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真空吸附傳送裝置和基板傳送方法

文檔序號:7010278閱讀:244來源:國知局
真空吸附傳送裝置和基板傳送方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種真空吸附傳送裝置和基板傳送方法,涉及顯示器制造【技術(shù)領(lǐng)域】,提高了在基板固定時的可靠性。該真空吸附傳送裝置,包括:真空吸附板,所述真空吸附板具有中空腔體和吸附平面,所述吸附平面上設(shè)置有多個與所述中空腔體連通的吸附孔,所述真空吸附板上還設(shè)置有與所述中空腔體連通的真空管。
【專利說明】真空吸附傳送裝置和基板傳送方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示器制造【技術(shù)領(lǐng)域】,尤其涉及一種真空吸附傳送裝置和基板傳送方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前,顯示器的制造過程中,需要在玻璃基板進行各種工藝,在很多工藝完成后需要利用微觀檢查機對玻璃基板進行微觀檢測,以避免不良的發(fā)生。在進行基板的微觀檢測時,需要通過真空吸附傳送裝置將基板固定并帶動基板移動。
[0003]如圖1所示,真空吸附傳送裝置包括用于吸附基板I的多個真空吸盤2,每個真空吸盤2單獨通過一個真空管與動力廠房管道連通,多個真空吸盤2間隔排列并吸附在基板I的一側(cè)邊緣處以實現(xiàn)對基板I的固定。然而,現(xiàn)有的真空吸附傳送裝置在固定基板時的可靠性較低,具體體現(xiàn)在:由于吸附區(qū)域與未吸附區(qū)域之間的受力不同,會導(dǎo)致基板邊緣扭曲,從而引起基板破碎;另外,長時間使用后的多個真空吸盤無法保證處于同一水平面上,會導(dǎo)致無法對基板進行良好的固定,需要進行校準調(diào)節(jié)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明提供一種真空吸附傳送裝置和基板傳送方法,提高了在基板固定時的可靠性。
[0005]為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
[0006]一方面,提供一種真空吸附傳送裝置,包括:
[0007]真空吸附板,所述真空吸附板具有中空腔體和吸附平面,所述吸附平面上設(shè)置有多個與所述中空腔體連通的吸附孔,所述真空吸附板上還設(shè)置有與所述中空腔體連通的真空管。
[0008]具體地,所述真空管上設(shè)置有真空控制閥。
[0009]具體地,上述真空吸附傳送裝置還包括:
[0010]傳動裝置,所述真空吸附板固定設(shè)置于所述傳動裝置上;
[0011]所述傳動裝置上還設(shè)置有夾具,所述夾具具有壓置端,所述壓置端用于靠近所述真空吸附板以壓住所述真空吸附板的吸附平面上吸附的基板。
[0012]具體地,所述真空吸附板通過固定支架固定設(shè)置于所述傳動裝置上。
[0013]具體地,所述夾具包括固定端和所述壓置端;
[0014]所述夾具通過所述固定端鉸接于所述傳動裝置上,所述夾具沿所述固定端旋轉(zhuǎn)使所述壓置端靠近或遠離所述真空吸附板。
[0015]優(yōu)選地,所述夾具為多個,所述多個夾具等間距設(shè)置為一排。
[0016]優(yōu)選地,所述多個吸附孔在所述吸附平面上均勻設(shè)置。
[0017]另一方面,提供一種基板傳送方法,包括:利用上述的真空吸附傳送裝置傳送所述基板。[0018]具體地,所述真空吸附傳送裝置中的所述吸附平面與所述基板接觸的區(qū)域不超出所述基板的邊緣非顯示區(qū)域。
[0019]具體地,所述利用上述的真空吸附傳送裝置傳送所述基板包括:
[0020]運送所述基板使所述真空吸附傳送裝置中的真空吸附板位于所述基板的下表面邊緣;
[0021]通過所述真空吸附傳送裝置中的真空管抽真空后使所述基板通過吸附孔被吸附固定于所述真空吸附板上;
[0022]控制所述真空吸附板移動來傳送所述基板。
[0023]本發(fā)明提供的真空吸附傳送裝置和基板傳送方法,通過具有平整表面的真空吸附板對基板進行固定,多個吸附孔之間的平板對基板起到支撐作用,從而使基板的受力更加均勻,減少了基板扭曲破碎的可能性;并且由于真空吸附板為一個整體結(jié)構(gòu),能夠始終保持吸附平面的狀態(tài),無需進行水平校準調(diào)節(jié)。因此提高了在基板固定時的可靠性。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0024]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0025]圖1為傳統(tǒng)的一種真空吸附傳送裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0026]圖2為本發(fā)明實施例中一種真空吸附傳送裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0027]圖3為圖2中真空吸附傳送裝置吸附基板時的示意圖;
