一種真空吸附平臺(tái)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種真空吸附平臺(tái)，包括真空吸盤(pán)和底座，真空吸盤(pán)與底座能夠形成真空腔，所述真空吸盤(pán)包括第一吸盤(pán)、第二吸盤(pán)和隔膜，第二吸盤(pán)鄰近所述真空腔；第一吸盤(pán)上設(shè)置多個(gè)第一吸盤(pán)孔，第二吸盤(pán)上設(shè)置多個(gè)第二吸盤(pán)孔，所述第一吸盤(pán)孔、第二吸盤(pán)孔和真空腔相連通；隔膜設(shè)置于第一吸盤(pán)和第二吸盤(pán)之間，并隔離所述第一吸盤(pán)孔與第二吸盤(pán)孔，可以避免真空吸盤(pán)上放置基板之外的區(qū)域破真空，在吸附異形基板時(shí)，不但不會(huì)出現(xiàn)盲區(qū)，吸附效果得到保證，而且無(wú)需額外覆蓋吸附區(qū)域之外的區(qū)域，使用方便，能夠大幅提高基板運(yùn)載作業(yè)效率。
【專利說(shuō)明】
一種真空吸附平臺(tái)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型屬于液晶顯示設(shè)備制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種真空吸附平臺(tái)。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示設(shè)備制造行業(yè)經(jīng)常涉及基板運(yùn)載作業(yè)，基板的運(yùn)載通常依靠真空吸附平臺(tái)實(shí)現(xiàn)吸附固定，現(xiàn)有的真空吸附平臺(tái)多采用吸盤(pán)吸孔一體式設(shè)計(jì)或并排式設(shè)計(jì)。
[0003]然而，現(xiàn)有的一體式真空吸附平臺(tái)在吸附不同尺寸的基板時(shí)，需要用真空貼紙貼覆基板吸附區(qū)域之外的區(qū)域，以防止破真空造成基板無(wú)法正常吸附，使用不便，費(fèi)時(shí)費(fèi)力。
[0004]現(xiàn)有的并排式真空吸附平臺(tái)通過(guò)關(guān)閉整排或整列吸盤(pán)吸孔的方式實(shí)現(xiàn)真空關(guān)閉，以解決上述問(wèn)題，但是，并排式真空吸附平臺(tái)在吸附異形的基板時(shí)存在盲區(qū)，吸附效果不佳。另外，有些并排式真空吸附平臺(tái)需要更換通孔卡位治具Jig，在一定程度上也會(huì)對(duì)使用造成不便，影響基板運(yùn)載的效率。
[0005]因此，亟需一種真空吸附平臺(tái)以解決上述技術(shù)問(wèn)題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]本實(shí)用新型針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足，提供一種真空吸附平臺(tái)，用以解決現(xiàn)有的真空吸附平臺(tái)使用不便、異形基板吸附效果不佳的問(wèn)題。
[0007]本實(shí)用新型提供一種真空吸附平臺(tái)，包括真空吸盤(pán)和底座，真空吸盤(pán)與底座能夠形成真空腔，所述真空吸盤(pán)包括第一吸盤(pán)、第二吸盤(pán)和隔膜，第二吸盤(pán)鄰近所述真空腔；
[0008]第一吸盤(pán)上設(shè)置多個(gè)第一吸盤(pán)孔，第二吸盤(pán)上設(shè)置多個(gè)第二吸盤(pán)孔，所述第一吸盤(pán)孔、第二吸盤(pán)孔和真空腔相連通；
[0009]隔膜設(shè)置于第一吸盤(pán)和第二吸盤(pán)之間，并隔離所述第一吸盤(pán)孔與第二吸盤(pán)孔。
[0010]優(yōu)選的，所述第一吸盤(pán)孔的直徑小于第二吸盤(pán)孔的直徑。
[0011 ]優(yōu)選的，所述第二吸盤(pán)孔與第一吸盤(pán)相接觸的一端設(shè)置有倒角或倒圓。
