雙D-π-A一甲川菁染料及其合成方法和應用的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種結構式（I）所示的雙D-π-A一甲川菁染料，其使用1,3-二-(4-甲基喹啉)-2-丙醇二氯鹽與含有甲硫基的不同雜環(huán)中間體反應，制備新型雙D-π-A一甲川菁染料。制備得到的雙D-π-A一甲川菁染料可在羥基化的單晶硅表面以共價鍵鍵合形成分子薄膜，使染料的光譜性能轉嫁于單晶硅半導體，應用在光電材料和生物檢測領域。
【專利說明】雙D- π -A —甲川菁染料及其合成方法和應用
【技術領域】[0001]本發(fā)明涉及一種雙D- -A —甲川菁染料及在硅片表面的成膜應用。
【背景技術】[0002]硅基材料具有穩(wěn)定性好、成本低廉以及無環(huán)境污染等優(yōu)點，已作為半導體材料廣泛應用于微電子和太陽能光伏半導體領域。近年來，隨著納米技術以及電子學的快速發(fā)展，將有機功能分子在硅基材料表面共價鍵合成膜，對其進行表面修飾受到人們的廣泛關注，成為研究的熱點領域。[0003]將有機分子在硅基材料表面共價鍵合，可以使硅基材料表面形成有機分子層薄膜，使有機分子的性能轉嫁于半導體，提高材料的表面性能，賦予傳統(tǒng)硅基材料更多的功能，已被廣泛應用于太陽能電池、分子存儲器、分子開關、場效應晶體管、生物芯片和生物傳感器等領域。

【發(fā)明內容】
[0004]本發(fā)明的目的之一是提供一種新型雙D-π-Α—甲川菁染料；
本發(fā)明的另一目的是提供上述雙D- π -A —甲川菁染料的合成方法；
本發(fā)明還有一個目的是提供雙D- π -A 一甲川菁染料在硅片表面形成分子薄膜的應用。
[0005]本發(fā)明的實現(xiàn)過程如下:
【權利要求】
1.結構式(I)所示的雙D--A—甲川菁染料，

2.權利要求1所述雙D--A—甲川菁染料的制備方法，其特征在于包括以下步驟: (1)4-甲基喹啉與1,3-二氯-2-丙醇反應得到1,3-二-(4-甲基喹啉)-2-丙醇二氯鹽；
3.根據(jù)權利要求2所述雙D--A —甲川菁染料的制備方法，其特征在于:步驟(1)在N2保護下130~160°C反應。
4.根據(jù)權利要求2所述雙D--A—甲川菁染料的制備方法，其特征在于:步驟(2)使用三こ胺為催化劑，こ醇為溶劑加熱回流反應。
5.權利要求1所述的雙D--A—甲川菁染料在硅片表面制備分子薄膜的應用。
【文檔編號】H01G9/20GK103554955SQ201310458986
【公開日】2014年2月5日 申請日期:2013年10月7日 優(yōu)先權日:2013年10月7日
【發(fā)明者】關麗, 張博睿, 張秀富, 王蘭英 申請人:西北大學