[0028]圖4為本發(fā)明實施例中另一種真空吸附傳送裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0029]圖5為圖4中真空吸附傳送裝置吸附基板時的示意圖;
[0030]圖6為本發(fā)明實施例中一種基板傳送方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0031]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0032]如圖2所示,本發(fā)明實施例提供了一種真空吸附傳送裝置,包括:真空吸附板3,真空吸附板3具有中空腔體和吸附平面31,吸附平面31上設(shè)置有多個與該中空腔體連通的吸附孔32,真空吸附板3上還設(shè)置有與該中空腔體連通的真空管4,真空管4用于與動力廠房管道連通,通過真空管4抽真空。
[0033]具體地,如圖3所示,真空吸附板3放置于基板I的下表面邊緣處,吸附平面31貼附于基板I下表面,通過真空管4抽真空,基板I通過吸附孔32被吸附固定于真空吸附板3上。之后即可以通過移動真空吸附板3的來實現(xiàn)基板I的傳送。
[0034]本實施例中的真空吸附傳送裝置,通過具有平整表面的真空吸附板對基板進行固定,多個吸附孔之間的平板對基板起到支撐作用,從而使基板的受力更加均勻,減少了基板扭曲破碎的可能性;并且由于真空吸附板為一個整體結(jié)構(gòu),能夠始終保持吸附平面的狀態(tài),無需進行水平校準調(diào)節(jié)。因此提高了在基板固定時的可靠性。
[0035]具體地,真空管4上設(shè)置有真空控制閥,由于真空管4與動力廠房管道連通,動力廠房可以一直提供動力來抽真空,只需在真空管4上設(shè)置真空控制閥,從而方便的控制真空吸附板3是否工作。
[0036]具體地,如圖4所示,上述真空吸附傳送裝置還包括:傳動裝置5,真空吸附板3通過固定支架34固定設(shè)置于傳動裝置5上;傳動裝置5上還設(shè)置有夾具6,夾具6具有壓置端61,壓置端61用于靠近真空吸附板3以壓住真空吸附板3的吸附平面31上吸附的基板,由于需要由其他裝置對基板的邊緣進行對位調(diào)整,因此可以設(shè)置真空吸附板的長度略小于基板的邊長。
[0037]具體地,夾具6包括固定端62和壓置端61 ;夾具6通過固定端62鉸接于傳動裝置5上,夾具6沿固定端62旋轉(zhuǎn)使壓置端61靠近或遠離真空吸附板3。
[0038]優(yōu)選地,上述夾具6為多個,多個夾具6等間距設(shè)置為一排。
[0039]優(yōu)選地,上述多個吸附孔32在吸附平面31上均勻設(shè)置。
[0040]具體的工作過程為:壓置端61遠離真空吸附板3,運送基板使真空吸附板3位于基板的下表面邊緣,真空控制閥開啟,通過真空管4抽真空后使基板通過吸附孔32被吸附固定于真空吸附板3上,如圖5所示,之后通過控制夾具6旋轉(zhuǎn)使壓置端61靠近真空吸附板3并對基板I的上表面邊緣進行夾壓,同時基板I下方的機臺持續(xù)向上產(chǎn)生一定壓力的干燥氣體使基板I處于懸浮狀態(tài),當(dāng)檢測到真空吸附板3吸附時的真空負壓值超過預(yù)設(shè)值時,即表明對基板I的固定良好,此時可以控制傳動裝置5進行移動操作從而使真空吸附板3帶動基板I移動,實現(xiàn)基板I的傳送并對基板I進行檢測。
[0041]本實施例中的真空吸附傳送裝置,通過具有平整表面的真空吸附板對基板進行固定,多個吸附孔之間的平板對基板起到支撐作用,從而使基板的受力更加均勻,減少了基板扭曲破碎的可能性;并且由于真空吸附板為一個整體結(jié)構(gòu),能夠始終保持吸附平面的狀態(tài),無需進行水平校準調(diào)節(jié);同時,通過夾具和吸空吸附板對基板進行夾壓,進一步防止基板滑脫。因此提聞了在基板固定時的可罪性。
[0042]本發(fā)明實施例還提供一種基板傳送方法,包括:利用上述的真空吸附傳送裝置傳送所述基板。該真空吸附傳送裝置的具體結(jié)構(gòu)、原理以及基板傳送過程與上述實施例相同,在此不再贅述。
[0043]具體地,如圖3所示,所述真空吸附傳送裝置中的吸附平面31與基板I接觸的區(qū)域不超出基板I的邊緣非顯示區(qū)域。
