基板處理裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種能夠提高基板處理裝置的處理能力的技術(shù)?；逄幚硌b置（1）具有配置在清洗處理區(qū)（20）和分度器區(qū)（10）之間的連接部分的交接單元（30）。交接單元（30）具有：翻轉(zhuǎn)用支撐部（701），其以水平姿勢(shì)支撐基板（W）；輸送支撐部（601a），其在上下方向上與翻轉(zhuǎn)用支撐部（701）隔開(kāi)間隔地配置，并且以水平姿勢(shì)支撐基板（W）；夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)（80），其使支撐在翻轉(zhuǎn)用支撐部（701）上的基板（W）翻轉(zhuǎn)，并且使翻轉(zhuǎn)后的基板（W）再次支撐在翻轉(zhuǎn)用支撐部（701）上。在此，支撐在輸送支撐部（601a）上的基板（W）的一部分，配置在由夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)（80）使基板（W）翻轉(zhuǎn)的翻轉(zhuǎn)區(qū)域M內(nèi)。
【專利說(shuō)明】基板處理裝置 【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及對(duì)多張基板進(jìn)行處理的技術(shù)，上述基板是半導(dǎo)體基板、液晶顯示裝置 用玻璃基板、等離子顯示器用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盤用基板等(下面，僅稱為 “基板”)。
【背景技術(shù)】
[0002]具有對(duì)基板進(jìn)行處理的各種基板處理裝置。例如，在專利文獻(xiàn)I的基板處理裝置 中:利用基板交接部來(lái)連接分度器區(qū)和清洗處理區(qū)，其中，分度器區(qū)用于匯集未處理基板以 及已處理基板，清洗處理區(qū)用于對(duì)基板進(jìn)行清洗處理。在分度器區(qū)及清洗處理區(qū)上分別配 置有各單元專用的搬送機(jī)械手。
[0003]在這樣的基板處理裝置中，考慮到清洗基板的背面的情況，在裝置內(nèi)設(shè)置有使基 板的內(nèi)外翻轉(zhuǎn)的翻轉(zhuǎn)部。例如，在專利文獻(xiàn)I的基板處理裝置的清洗處理區(qū)內(nèi)配置有翻轉(zhuǎn) 部。另外，在專利文獻(xiàn)2中記載有翻轉(zhuǎn)清洗單元，該翻轉(zhuǎn)清洗單元使基板翻轉(zhuǎn)并且清洗基板
的背面。另外，在專利文獻(xiàn)3、4中記載有在搬送機(jī)械手之間的中轉(zhuǎn)部上使基板的內(nèi)外翻轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)。[0004]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)[0005]專利文獻(xiàn)[0006]專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2009-146975號(hào)公報(bào)[0007]專利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)平10-321575號(hào)公報(bào)[0008]專利文獻(xiàn)3:日本特開(kāi)2009-252888號(hào)公報(bào)[0009]專利文獻(xiàn)4:日本專利第4287663號(hào)公報(bào)[0010]在搬送機(jī)械手之間的中轉(zhuǎn)部上配置有使基板的內(nèi)外翻轉(zhuǎn)的翻轉(zhuǎn)部的裝置結(jié)構(gòu)中，
一個(gè)搬送機(jī)械手將基板搬入至翻轉(zhuǎn)部，在使該基板翻轉(zhuǎn)之后，將該基板搬出至另一個(gè)搬送 機(jī)械手。即，能夠?qū)⑹够宸D(zhuǎn)的功能部用作在搬送機(jī)械手之間交接基板的交接部。根據(jù) 該結(jié)構(gòu)，例如，與在僅由一個(gè)搬送機(jī)械手能夠訪問(wèn)的位置上配置翻轉(zhuǎn)部的裝置結(jié)構(gòu)相比，能 夠減少搬送機(jī)械手的工序的數(shù)目。其結(jié)果，能夠使基板處理裝置的處理能力(through put) 提聞。
[0011]另一方面，為了抑制基板處理裝置的處理能力下降，需要盡量縮短各搬送機(jī)械手 的待機(jī)時(shí)間。例如，在搬送機(jī)械手要將基板搬入至交接部時(shí)，若交接部被基板占用，則該搬 送機(jī)械手必須等待由另一個(gè)搬送機(jī)械手從交接部搬出基板。為了盡量避免這樣的情況，優(yōu) 選在搬送機(jī)械手之間的中轉(zhuǎn)部上設(shè)置多個(gè)交接部。
[0012]但是，在基板逐漸被大型化的近幾年中，使基板翻轉(zhuǎn)所需的空間變大，伴隨于此， 翻轉(zhuǎn)部也逐漸被大型化。因此，例如，在中轉(zhuǎn)部上層疊設(shè)置了所需的個(gè)數(shù)的交接部和翻轉(zhuǎn)部 的情況下，隨著翻轉(zhuǎn)部的高度尺寸的增加，搬送機(jī)械手的手部的上下方向上的移動(dòng)距離(行 程)增加，這些直接導(dǎo)致處理能力降低。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0013]本發(fā)明是鑒于上述問(wèn)題而做出的，其目的在于，提供一種能夠提高基板處理裝置 的處理能力的技術(shù)。
[0014]第一方式的基板處理裝置，具有:處理部，其具有對(duì)基板的表面進(jìn)行清洗的表面清 洗部、對(duì)基板的背面進(jìn)行清洗的背面清洗部、第一搬送機(jī)械手，分度器部，其具有第二搬送 機(jī)械手，該分度器部將未處理的基板遞給上述處理部，并且從上述處理部接收已處理的基 板，交接單元，其配置在上述處理部和上述分度器部之間的連接部分上；上述交接單元具 有:第一支撐部，其將基板支撐為水平姿勢(shì)，第二支撐部，其在上下方向上與上述第一支撐 部隔開(kāi)間隔地配置，并將基板支撐為水平姿勢(shì)，翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其使支撐在上述第一支撐部上的 基板翻轉(zhuǎn)，并將翻轉(zhuǎn)后的基板再次支撐在上述第一支撐部上；支撐于上述第二支撐部上的 基板的一部分，配置在由上述翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)翻轉(zhuǎn)的基板的翻轉(zhuǎn)區(qū)域內(nèi)。
[0015]第二方式為第一方式的基板處理裝置，將未處理的基板從上述第二搬送機(jī)械手向 上述第一搬送機(jī)械手的交接，是利用上述第一支撐部和上述第二支撐部中的一個(gè)支撐部來(lái) 進(jìn)行的。