[0012]優(yōu)選的，所述第一吸盤(pán)孔和第二吸盤(pán)孔均勻分布。
[0013]優(yōu)選的，所述隔膜采用彈性材料制造。
[0014]優(yōu)選的，所述真空吸附平臺(tái)還包括抽氣裝置，所述抽氣裝置用于對(duì)真空吸盤(pán)和底座形成的空腔抽真空，以形成真空腔；
[0015]所述抽氣裝置包括真空栗、氣閥和抽氣管線，氣閥設(shè)置于抽氣管線上，抽氣管線設(shè)置于所述底座的一側(cè)，抽氣管線的一端與真空吸盤(pán)和底座形成的空腔相連通，另一端與真空栗相連。
[0016]實(shí)用新型本實(shí)用新型具有如下有益效果:
[0017]本實(shí)用新型所提供的真空吸附平臺(tái)采用雙吸盤(pán)設(shè)計(jì)，雙吸盤(pán)之間采用隔膜隔離，可以避免真空吸盤(pán)上放置基板之外的區(qū)域破真空，在吸附異形基板時(shí)，不但不會(huì)出現(xiàn)盲區(qū)，吸附效果得到保證，而且無(wú)需額外覆蓋吸附區(qū)域之外的區(qū)域，使用方便，能夠大幅提高基板運(yùn)載作業(yè)效率。
【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1為本實(shí)用新型提供的真空吸附平臺(tái)的爆炸圖；
[0019]圖2a為本實(shí)用新型提供的真空吸盤(pán)的截面示意圖之一；
[0020]圖2b為本實(shí)用新型提供的真空吸盤(pán)的截面示意圖之二；
[0021]圖3為本實(shí)用新型提供的真空吸附平臺(tái)的工作原理圖。
[0022]附圖標(biāo)記:
[0023]1、真空吸盤(pán) 2、底座3、真空腔；4、基板
[0024]11、第一吸盤(pán) 12、第二吸盤(pán)13、隔膜 111、第一吸盤(pán)孔
[0025]121、第二吸盤(pán)孔41、氣閥 42、抽氣管線
【具體實(shí)施方式】
[0026]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本實(shí)用新型的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0027]參見(jiàn)圖1，本實(shí)用新型提供一種真空吸附平臺(tái)，該真空吸附平臺(tái)包括真空吸盤(pán)I和底座2，真空吸盤(pán)I與底座2能夠形成真空腔3，其中，真空吸盤(pán)I包括第一吸盤(pán)11、第二吸盤(pán)12和隔膜13，隔膜13設(shè)置于第一吸盤(pán)11和第二吸盤(pán)12之間，第二吸盤(pán)12鄰近所述真空腔3。也就是說(shuō)，第一吸盤(pán)11的一面以及第二吸盤(pán)的一面與隔膜13的兩面分別貼合，第一吸盤(pán)11的另一面朝向真空吸附平臺(tái)的外側(cè)，第二吸盤(pán)12的另一面朝向真空吸附平臺(tái)的內(nèi)側(cè)，如圖1所示，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，第一吸盤(pán)11位于隔膜13的上方，第二吸盤(pán)12位于隔膜13的下方。
[0028]第一吸盤(pán)11上設(shè)置多個(gè)第一吸盤(pán)孔111，第二吸盤(pán)12上設(shè)置多個(gè)第二吸盤(pán)孔121，第一吸盤(pán)孔111、第二吸盤(pán)孔121和真空腔3相連通，隔膜13隔離第一吸盤(pán)孔111與第二吸盤(pán)孔 121。
[0029]本實(shí)用新型所提供的真空吸附平臺(tái)采用雙吸盤(pán)設(shè)計(jì)，在雙吸盤(pán)之間用隔膜隔離，可以避免真空吸盤(pán)上放置基板之外的區(qū)域破真空，在吸附異形基板時(shí)，不但不會(huì)出現(xiàn)盲區(qū)，吸附效果得到保證，而且無(wú)需額外覆蓋吸附區(qū)域之外的區(qū)域，使用方便，能夠大幅提高基板運(yùn)載作業(yè)效率。