[0044]具體地,如圖6所示,上述利用上述的真空吸附傳送裝置傳送所述基板具體包括:
[0045]步驟101、運送所述基板使所述真空吸附傳送裝置中的真空吸附板位于所述基板的下表面邊緣;
[0046]步驟102、通過所述真空吸附傳送裝置中的真空管抽真空后使所述基板通過吸附孔被吸附固定于所述真空吸附板上;
[0047]步驟103、控制所述真空吸附板移動來傳送所述基板。
[0048]本實施例中的基板傳送方法,通過具有平整表面的真空吸附板對基板進行固定,多個吸附孔之間的平板對基板起到支撐作用,從而使基板的受力更加均勻,減少了基板扭曲破碎的可能性;并且由于真空吸附板為一個整體結(jié)構(gòu),能夠始終保持吸附平面的狀態(tài),無需進行水平校準調(diào)節(jié)。
[0049]以上所述,僅為本發(fā)明的【具體實施方式】,但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此,任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),可輕易想到變化或替換,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此,本發(fā)明的保護范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護范圍為準。
【權(quán)利要求】
1.一種真空吸附傳送裝置,其特征在于,包括: 真空吸附板,所述真空吸附板具有中空腔體和吸附平面,所述吸附平面上設(shè)置有多個與所述中空腔體連通的吸附孔,所述真空吸附板上還設(shè)置有與所述中空腔體連通的真空管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附傳送裝置,其特征在于, 所述真空管上設(shè)置有真空控制閥。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空吸附傳送裝置,其特征在于,還包括: 傳動裝置,所述真空吸附板固定設(shè)置于所述傳動裝置上; 所述傳動裝置上還設(shè)置有夾具,所述夾具具有壓置端,所述壓置端用于靠近所述真空吸附板以壓住所述真空吸附板的吸附平面上吸附的基板。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空吸附傳送裝置,其特征在于, 所述真空吸附板通過固定支架固定設(shè)置于所述傳動裝置上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空吸附傳送裝置,其特征在于, 所述夾具包括固定端和所述壓置端; 所述夾具通過所述固定端鉸接于所述傳動裝置上,所述夾具沿所述固定端旋轉(zhuǎn)使所述壓置端靠近或遠離所述真空吸附板。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空吸附傳送裝置,其特征在于, 所述夾具為多個,所述多個夾具等間距設(shè)置為一排。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附傳送裝置,其特征在于, 所述多個吸附孔在所述吸附平面上均勻設(shè)置。
8.一種基板傳送方法,包括:利用如權(quán)利要求1-7中任一項所述的真空吸附傳送裝置傳送所述基板。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,所述真空吸附傳送裝置中的所述吸附平面與所述基板接觸的區(qū)域不超出所述基板的邊緣非顯示區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,所述利用如權(quán)利要求1-7中任一項所述的真空吸附傳送裝置傳送所述基板包括: 運送所述基板使所述真空吸附傳送裝置中的真空吸附板位于所述基板的下表面邊緣; 通過所述真空吸附傳送裝置中的真空管抽真空后使所述基板通過吸附孔被吸附固定于所述真空吸附板上; 控制所述真空吸附板移動來傳送所述基板。
【文檔編號】H01L21/683GK103560104SQ201310542460
【公開日】2014年2月5日 申請日期:2013年11月5日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月5日
【發(fā)明者】陳國 , 陳啟超, 韓亞軍, 葉超, 王濤, 鄭鐵元 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司
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