[0016]第三方式為第二方式的基板處理裝置，將未處理的基板從上述第二搬送機(jī)械手交 接給上述第一搬送機(jī)械手的交接路徑，是根據(jù)針對(duì)每個(gè)基板組分別設(shè)定的方案(recipe)， 來(lái)在經(jīng)由上述第一支撐部的交接路徑和經(jīng)由上述第二支撐部的交接路徑之間擇一性地進(jìn) 行切換的。
[0017]第四方式為第一方式至第三方式中任一方式的基板處理裝置，上述第二支撐部配 置在上述第一支撐部的上側(cè)。
[0018]第五方式為第二方式至第四方式中任一方式的基板處理裝置，上述交接單元還具 有第三支撐部，該第三支撐部配置在上述第二支撐部的上側(cè)，并且將基板支撐為水平姿勢(shì)； 將已處理的基板從上述第一搬送機(jī)械手向上述第二搬送機(jī)械手的交接，是經(jīng)由上述第三支 撐部來(lái)進(jìn)行的。
[0019]第六方式為第一方式至第五方式中任一方式的基板處理裝置，該基板處理裝置具 有多個(gè)上述第一支撐部；上述翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使支撐在多個(gè)上述第一支撐部上的多個(gè)基板一并翻 轉(zhuǎn)。
[0020]根據(jù)第一方式，交接單元具有沿著上下方向隔開(kāi)間隔配置的第一支撐部和第二支 撐部，因此能夠通過(guò)第一支撐部和第二支撐部中的至少一個(gè)支撐部，來(lái)在第一搬送機(jī)械手 和第二搬送機(jī)械手之間交接基板，尤其在經(jīng)由第一支撐部的情況下，能夠在使基板翻轉(zhuǎn)后 交接基板。這里，第二支撐部在利用翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使基板翻轉(zhuǎn)的翻轉(zhuǎn)區(qū)域內(nèi)支撐基板，因此能夠 將交接單元的高度尺寸抑制得小。由此，能夠縮短第一搬送機(jī)械手及第二搬送機(jī)械手的上 下方向上的移動(dòng)距離，從而能夠使處理能力提高。
[0021]根據(jù)第二方式，利用第一支撐部和第二支撐部中的一個(gè)支撐部，來(lái)交接未處理基 板。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，不會(huì)產(chǎn)生將第一支撐部和第二支撐部同時(shí)用于交接未處理基板的狀況，因 此能夠可靠地避免支撐在第二支撐部上的基板和進(jìn)行翻轉(zhuǎn)的基板發(fā)生干涉。
[0022]根據(jù)第三方式，將未處理基板從第二搬送機(jī)械手交接給第一搬送機(jī)械手的交接路 徑，是根據(jù)針對(duì)每個(gè)基板組分別設(shè)定的方案，來(lái)在經(jīng)由第一支撐部的交接路徑和經(jīng)由第二 支撐部的交接路徑之間擇一性地進(jìn)行切換的。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，例如根據(jù)方案來(lái)選擇僅對(duì)表面進(jìn)行的處理或?qū)擅孢M(jìn)行的處理，從而使裝置能夠自動(dòng)地選擇交接路徑并進(jìn)行處理。
[0023]根據(jù)第四方式，第二支撐部配置在第一支撐部的上側(cè)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，經(jīng)由第二支撐部交接的未處理基板(即，未進(jìn)行翻轉(zhuǎn)而在保持表面朝向上側(cè)的狀態(tài)下交接的未處理基板) 的經(jīng)過(guò)路徑形成在翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的上側(cè)。因此，未處理基板的表面不易被翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的顆粒等污染。
[0024]根據(jù)第五方式，將已處理基板從上述第一搬送機(jī)械手交接給上述第二搬送機(jī)械手的處理，是經(jīng)由配置在第二支撐部的上側(cè)的第三支撐部來(lái)進(jìn)行的。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，已處理基板的經(jīng)過(guò)路徑形成在未處理基板的經(jīng)過(guò)路徑的上側(cè)，因此能夠潔凈地保持已處理基板的表面。
[0025]根據(jù)第六方式，能夠使多張基板一并翻轉(zhuǎn)，因此能夠使基板處理裝置的處理能力良好。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0026]圖1是本發(fā)明的基板處理裝置的俯視圖。[0027]圖2是沿著圖1的A-A線觀察的基板處理裝置的圖。[0028]圖3是沿著圖1的B-B線觀察的基板處理裝置的圖。[0029]圖4是交接單元的側(cè)視圖。[0030]圖5是沿著圖4的C-C線觀察的交接單元的俯視圖。[0031]圖6是沿著圖5的D-D線觀察的交接單元的側(cè)剖視圖。[0032]圖7是沿著圖5的E-E線觀察的交接單元的側(cè)剖視圖。[0033]圖8是示出了翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的重要部分的局部放大圖。[0034]圖9是用于說(shuō)明基板翻轉(zhuǎn)裝置的動(dòng)作的示意圖。[0035]圖10是用于說(shuō)明基板的交接動(dòng)作的示意圖。[0036]其中，附圖標(biāo)記的說(shuō)明如下:[0037]1基板處理裝置，[0038]10分度器區(qū)，[0039]12移載機(jī)械手，[0040]20清洗處理區(qū)，[0041]22搬送機(jī)械手，[0042]30交接單元，[0043]40翻轉(zhuǎn)部，[0044]50控制部，[0045]60支撐單元，[0046]70翻轉(zhuǎn)支撐機(jī)構(gòu)，[0047]80夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，[0048]601支撐部，[0049]601a輸送支撐部，[0050]601b返送支撐部，[0051]701翻轉(zhuǎn)用支撐部，[0052]100基板翻轉(zhuǎn)裝置，
[0053]W 基板。
【具體實(shí)施方式】
[0054]下面，參照附圖，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。下面的實(shí)施方式是將本發(fā)明具體 化的一個(gè)例子，該實(shí)施方式并不限定本發(fā)明的技術(shù)的范圍。
[0055]此外，在下面的說(shuō)明中，基板的“表面”是指，在基板的主面中形成有圖案(例如，電 路圖案)的面，“背面”是指，與表面相反的一側(cè)的面。另外，基板的“上表面”是指，在基板 的主面中朝向上側(cè)的面，“下表面”是指，朝向下側(cè)的面(與表面還是背面無(wú)關(guān))。