[0030]為了實(shí)現(xiàn)均勻吸附，保證吸附效果，優(yōu)選的，第一吸盤(pán)孔111在第一吸盤(pán)11上均勻分布，第二吸盤(pán)孔121在第二吸盤(pán)12上均勻分布。
[0031]底座2包括底面和四個(gè)側(cè)面，四個(gè)側(cè)面圍在底面的四周，形成開(kāi)口向上的凹槽結(jié)構(gòu)。真空吸盤(pán)I卡合于底座2的開(kāi)口處，從而在第二吸盤(pán)12的下表面與底座2之間形成空腔。
[0032]所述真空吸附平臺(tái)還包括抽氣裝置，所述抽氣裝置用于對(duì)真空吸盤(pán)與底座形成的空腔抽真空，從而形成真空腔3。所述抽氣裝置包括真空栗(圖中未繪示)、氣閥41和抽氣管線42，氣閥41設(shè)置于抽氣管線42上，抽氣管線42設(shè)置于底座2的一側(cè)，抽氣管線42的一端與真空吸盤(pán)I和底座2形成的空腔相連通，另一端與真空栗相連。
[0033]當(dāng)真空栗和氣閥41開(kāi)啟，抽氣裝置開(kāi)始對(duì)真空吸盤(pán)I和底座2形成的空腔抽真空，從而借助真空吸附平臺(tái)內(nèi)真空與外界的大氣壓之間的壓差，將放置在真空吸盤(pán)1(也就是第一吸盤(pán)11)上的基板等物品牢固吸附。
[0034]如圖2a所示，當(dāng)真空吸附平臺(tái)工作時(shí)，在真空作用下，隔膜13向第二吸盤(pán)孔12的方向發(fā)生形變。第一吸盤(pán)孔111的直徑可以與第二吸盤(pán)孔121的直徑相同，當(dāng)隔膜13向第二吸盤(pán)孔12方向發(fā)生形變時(shí)，第二吸盤(pán)孔12在一定程度上會(huì)阻擋隔膜13。因此，為了為隔膜13形變提供便利，可以將第二吸盤(pán)孔12設(shè)計(jì)為較大尺寸。
[0035]如圖2b所示，第一吸盤(pán)孔111的直徑小于第二吸盤(pán)孔121的直徑。這樣，將第一吸盤(pán)孔111設(shè)計(jì)為較小尺寸，將第二吸盤(pán)孔121設(shè)計(jì)為較大尺寸，一方面，保證了隔膜13的形變面積，減少形變時(shí)產(chǎn)生的物理阻礙。另一方面，在隔膜13發(fā)生相同形變的狀態(tài)下，保證第一吸盤(pán)孔111空間內(nèi)的大氣壓更低，進(jìn)一步提高第一吸盤(pán)孔111與外界大氣壓的壓差，使得第一吸盤(pán)11吸附更為牢固，提高吸附效果。
[0036]優(yōu)選的，參見(jiàn)圖2a和2b，第二吸盤(pán)孔121與第一吸盤(pán)孔111相接觸的一端設(shè)置有倒角或倒圓，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，在第二吸盤(pán)孔的上端(第二吸盤(pán)12的上表面處)設(shè)置倒角或倒圓。這樣，一方面，倒角或倒圓可以為隔膜13向第二吸盤(pán)12方向發(fā)生形變起導(dǎo)向作用，另一方面，避免第二吸盤(pán)孔121開(kāi)口處的棱角刺破隔膜13，從而對(duì)隔膜13起到保護(hù)作用，延長(zhǎng)隔膜13的使用壽命。
[0037]隔膜13采用彈性材料制造，用以保證在真空作用下，隔膜13能夠向第二吸盤(pán)孔12的方向發(fā)生形變。為了使隔膜13能夠產(chǎn)生足夠的形變面積，保證吸附效果，優(yōu)選的，隔膜13可以選用天然乳膠材料制造，具有高彈性，不透氣，環(huán)保等特點(diǎn)。
[0038]為了清楚說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，以下結(jié)合圖3，對(duì)本實(shí)用新型的真空吸附平臺(tái)的工作原理進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0039]如圖3所示，當(dāng)真空吸附平臺(tái)吸附基板4時(shí)，在基板4吸附區(qū)域范圍內(nèi)，大氣、第一吸盤(pán)孔111、第二吸盤(pán)孔121、真空腔3形成聯(lián)動(dòng)系統(tǒng)，第二吸盤(pán)孔121內(nèi)形成較低真空度的真空空間，第一吸盤(pán)孔111內(nèi)形成更低真空度的真空空間，大氣為高真空，這樣基板4就會(huì)被大氣壓壓在第一吸盤(pán)11的上表面上。第一吸盤(pán)吸孔與第二吸盤(pán)孔采用非對(duì)稱設(shè)計(jì)，“上小下大”的結(jié)構(gòu)可以保證基板吸附區(qū)域的第一吸盤(pán)吸孔內(nèi)可以形成更低的真空度，從而保證更強(qiáng)的吸附力。
