方阻的提升，對(duì)于硅片的質(zhì)量進(jìn)行了有力的保障，而且隔絕了酸霧對(duì)硅片表面的影響，使整個(gè)硅片出料后的外觀得到了極大地改善。
【專利說(shuō)明】濕法刻蝕絕緣清洗機(jī)水膜保護(hù)裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種濕法刻蝕絕緣清洗裝置，特別涉及一種濕法刻蝕絕緣清洗機(jī)水膜保護(hù)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]刻蝕是半導(dǎo)體、微電子及LED制造過(guò)程中的一個(gè)重要工序，刻蝕是利用化學(xué)或物理方法有選擇性地從硅片或者藍(lán)寶石襯底表面去除不需要的材料的過(guò)程。隨著半導(dǎo)體器件的集成度提高，半導(dǎo)體器件的線寬越來(lái)越小，關(guān)鍵尺寸的控制也越來(lái)越重要，對(duì)刻蝕工藝的要求也越來(lái)越高。從工藝上區(qū)分，刻蝕可以分為濕法刻蝕和干法刻蝕。
[0003]在使用濕法刻蝕絕緣清洗機(jī)的生產(chǎn)過(guò)程中，由于槽體上方酸霧影響，與硅片表面形成的磷硅玻璃產(chǎn)生強(qiáng)烈反應(yīng)。導(dǎo)致硅片在濕法刻蝕絕緣清洗機(jī)出料以后方阻提升過(guò)大，影響硅片質(zhì)量，而且硅片在槽體2#、3#時(shí)酸霧時(shí)常凝結(jié)形成酸液滴落在硅片表面，對(duì)硅片的外觀影響較為嚴(yán)重。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型的目的就是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷，提供一種濕法刻蝕絕緣清洗機(jī)水膜保護(hù)裝置。
[0005]其技術(shù)方案是:包括快速接頭、水刀管路、水刀、水刀支架、單向閥，所述的水刀管路的一側(cè)連接快速接頭，快速接頭外側(cè)連接單向閥，水刀管路的另一側(cè)連接水刀，所述水刀管路的端部設(shè)有水刀支架，通過(guò)水刀支架固定水刀管路的位置。
[0006]上述的水刀的進(jìn)水口設(shè)有連接頭，出水口處設(shè)有多個(gè)毛細(xì)孔，在出水主孔與毛細(xì)孔之間設(shè)有憋壓槽。
[0007]本實(shí)用新型的有益效果是:在入料時(shí)通過(guò)水刀加裝一層水膜，形成保護(hù)層，隔絕了酸霧與硅片表面的接觸，從而保護(hù)了硅片表面的磷硅玻璃，保證了硅片出料后的方阻提升在一個(gè)可控的范圍之內(nèi)，有效的控制了方阻的提升，對(duì)于硅片的質(zhì)量進(jìn)行了有力的保障，而且隔絕了酸霧對(duì)硅片表面的影響，使整個(gè)硅片出料后的外觀得到了極大地改善。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0008]附圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0009]上圖中:快速接頭1、水刀管路2、水刀3、水刀支架4、單向閥5、出水主孔6、毛細(xì)孔
7、連接頭8、憋壓槽9。
【具體實(shí)施方式】
[0010]結(jié)合附圖1，對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的描述:
[0011]本實(shí)用新型包括快速接頭1、水刀管路2、水刀3、水刀支架4、單向閥5，所述的水刀管路2的一側(cè)連接快速接頭1，快速接頭I外側(cè)連接單向閥5，給水管路連接單向閥5，并在硅片入料時(shí)通過(guò)感應(yīng)燈感應(yīng)，從而使設(shè)備電腦得到信號(hào)，然后水刀運(yùn)行，開(kāi)始生產(chǎn)，避免了水浪費(fèi)。
[0012]水刀管路2的另一側(cè)連接水刀3，所述水刀管路2的端部設(shè)有水刀支架4，通過(guò)水刀支架4固定水刀管路2的位置。其中，水刀3的進(jìn)水口設(shè)有連接頭8，出水口處設(shè)有多個(gè)毛細(xì)孔7，在出水主孔6與毛細(xì)孔7之間設(shè)有憋壓槽9，另外，出水孔數(shù)量多而且小可以更好的控制出水量，使水膜均勻。
[0013]另外，在水刀下部改造引輪一根，由原來(lái)的引輪直徑為21.5CM改為27.5CM，在硅片運(yùn)行時(shí)，會(huì)產(chǎn)生一個(gè)傾斜度，使硅片表面多余的水去除，另水膜均勻。還可以避免多余水分帶到2#、3#藥槽，降低藥液濃度。
[0014]本實(shí)用新型在入料時(shí)通過(guò)水刀加裝一層水膜，形成保護(hù)層，隔絕了酸霧與硅片表面的接觸，從而保護(hù)了硅片表面的磷硅玻璃，保證了硅片出料后的方阻提升在一個(gè)可控的范圍之內(nèi)，有效的控制了方阻的提升，對(duì)于硅片的質(zhì)量進(jìn)行了有力的保障，而且隔絕了酸霧對(duì)硅片表面的影響，使整個(gè)硅片出料后的外觀得到了極大地改善。
【權(quán)利要求】
1.一種濕法刻蝕絕緣清洗機(jī)水膜保護(hù)裝置，其特征是:包括快速接頭(I)、水刀管路(2)、水刀(3)、水刀支架(4)、單向閥(5)，所述的水刀管路(2)的一側(cè)連接快速接頭(1)，快速接頭(I)外側(cè)連接單向閥(5 )，水刀管路(2 )的另一側(cè)連接水刀(3 )，所述水刀管路(2 )的端部設(shè)有水刀支架(4)，通過(guò)水刀支架(4)固定水刀管路(2)的位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕法刻蝕絕緣清洗機(jī)水膜保護(hù)裝置，其特征是:所述的水刀(3)的進(jìn)水口設(shè)有連接頭(8)，出水口處設(shè)有多個(gè)毛細(xì)孔(7)，在出水主孔(6)與毛細(xì)孔(7)之間設(shè)有憋壓槽(9)。
【文檔編號(hào)】H01L21/67GK203760435SQ201320884387
【公開(kāi)日】2014年8月6日 申請(qǐng)日期:2013年12月31日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月31日
【發(fā)明者】宋道新, 萬(wàn)福旺, 張振興 申請(qǐng)人:山東天信光伏新能源有限公司