[0056]< 1.基板處理裝置I的結(jié)構(gòu)>
[0057]參照?qǐng)D1、圖2，對(duì)實(shí)施方式的基板處理裝置I的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。圖1是基板處理 裝置I的俯視圖。圖2是沿著圖1的A-A線觀察的基板處理裝置I的圖。圖3是沿著圖1 的B-B線觀察的基板處理裝置I的圖。此外，在下面參照的各圖中，適當(dāng)?shù)貥?biāo)注有將Z軸方 向作為鉛直方向并且將XY平面作為水平面的XYZ垂直坐標(biāo)系。
[0058]基板處理裝置I是連續(xù)地對(duì)多張半導(dǎo)體晶體等基板W進(jìn)行清洗處理的清洗裝置， 排列設(shè)置有分度器區(qū)10及清洗處理區(qū)20這兩個(gè)單元(處理部)。另外，基板處理裝置I具 有設(shè)置于分度器區(qū)10和清洗處理區(qū)20之間的各部(交接單元30及翻轉(zhuǎn)部40)。而且，基板 處理裝置I具有控制部50，該控制部50通過(guò)對(duì)設(shè)置于分度器區(qū)10及清洗處理區(qū)20上的各 動(dòng)作機(jī)構(gòu)進(jìn)行控制來(lái)執(zhí)行對(duì)基板W的清洗處理。
[0059]<分度器區(qū)10 >
[0060]分度器區(qū)10將從裝置外接收的基板W (未處理基板W)遞給清洗處理區(qū)20，并且 將從清洗處理區(qū)20接收的基板W (已處理基板W)搬出至裝置外。分度器區(qū)10具有:多個(gè) (在本實(shí)施方式中為四個(gè))搬送器載置臺(tái)11，用于載置搬送器C ;移載機(jī)械手12，從各搬送器 C取出未處理基板W，并且將已處理基板W容置到各搬送器C中。
[0061]利用AGV (Automated Guided Vehicle:自動(dòng)導(dǎo)向搬送車)等來(lái)從裝置外部搬入容 置有未處理基板W的搬送器C，并將該搬送器C載置到各搬送器載置臺(tái)11上。另外，將裝置 內(nèi)的清洗處理結(jié)束的基板W再次容納到載置在搬送器載置臺(tái)11上的搬送器C中。利用AGV 等將容納有已處理基板W的搬送器C搬出至裝置外部。即，搬送器載置臺(tái)11發(fā)揮匯集未處 理基板W及已處理基板W的基板匯集部的功能。此外，作為搬送器C的形式，除了將基板W 容置到密閉空間中的FOUP (front opening unified pod:前開(kāi)式標(biāo)準(zhǔn)晶圓盒)之外,還可 以是SMIF (Standard Mechanical Inter Face:標(biāo)準(zhǔn)機(jī)械接口)容器,或者將容置的基板W 暴露到外部空氣中的OC (open cassette:開(kāi)放式晶圓盒)。
[0062]移載機(jī)械手12具有:兩個(gè)搬送臂121a、121b ;安裝有兩個(gè)搬送臂121a、121b的臂 載直臺(tái)122 ;可動(dòng)臺(tái)123。
[0063]可動(dòng)臺(tái)123與滾珠螺桿124螺合，并且能夠在兩條導(dǎo)軌125上自由滑動(dòng)，其中，滾 珠螺桿124沿著與搬送器載置臺(tái)11的排列方向平行的方向(沿著Y軸方向)延伸。因此，當(dāng) 通過(guò)省略圖示的旋轉(zhuǎn)馬達(dá)使?jié)L珠螺桿124旋轉(zhuǎn)時(shí),包括可動(dòng)臺(tái)123在內(nèi)的整個(gè)移載機(jī)械手 12沿著Y軸方向進(jìn)行水平移動(dòng)。
[0064]臂載置臺(tái)122安裝在可動(dòng)臺(tái)123上。在可動(dòng)臺(tái)123中內(nèi)置有:使臂載置臺(tái)122圍繞沿著鉛直方向(Z軸方向)的軸心旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的馬達(dá)；以及使臂載置臺(tái)122沿著鉛直方向進(jìn) 行升降移動(dòng)的馬達(dá)(均省略圖示)。并且，在該臂載置臺(tái)122上沿著上下方向隔開(kāi)規(guī)定間距配 設(shè)有搬送臂121a、121b。各搬送臂121a、121b都形成為在俯視時(shí)呈叉子狀。各搬送臂121a、 121b用叉子狀部分來(lái)分別支撐一張基板W的下表面。另外，通過(guò)內(nèi)置于臂載置臺(tái)122內(nèi)的 驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(省略圖示)使多關(guān)節(jié)機(jī)構(gòu)進(jìn)行伸縮動(dòng)作，由此各搬送臂121a、121b能夠分別獨(dú)立 地沿著水平方向(臂載置臺(tái)122的旋轉(zhuǎn)半徑方向)進(jìn)行進(jìn)退移動(dòng)。
[0065]通過(guò)這樣的結(jié)構(gòu)，各搬送臂121a、121b能夠進(jìn)行沿著Y軸方向的水平移動(dòng)、升降移 動(dòng)、在水平面上的旋轉(zhuǎn)動(dòng)作以及沿著旋轉(zhuǎn)半徑方向的進(jìn)退移動(dòng)。并且，移載機(jī)械手12通過(guò) 使利用叉子狀部分支撐基板W的各搬送臂121a、121b訪問(wèn)各部(具體地講，載置于搬送器載 置臺(tái)11上的搬送器C以及交接單元30這些各部)，來(lái)在該各部之間搬送基板W。
[0066]<清洗處理區(qū)20 >
[0067]清洗處理區(qū)20用于對(duì)基板W進(jìn)行刷洗式清洗處理，該清洗處理區(qū)20具有:兩個(gè)清 洗處理單元2la、2Ib ;搬送機(jī)械手22，用于與各清洗處理單元2la、2Ib交接基板W。
[0068]兩個(gè)清洗處理單元21a、21b以?shī)A著搬送機(jī)械手22的方式相向配置。在兩個(gè)清洗 處理單元21a、21b中，搬送機(jī)械手22的-Y側(cè)的清洗處理單元21b通過(guò)沿著鉛直方向?qū)盈B 配置一個(gè)以上(在本實(shí)施方式中為四個(gè))的表面清洗處理部SS來(lái)構(gòu)成。另一方面，另一側(cè)的 清洗處理單元21a (S卩，搬送機(jī)械手22的+Y側(cè)的清洗處理單元21a)通過(guò)沿著鉛直方向?qū)?疊配置一個(gè)以上(在本實(shí)施方式中為四個(gè))的背面清洗處理部SSR來(lái)構(gòu)成。