[0040]需要說(shuō)明的是，所述真空吸附平臺(tái)可以適用于任何形狀和尺寸的基板等物品的吸附，雙層吸盤(pán)之間由具有彈性的隔膜隔離，保證第一吸盤(pán)上未吸附區(qū)域在抽真空時(shí)不會(huì)破真空。基板吸附區(qū)域的第一吸盤(pán)吸孔內(nèi)會(huì)形成低真空區(qū)域，在大氣壓的作用下，真空吸附平臺(tái)可以將基板或其他物品牢固吸附住。所述真空吸附平臺(tái)可以根據(jù)實(shí)際需要修改設(shè)計(jì)，靈活性強(qiáng)，具有廣泛的推廣價(jià)值，其實(shí)現(xiàn)原理簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)實(shí)用，有著廣泛的應(yīng)用前景。
[0041]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說(shuō)明本實(shí)用新型的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本實(shí)用新型并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本實(shí)用新型的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種真空吸附平臺(tái)，包括真空吸盤(pán)和底座，真空吸盤(pán)與底座能夠形成真空腔，其特征在于，所述真空吸盤(pán)包括第一吸盤(pán)、第二吸盤(pán)和隔膜，第二吸盤(pán)鄰近所述真空腔； 第一吸盤(pán)上設(shè)置多個(gè)第一吸盤(pán)孔，第二吸盤(pán)上設(shè)置多個(gè)第二吸盤(pán)孔，所述第一吸盤(pán)孔、第二吸盤(pán)孔和真空腔相連通； 隔膜設(shè)置于第一吸盤(pán)和第二吸盤(pán)之間，并隔離所述第一吸盤(pán)孔與第二吸盤(pán)孔。2.如權(quán)利要求1所述的真空吸附平臺(tái)，其特征在于，所述第一吸盤(pán)孔的直徑小于第二吸盤(pán)孔的直徑。3.如權(quán)利要求1所述的真空吸附平臺(tái)，其特征在于，所述第二吸盤(pán)孔與第一吸盤(pán)相接觸的一端設(shè)置有倒角或倒圓。4.如權(quán)利要求1所述的真空吸附平臺(tái)，其特征在于，所述第一吸盤(pán)孔和第二吸盤(pán)孔均勻分布O5.如權(quán)利要求1所述的真空吸附平臺(tái)，其特征在于，所述隔膜采用彈性材料制造。6.如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的真空吸附平臺(tái)，其特征在于，所述真空吸附平臺(tái)還包括抽氣裝置，所述抽氣裝置用于對(duì)真空吸盤(pán)和底座形成的空腔抽真空，以形成真空腔； 所述抽氣裝置包括真空栗、氣閥和抽氣管線，氣閥設(shè)置于抽氣管線上，抽氣管線設(shè)置于所述底座的一側(cè)，抽氣管線的一端與真空吸盤(pán)和底座形成的空腔相連通，另一端與真空栗相連。
【文檔編號(hào)】B25J15/06GK205521462SQ201620157351
【公開(kāi)日】2016年8月31日
【申請(qǐng)日】2016年3月1日
【發(fā)明人】蔣展望, 王小文, 郭海兵, 劉川, 李銀海, 金磊
【申請(qǐng)人】合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司