[0069]表面清洗處理部SS對(duì)基板W的表面進(jìn)行清洗處理。具體地講，表面清洗處理部SS 例如包括以下的構(gòu)件等，即:旋轉(zhuǎn)卡盤201，以水平姿勢(shì)保持表面朝向上側(cè)的基板W，并使基 板W圍繞沿著鉛直方向的軸心旋轉(zhuǎn)；清洗刷202，通過(guò)與保持在旋轉(zhuǎn)卡盤201上的基板W的 表面抵接或接近來(lái)進(jìn)行刷洗式清洗；噴嘴203，向基板W的表面噴出清洗液(例如純水)；旋 轉(zhuǎn)馬達(dá)204，使旋轉(zhuǎn)卡盤201旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)；罩(省略圖示)，包圍保持在旋轉(zhuǎn)卡盤201上的基板W 的周圍。
[0070]背面清洗處理部SSR對(duì)基板W的背面進(jìn)行刷洗式清洗處理。具體地講，背面清洗處 理部SSR例如包括以下的構(gòu)件等，即:旋轉(zhuǎn)卡盤211，以水平姿勢(shì)保持背面朝向上側(cè)的基板 W，并使基板W圍繞沿著鉛直方向的軸心旋轉(zhuǎn)；清洗刷212，通過(guò)與保持在旋轉(zhuǎn)卡盤211上的 基板W的背面抵接或者接近來(lái)進(jìn)行刷洗式清洗；噴嘴213，向基板W的背面噴出清洗液(例 如純水);旋轉(zhuǎn)馬達(dá)214，使旋轉(zhuǎn)卡盤211旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)；罩(省略圖示)，包圍保持在旋轉(zhuǎn)卡盤211 上的基板W的周圍。此外，就進(jìn)行表面清洗的表面清洗處理部SS的旋轉(zhuǎn)卡盤201而言，由 于從基板W的背面?zhèn)缺３只錡，因此可以采用真空吸附方式，但是，就進(jìn)行背面清洗的背 面清洗處理部SSR的旋轉(zhuǎn)卡盤211而言，由于從基板W的表面?zhèn)缺３只錡，因此必須以機(jī) 械方式把持基板端緣部。
[0071]搬送機(jī)械手22具有:兩個(gè)搬送臂221a、221b ;臂載置臺(tái)222，用于安裝兩個(gè)搬送臂 221a、221b ;基臺(tái)223?；_(tái)223以固定的方式設(shè)置在清洗處理區(qū)20的機(jī)架上。因此，搬送 機(jī)械手22整體不在水平方向上移動(dòng)。
[0072]臂載置臺(tái)222安裝于基臺(tái)223上。在基臺(tái)223中內(nèi)置有:使臂載置臺(tái)222圍繞沿 著鉛直方向(Z軸方向)的軸心旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的馬達(dá)；使臂載置臺(tái)222沿著鉛直方向升降移動(dòng)的 馬達(dá)(均省略圖示)。并且，在該臂載置臺(tái)222上沿著上下方向隔開(kāi)規(guī)定間距配設(shè)有搬送臂221a、221b。各搬送臂221a、221b都形成為在俯視時(shí)呈叉子狀。各搬送臂221a、221b用叉 子狀部分來(lái)分別支撐一張基板W的下表面。另外，通過(guò)內(nèi)置于臂載置臺(tái)222內(nèi)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) (省略圖示)使多關(guān)節(jié)機(jī)構(gòu)進(jìn)行伸縮動(dòng)作，由此各搬送臂221a、221b能夠分別獨(dú)立地沿著水 平方向(臂載置臺(tái)222的旋轉(zhuǎn)半徑方向)進(jìn)行進(jìn)退移動(dòng)。
[0073]通過(guò)這樣的結(jié)構(gòu)，搬送機(jī)械手22通過(guò)使兩個(gè)搬送臂221a、221b的分別單獨(dú)地訪問(wèn) 各部(具體地講，清洗處理單元21a、21b、交接單元30、翻轉(zhuǎn)部40這些各部)，能夠在該各部 分之間交接基板W。此外，作為搬送機(jī)械手22的升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，可以采用使用了帶輪和同步 帶的傳動(dòng)帶進(jìn)給機(jī)構(gòu)等的其它機(jī)構(gòu)。
[0074]<交接單元30>
[0075]在基板處理裝置I中，與分度器區(qū)10相鄰地設(shè)置有清洗處理區(qū)20，在分度器區(qū)10 和清洗處理區(qū)20之間設(shè)置有用于隔斷環(huán)境氣體的間隔壁300。交接單元30貫通該間隔壁 300的一部分。即，交接單元30設(shè)置于分度器區(qū)10和清洗處理區(qū)20之間的連接部分，用于 在移載機(jī)械手12和搬送機(jī)械手22之間交接基板W。對(duì)于交接單元30的結(jié)構(gòu)，在后面進(jìn)行 說(shuō)明。
[0076]<翻轉(zhuǎn)部 40 >
[0077]翻轉(zhuǎn)部40貫通間隔壁300的一部分，并層疊配置于交接單元30的上側(cè)。S卩，翻轉(zhuǎn) 部40也設(shè)置于分度器區(qū)10和清洗處理區(qū)20之間的連接部分。
[0078]翻轉(zhuǎn)部40是使基板W的內(nèi)外翻轉(zhuǎn)180°的處理部。翻轉(zhuǎn)部40具有在后面說(shuō)明的 基板翻轉(zhuǎn)裝置100容置于箱狀的框體401內(nèi)的結(jié)構(gòu)。其中，僅有搬送機(jī)械手22能夠訪問(wèn)該 框體401的內(nèi)部。即，在框體401上，在分度器區(qū)10 —側(cè)的壁部未形成有開(kāi)口，而僅在清洗 處理區(qū)20 —側(cè)的壁部形成有開(kāi)口(省略圖示)，該開(kāi)口用于使搬送機(jī)械手22的搬送臂221a、 221b訪問(wèn)框體401的內(nèi)部。
[0079]<控制部 50 >
[0080]控制部50用于對(duì)設(shè)置在基板處理裝置I上的各種動(dòng)作機(jī)構(gòu)進(jìn)行控制。控制部50 的硬件結(jié)構(gòu)與通常的計(jì)算機(jī)相同。即，控制部50具有:進(jìn)行各種運(yùn)算處理的CPU ;用于存儲(chǔ) 基本程序的讀取專用的存儲(chǔ)器即ROM ;用于存儲(chǔ)各種信息的能夠自由讀寫(xiě)的存儲(chǔ)器即RAM ； 用于存儲(chǔ)控制用軟件或數(shù)據(jù)等的磁盤。
[0081]<2.交接單元30 >
[0082]< 2-1.結(jié)構(gòu) >
[0083]參照?qǐng)D4至圖8，對(duì)交接單元30的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。圖4是交接單元30的側(cè)視圖。 圖5是沿著圖4的C-C線觀察的交接單元30的俯視圖。圖6是沿著圖5的D-D線觀察的 交接單元30的側(cè)剖視圖。圖7是沿著圖5的E-E線觀察的交接單元30的側(cè)剖視圖。圖8 是示出了夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80的重要部分的局部擴(kuò)大圖。此外，在圖4至圖7的各圖中，為了 便于說(shuō)明，示出了在所有支撐部601和所有翻轉(zhuǎn)用支撐部701上分別支撐有基板W的情況， 但是如在后面明確說(shuō)明的那樣，在本實(shí)施方式的基板處理裝置I中，在進(jìn)行動(dòng)作時(shí)，不會(huì)在 輸送支撐部601a和翻轉(zhuǎn)用支撐部701上同時(shí)支撐基板W。
[0084]如上所述，交接單元30設(shè)置于分度器區(qū)10和清洗處理區(qū)20之間的連接部分，用 于在移載機(jī)械手12和搬送機(jī)械手22之間交接基板W。具體地講，交接單元30主要具有支 撐單元60、翻轉(zhuǎn)支撐機(jī)構(gòu)70及夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80，這些各部60、70、80配置于框體301內(nèi)，其中，支撐單元60具有以水平姿勢(shì)支撐基板W的多個(gè)(在本實(shí)施方式中，是六個(gè))支撐部601， 翻轉(zhuǎn)支撐機(jī)構(gòu)70具有多個(gè)(在本實(shí)施方式中，是兩個(gè))翻轉(zhuǎn)用支撐部701，這些翻轉(zhuǎn)用支撐 部701配置于支撐單元60的下側(cè)，并且以水平姿勢(shì)支撐基板W，夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80使被翻轉(zhuǎn) 用支撐部701支撐的基板W翻轉(zhuǎn)，并且將翻轉(zhuǎn)后的基板W再次支撐到翻轉(zhuǎn)用支撐部701上。 翻轉(zhuǎn)支撐機(jī)構(gòu)70和夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80構(gòu)成使基板W翻轉(zhuǎn)的基板翻轉(zhuǎn)裝置100。S卩，在框體 301內(nèi)，支撐單元60和基板翻轉(zhuǎn)裝置100以沿著上下方向排列的狀態(tài)配置。該基板翻轉(zhuǎn)裝 置100發(fā)揮使基板W翻轉(zhuǎn)的翻轉(zhuǎn)部的功能，并且發(fā)揮在移載機(jī)械手12和搬送機(jī)械手22之 間交接基板W的交接部的功能。
[0085]移載機(jī)械手12和搬送機(jī)械手22這兩者能夠訪問(wèn)框體301的內(nèi)部。即，在框體301 的壁部中，清洗處理區(qū)20 —側(cè)(+X側(cè))的壁部形成有開(kāi)口 302，該開(kāi)口 302用于使搬送機(jī)械 手22的搬送臂221a、221b訪問(wèn)框體301的內(nèi)部。另外，在框體301的壁部中的分度器區(qū) 10—側(cè)(-X側(cè))的壁部形成有開(kāi)口 303，該開(kāi)口 303用于使移載機(jī)械手12的搬送臂121a、 121b訪問(wèn)框體301的內(nèi)部。此外，在下面的說(shuō)明中，將形成有用于使搬送機(jī)械手22的搬送 臂221a、221b訪問(wèn)的開(kāi)口 302的一側(cè)(+X側(cè))稱為“前側(cè)”，將形成有用于使移載機(jī)械手12 的搬送臂121a、121b訪問(wèn)的開(kāi)口 303的一側(cè)(-X側(cè))稱為“后側(cè)”。另外，將與前后方向(X 軸方向)及上下方向(Z軸方向)垂直的方向(Y軸方向)稱為“左右方向”。
[0086]< 1.支撐單元60 >
[0087]在框體301的左右的各側(cè)壁部分別配設(shè)有靠近各側(cè)壁部的兩個(gè)支撐柱61。各支 撐柱61例如借助連接棒62固定在自身附近的側(cè)壁部，具有與該側(cè)壁部平行地沿著上下方 向延伸的姿勢(shì)。固定在同一側(cè)的側(cè)壁部的兩個(gè)支撐柱61彼此的延伸方向平行，并且這兩個(gè) 支撐柱61在前后方向上隔開(kāi)間隔。另外，在左右側(cè)的各側(cè)壁部上，相對(duì)設(shè)置于前側(cè)的支撐 柱61彼此在沿著上下方向觀察時(shí)在左右方向上相向；相對(duì)設(shè)置于后側(cè)的支撐柱61彼此在 沿著上下方向觀察時(shí)在左右方向上相向。
[0088]在各支撐柱61上沿著上下方向以等間隔排列設(shè)置有多個(gè)(在本實(shí)施方式中，是六 個(gè))支撐構(gòu)件63。各支撐構(gòu)件63是被支撐柱61以被支撐一端的狀態(tài)支撐的長(zhǎng)板狀的構(gòu)件， 并且各支撐構(gòu)件63從設(shè)置在支撐柱61上的固定端起在水平面上沿著左右方向延伸至自由 端。支撐構(gòu)件63的上表面形成為在延伸途中具有傾斜面的階梯形狀，在自由端一側(cè)形成有 比固定端一側(cè)相對(duì)低的大致的水平面。自由端一側(cè)的水平面構(gòu)成與基板W的下表面相抵接 的抵接面，如在后面明確說(shuō)明的那樣，配置于同一水平面上的四個(gè)支撐構(gòu)件63的各抵接面 與基板W的下表面?zhèn)认嗟纸?，由此以水平姿?shì)被支撐該基板W。此外，抵接面不需要一定是 水平面，也可以是以越接近支撐構(gòu)件63的前端則變得越低的方式稍微傾斜的面。在支撐構(gòu) 件63中，與抵接面連接的傾斜面發(fā)揮限制基板W的端緣位置的位置限制面的功能。S卩，配 置于同一水平面上的四個(gè)支撐構(gòu)件63的各傾斜面限制基板W的端緣位置，由此限制該基板 W在水平面上的位置。
[0089]在配置于框體301內(nèi)的四個(gè)支撐柱61各自的最上層上配設(shè)的支撐構(gòu)件63，彼此 配設(shè)在同一水平面上，從而構(gòu)成一個(gè)支撐構(gòu)件組。同樣地，在這四個(gè)支撐柱61的各自的第 二層至第六層上分別配設(shè)的支撐構(gòu)件63，也彼此配設(shè)在同一水平面上，從而分別構(gòu)成一個(gè) 支撐構(gòu)件組。一張基板W從下表面一側(cè)支撐在構(gòu)成一個(gè)支撐構(gòu)件組的四個(gè)支撐構(gòu)件63上, 由此以水平姿勢(shì)支撐在規(guī)定的位置上。即，一個(gè)支撐構(gòu)件組形成以水平姿勢(shì)支撐一張基板W的支撐部601。
[0090]這樣，在支撐單元60中設(shè)置有沿著上下方向隔開(kāi)間隔配設(shè)的六個(gè)支撐部601，由 此，能夠?qū)⒆疃嗔鶑埢錡，以水平姿勢(shì)并且以沿著上下方向隔開(kāi)間隔層疊的狀態(tài)支撐。
[0091]在支撐單元60上設(shè)置的六個(gè)支撐部601中，上側(cè)的三個(gè)支撐部601在將已處理基 板W從清洗處理區(qū)20遞給分度器區(qū)10時(shí)使用，下面還稱為“返送支撐部601b”。另一方面， 剩下的支撐部601 (即，下側(cè)的三個(gè)支撐部601)在將未處理基板W從分度器區(qū)10遞給清洗 處理區(qū)20時(shí)使用，下面還稱為“輸送支撐部601a”。
[0092]在此，在支撐單元60上設(shè)置的支撐部601，以與翻轉(zhuǎn)用支撐部701隔開(kāi)間隔的方式 配置于該翻轉(zhuǎn)用支撐部701的上側(cè)。在六個(gè)支撐部601中的相對(duì)配置于下側(cè)的三個(gè)支撐部 601 (即，用作輸送支撐部601a的三個(gè)支撐部601)中，就至少一個(gè)(在圖示的例子中，是三 個(gè))支撐部601而言，配置有構(gòu)成該支撐部601的四個(gè)支撐構(gòu)件63的水平面，與利用夾持翻 轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80來(lái)翻轉(zhuǎn)的基板W的翻轉(zhuǎn)區(qū)域M相交(發(fā)生干涉)。因此，這樣的支撐部601以基板 W的一部分配置于翻轉(zhuǎn)區(qū)域M內(nèi)的狀態(tài)支撐該基板W。這樣，下面將基板W支撐在與翻轉(zhuǎn)區(qū) 域M發(fā)生干涉的位置上的支撐部601，稱為“干涉支撐部”。其中，所有支撐構(gòu)件63 (例如， 即使該支撐構(gòu)件63構(gòu)成干涉支撐部)都配置于翻轉(zhuǎn)區(qū)域M的外側(cè)。
[0093]< i1.翻轉(zhuǎn)支撐機(jī)構(gòu)70 >
[0094]在框體301的左右側(cè)的側(cè)壁部中的各側(cè)壁部，分別設(shè)置有兩個(gè)傾斜軸部71，該傾 斜軸部71以能夠滑動(dòng)的方式貫通該側(cè)壁部。設(shè)置于各側(cè)壁部的兩個(gè)傾斜軸部71的各自的 延伸方向平行，并且兩個(gè)傾斜軸部71在前后方向上隔開(kāi)間隔配置。另外，在左右側(cè)的各側(cè) 壁部中，相對(duì)設(shè)置于前側(cè)的傾斜軸部71彼此在沿著上下方向觀察時(shí)在左右方向上相向，相 對(duì)設(shè)置于后側(cè)的傾斜軸部71彼此在沿著上下方向觀察時(shí)也在左右方向上相向。
[0095]在各傾斜軸部71的向框體301的內(nèi)部突出的上端部，配設(shè)有沿著上下方向延伸 的支撐柱72。另一方面，各傾斜軸部71的向框體301的外部突出的下端部與缸體73相連 接。此外，設(shè)置于同一側(cè)壁部的兩個(gè)傾斜軸部71經(jīng)由連接棒(省略圖示)與同一缸體73相 連接。即，這兩個(gè)傾斜軸部71的各下端部分別連接在沿著前后方向延伸的連接棒的前側(cè)端 部附近及后側(cè)端部附近，并且，缸體73與該連接棒相連接。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過(guò)連接棒與缸體 73相連接的兩個(gè)傾斜軸部71受到該缸體73的驅(qū)動(dòng)，從而能夠同步移動(dòng)。
[0096]在支撐柱72的上端附近及下端附近，以被支撐一端的狀態(tài)設(shè)置有支撐構(gòu)件74，該 支撐構(gòu)件74在水平面上沿著左右方向延伸。支撐構(gòu)件74能夠具有與支撐單元60所具有 的支撐構(gòu)件63同樣的結(jié)構(gòu)。如在后面明確說(shuō)明的那樣，配置于同一水平面上的四個(gè)支撐構(gòu) 件74的各抵接面與基板W的下表面一側(cè)相抵接，由此該基板W以水平姿勢(shì)被支撐。另外， 配置于相同一水平面上的四個(gè)支撐構(gòu)件74的各傾斜面限制基板W的端緣位置，由此限制該 基板W在水平面上的位置。
[0097]在配置于框體301內(nèi)的四個(gè)支撐柱72各自的上端配設(shè)的支撐構(gòu)件74，彼此配設(shè)在 同一水平面上，從而構(gòu)成一個(gè)支撐構(gòu)件組。另外，在這四個(gè)支撐柱72的各自的下端配設(shè)的 支撐構(gòu)件74，也彼此配設(shè)在同一水平面上，從而構(gòu)成一個(gè)支撐構(gòu)件組。一張基板W從下表面 一側(cè)支撐在構(gòu)成一個(gè)支撐構(gòu)件組的四個(gè)支撐構(gòu)件74上，由此以水平姿勢(shì)支撐在規(guī)定的位 置上。即，一個(gè)支撐構(gòu)件組形成以水平姿勢(shì)支撐一張基板W的支撐部(翻轉(zhuǎn)用支撐部)701。
[0098]這樣，在翻轉(zhuǎn)支撐機(jī)構(gòu)70中設(shè)置有沿著上下方向隔開(kāi)間隔配設(shè)的兩個(gè)翻轉(zhuǎn)用支撐部701，由此，能夠?qū)蓮埢錡，以水平姿勢(shì)并且以沿著上下方向隔開(kāi)間隔層疊的狀態(tài) 支撐。
[0099]在此，將沿著上下方向觀察時(shí)在左右方向上相向配置(S卩，隔著被翻轉(zhuǎn)用支撐部 701支撐的基板W的左右中心線而相向配置)的兩個(gè)傾斜軸部71作為一對(duì)傾斜軸部71。一 對(duì)傾斜軸部71分別從與支撐柱72相連接的上端部向斜下方(S卩，從在左右方向上相向配置 的另一個(gè)傾斜軸部71分離，并朝向下方)延伸至與缸體73相連接的下端部。
[0100]缸體73使各傾斜軸部71沿著該傾斜軸部71的延伸方向滑動(dòng)。即，缸體73使傾 斜軸部71沿著該傾斜軸部71的延伸方向向斜下方滑動(dòng)，從而使支撐構(gòu)件74從支撐位置Al (即，支撐構(gòu)件74的抵接面與基板W的下表面相抵接來(lái)支撐該基板W的位置)移動(dòng)至待避位 置A2(S卩，支撐構(gòu)件74的從基板W的下表面及側(cè)面分離的規(guī)定的位置)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，處于 支撐位置Al的支撐構(gòu)件74向斜下方移動(dòng)(換句話說(shuō)，一邊遠(yuǎn)離基板W的左右中心線(S卩，沿 著上下方向觀察時(shí)遠(yuǎn)離基板W的中心)，一邊向下方移動(dòng))，從而配置于待避位置A2。S卩，處 于支撐位置Al的支撐構(gòu)件74向同時(shí)與基板W的下表面和側(cè)面(更具體地講，支撐構(gòu)件74 的傾斜面相向的側(cè)面部分)這兩者遠(yuǎn)離的方向移動(dòng)，從而配置于待避位置A2。
[0101]其中，待避位置A2設(shè)定于在沿著上下方向觀察時(shí)位于基板W的周緣的外側(cè)的位 置。這樣的待避位置A2位于利用夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80翻轉(zhuǎn)的各基板W穿過(guò)的區(qū)域(翻轉(zhuǎn)區(qū)域) M的外側(cè)。因此，能夠保證配置于待避位置A2的支撐構(gòu)件74與被翻轉(zhuǎn)的基板W不發(fā)生干 涉。另外，優(yōu)選將待避位置A2設(shè)定于下側(cè)的基板W的支撐位置(在由該支撐構(gòu)件74支撐的 基板W的下側(cè)被支撐的基板W的支撐位置)的上側(cè)。
[0102]另外，缸體73使傾斜軸部71沿著該傾斜軸部71的延伸方向向斜上方滑動(dòng)，從而 使支撐構(gòu)件74從待避位置A2移動(dòng)至支撐位置Al。S卩，處于待避位置A2的支撐構(gòu)件74向 與上述路徑相反的方向移動(dòng)，從而能夠從待避位置A2移動(dòng)至支撐位置Al。
[0103]此外，使支撐構(gòu)件74移動(dòng)的方向，只要是與水平方向形成以比0大的角度傾斜的 方向即可，該角度的具體的值，例如可以基于被各翻轉(zhuǎn)用支撐部701支撐的基板W之間的上 下方向上的分離距離以及基板W的周緣和支撐構(gòu)件74與基板W相抵接的位置之間的分離 距離來(lái)規(guī)定。另外，在圖5中，各支撐構(gòu)件74具有從上下方向觀察時(shí)沿著Y軸的方向移動(dòng) 而遠(yuǎn)離基板W的中心的結(jié)構(gòu)，但是各支撐構(gòu)件74也可以具有從上下方向觀察時(shí)沿著從基板 W的中心起以放射狀延伸的軸移動(dòng)來(lái)遠(yuǎn)離基板W的中心的結(jié)構(gòu)。
[0104]< ii1.夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80 >
[0105]在框體301的左右側(cè)的側(cè)壁部分別設(shè)置有一個(gè)滑動(dòng)軸部81，該滑動(dòng)軸部81以能 夠滑動(dòng)的方式貫通該側(cè)壁部。設(shè)置于各側(cè)壁部的一個(gè)滑動(dòng)軸部81配設(shè)于配置在該側(cè)壁部 上的兩個(gè)傾斜軸部71之間。另外，設(shè)置于左右側(cè)的各側(cè)壁部的滑動(dòng)軸部81彼此在沿著上 下方向觀察時(shí)在左右方向上相向。各滑動(dòng)軸部81在水平面上沿著左右方向延伸，在向框體 301的內(nèi)部突出的一側(cè)的端部上配設(shè)有沿著上下方向延伸的支撐柱82。支撐柱82的上下 方向上的中央部分與滑動(dòng)軸部81相連接。
[0106]在支撐柱82的上端及下端，設(shè)置有在水平面上沿著左右方向延伸的夾持構(gòu)件83， 該夾持構(gòu)件83被支撐一端。具體地講，夾持構(gòu)件83具有截面為“V”字形的錐面，該錐面用 于基板W的端緣部進(jìn)入。在配設(shè)于框體301內(nèi)的兩個(gè)支撐柱的各自的上端配設(shè)的夾持構(gòu)件 83，彼此配設(shè)于同一水平面上。另外，在該兩個(gè)支撐柱的各自的下端配設(shè)的夾持構(gòu)件83，也彼此配設(shè)于同一水平面上。如在后面明確說(shuō)明的那樣，配設(shè)于同一水平面上的一對(duì)夾持構(gòu) 件83，從基板W的徑向上的兩端緣部夾持該基板W。
[0107]在此，如上所述，兩個(gè)滑動(dòng)軸部81在框體301內(nèi)在左右方向上相向配置，該兩個(gè)滑 動(dòng)軸部81分別從配設(shè)有支撐柱82的一側(cè)的端部起在水平面上沿著左右方向延伸至向框體 301的外部突出的另一端部。各滑動(dòng)軸部81的向框體301的外部突出的一側(cè)的端部與彈 性構(gòu)件84相抵接。具體地講，該彈性構(gòu)件84例如為螺旋彈簧，在縮短狀態(tài)下，彈性構(gòu)件84 的一端部與滑動(dòng)軸部81的端部相抵接，并且另一端部與后述的帶輪873 (或者底板872)相 抵接。因此，各滑動(dòng)軸部81總是受到來(lái)自該彈性構(gòu)件84的特定方向的力，上述特定方向是 指，與帶輪873 (或者底板872)分離的方向，即，與在左右方向上相向配置的另一個(gè)滑動(dòng)軸 部81接近的方向。
[0108]在該結(jié)構(gòu)中，在相同的水平面上沿著左右方向相向配置的一對(duì)夾持構(gòu)件83，總是 處于向相互接近的方向被彈性施力的狀態(tài)，一對(duì)夾持構(gòu)件83夾著基板W相向配置，各夾持 構(gòu)件83對(duì)基板W的側(cè)面彈性施力，由此以水平姿勢(shì)夾持該基板W。S卩，一張基板W從該基 板W的徑向上的兩端緣部，被沿著左右方向相向配置的一對(duì)夾持構(gòu)件83夾持，由此以水平 姿勢(shì)被夾持。其中，這里所說(shuō)的基板W的“端緣部”是指，基板W的側(cè)面及基板W的上下表 面，即與基板W的周緣相距幾毫米左右的環(huán)狀區(qū)域。
[0109]這樣，在夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80中，一對(duì)夾持構(gòu)件83形成以水平姿勢(shì)支撐一張基板W的 夾持部801，通過(guò)設(shè)置沿著上下方向隔開(kāi)間隔的兩個(gè)夾持部801，能夠?qū)蓮埢錡，以水平 姿勢(shì)并且以在上下方向上隔開(kāi)間隔層疊的狀態(tài)夾持。其中，沿著上下方向分離配設(shè)的兩個(gè) 夾持部801配置于與兩個(gè)翻轉(zhuǎn)用支撐部701相同的高度上，各夾持部801能夠夾持被各翻 轉(zhuǎn)用支撐部701支撐的基板W。
[0110]在各滑動(dòng)軸部81的向框體301的外部突出的一側(cè)的端部，形成有從滑動(dòng)軸部81 的外周面起突出為凸緣狀的突出部811。該突出部811的前端的至少一部分插入于流槽狀 部85的槽內(nèi)部。流槽狀部85的上方形成有開(kāi)口，流槽狀部85形成沿著前后方向延伸的槽， 并且槽的寬度比突出部811的寬度寬。另外，槽的前后側(cè)的端部也具有開(kāi)口。該流槽狀部 85經(jīng)由支撐部851固定于缸體86的桿部。其中，缸體86的桿部以在水平面上沿著左右方 向延伸的方式配置。此外，突出部811例如在沿著左右方向觀察時(shí)呈半圓形狀，即使在滑動(dòng) 軸部81以旋轉(zhuǎn)軸L為中心旋轉(zhuǎn)180°之后，突出部811的前端的至少一部分也處于插入于 流槽狀部85的槽內(nèi)部的狀態(tài)。
[0111]缸體86使流槽狀部85沿著移動(dòng)軸在規(guī)定的移動(dòng)范圍內(nèi)進(jìn)行往復(fù)移動(dòng)，其中，移動(dòng) 軸是在水平面上沿著左右方向延伸的軸。下面，將流槽狀部85的移動(dòng)范圍內(nèi)的基板W—側(cè) 的端部位置稱為“閉側(cè)端部位置Cl”，將另一個(gè)端部位置稱為“開(kāi)側(cè)端部位置C2”。
[0112]當(dāng)缸體86使處于閉側(cè)端部位置Cl的流槽狀部85向與基板W分離的方向移動(dòng)時(shí)， 成為突出部811卡在流槽狀部85的狀態(tài)，滑動(dòng)軸部81與流槽狀部85 —起向與基板W分離 的方向滑動(dòng)。由此，對(duì)基板W的側(cè)面彈性施力的夾持構(gòu)件(S卩，處于夾持位置BI的夾持構(gòu)件) 83，與基板W的側(cè)面分離而在水平面上向與基板W的左右中心線遠(yuǎn)離的方向(即，離開(kāi)基板 W的中心的方向)移動(dòng)，從而配置于從基板W的側(cè)面分離的分離位置B2。S卩，缸體86使流槽 狀部85從閉側(cè)端部位置Cl移動(dòng)至開(kāi)側(cè)端部位置C2,由此夾持構(gòu)件83從夾持位置BI移動(dòng) 至分離位置B2。[0113]另一方面，當(dāng)缸體86使處于開(kāi)側(cè)端部位置C2的流槽狀部85向接近基板W的方向 移動(dòng)時(shí)，滑動(dòng)軸部81與流槽狀部85 —起向接近基板W的方向滑動(dòng)。由此，處于分離位置B2 的夾持構(gòu)件83在水平面上向與基板W的左右中心線接近的方向(即，與基板W的中心接近 的方向)移動(dòng)。在此，在缸體86使流槽狀部85移動(dòng)至閉側(cè)端部位置Cl的狀態(tài)下，突出部 811處于與流槽狀部85的槽側(cè)壁部分離的狀態(tài)(優(yōu)選地，處于配置于流槽狀部85的槽的大 致中心的狀態(tài))，即，處于不受來(lái)自流槽狀部85的力的狀態(tài)。因此，在流槽狀部85配置于閉 側(cè)端部位置Cl的狀態(tài)下，滑動(dòng)軸部81處于如下的狀態(tài)，即，夾持構(gòu)件83配置在借助彈性構(gòu) 件84來(lái)以所希望的壓力對(duì)基板W的側(cè)面彈性施力的位置(即，夾持位置)BI。
[0114]S卩，在缸體86使流槽狀部85從開(kāi)側(cè)端部位置C2移動(dòng)至閉側(cè)端部位置Cl的期間， 夾持構(gòu)件83 —邊受到來(lái)自彈性構(gòu)件84的彈性作用力一邊在被缸體86支撐的狀態(tài)下靠近 基板W至中途為止，從中途起則受到來(lái)自彈性構(gòu)件84的彈性作用力而移動(dòng)至最終的夾持位 置BI。更具體地講，夾持構(gòu)件83受到缸體86的驅(qū)動(dòng)力而從分離位置B2移動(dòng)至接近位置 (即，夾持構(gòu)件83與基板W的側(cè)面接近或者抵接的規(guī)定的位置)，此后，不受到缸體86的驅(qū) 動(dòng)力而僅借助來(lái)自彈性構(gòu)件84的彈性作用力來(lái)再?gòu)慕咏恢靡苿?dòng)至夾持位置BI，從而以 所希望的壓力對(duì)基板W的側(cè)面彈性施力。如上所述，一對(duì)夾持構(gòu)件83分別配置于夾持位置 BI，由此，一對(duì)夾持構(gòu)件83從基板W的沿著徑向的兩端緣部夾持該基板W。
[0115]根據(jù)該結(jié)構(gòu)，各夾持構(gòu)件83以必要且充分的力對(duì)基板W彈性施力，因此能夠通過(guò) 夾持部801在不損傷基板W的情況下可靠地夾持基板W。例如，若不設(shè)置彈性構(gòu)件而僅通過(guò) 缸體的驅(qū)動(dòng)來(lái)將基板W夾持在各夾持構(gòu)件上，則夾持構(gòu)件的停止位置會(huì)被唯一固定。因此， 在基板W的位置、尺寸相對(duì)于所希望的位置、尺寸存在細(xì)微的偏差的情況等下，可能產(chǎn)生如 下的情況，即，因各夾持構(gòu)件過(guò)度靠近基板W的側(cè)面而導(dǎo)致基板W損壞，或者因各夾持構(gòu)件 配置于離基板W的側(cè)面過(guò)遠(yuǎn)的位置而導(dǎo)致基板W落下等，但是，根據(jù)上述的機(jī)構(gòu)，難以產(chǎn)生 上述的情況。
[0116]在此，在夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80上設(shè)置有開(kāi)閉檢測(cè)部800，該開(kāi)閉檢測(cè)部800用于檢測(cè)一 對(duì)夾持構(gòu)件83的位置狀態(tài)。開(kāi)閉檢測(cè)部800例如由一對(duì)光學(xué)式傳感器810、820構(gòu)成，一個(gè) 傳感器(閉側(cè)傳感器)810配置于閉側(cè)端部位置Cl的附近，用于對(duì)插入到配置于閉側(cè)端部位 置Cl的流槽狀部85的槽內(nèi)部中的突出部811進(jìn)行檢測(cè)。另一個(gè)傳感器(開(kāi)側(cè)傳感器)820 配置于開(kāi)側(cè)端部位置C2的附近，用于對(duì)插入到配置于開(kāi)側(cè)端部位置C2的流槽狀部85的槽 內(nèi)部中的突出部811進(jìn)行檢測(cè)。此外，如上所述，流槽狀部85的槽的寬度比突出部811的 寬度寬，突出部811能夠位于該槽的寬度內(nèi)的任意的位置。因此，優(yōu)選地，各傳感器810、820 在左右方向上具有與流槽狀部85的槽寬度相對(duì)應(yīng)的檢測(cè)范圍。
[0117]根據(jù)該結(jié)構(gòu)，當(dāng)流槽狀部85移動(dòng)至閉側(cè)端部位置Cl時(shí)，閉側(cè)傳感器810能夠檢測(cè) 出突出部811。即，在閉側(cè)傳感器810檢測(cè)出突出部811的情況下，能夠判斷為各夾持構(gòu)件 83配置于靠近位置而且通過(guò)彈性構(gòu)件84配置于夾持位置BI。另一方面，當(dāng)流槽狀部85移 動(dòng)至開(kāi)側(cè)端部位置C2時(shí)，開(kāi)側(cè)傳感器820能夠檢測(cè)出突出部811。即，在開(kāi)側(cè)傳感器820檢 測(cè)出突出部811的情況下，能夠判斷為各夾持構(gòu)件83配置于分離位置B2。通過(guò)開(kāi)閉檢測(cè)部 800檢測(cè)一對(duì)夾持構(gòu)件83是否夾持有基板W，由此能夠在基板翻轉(zhuǎn)裝置100中使多個(gè)基板 W安全地翻轉(zhuǎn)。
[0118]一對(duì)滑動(dòng)軸部81分別在插通空心的旋轉(zhuǎn)軸部87的內(nèi)部的狀態(tài)下貫通框體301的各側(cè)壁部。S卩，在框體301的左右的側(cè)壁部分別以貫通的方式設(shè)置有一個(gè)旋轉(zhuǎn)軸部87，并 且該旋轉(zhuǎn)軸部87能夠旋轉(zhuǎn)，滑動(dòng)軸部81以能夠滑動(dòng)的方式插通該旋轉(zhuǎn)軸部87的內(nèi)部。其 中，如上所述，在滑動(dòng)軸部81的端部形成有突出部811，在旋轉(zhuǎn)軸部87上形成有使該突出部 811插通的插通開(kāi)口 871。該插通開(kāi)口 871形成為在左右方向上具有足夠的長(zhǎng)度的形狀，以 不妨礙與滑動(dòng)軸部81的滑動(dòng)相伴的突出部811在左右方向上的移動(dòng)。
[0119]就旋轉(zhuǎn)軸部87和插入在旋轉(zhuǎn)軸部87的內(nèi)部的滑動(dòng)軸部81而言，例如通過(guò)使突出 部811的端面(滑動(dòng)軸部81的周向上的端面)卡在插通開(kāi)口 871的端面(旋轉(zhuǎn)軸部87的周 向上的端面)，使滑動(dòng)軸部81不能在旋轉(zhuǎn)軸部87的內(nèi)部以軸線(沿著延伸方向的中心線)為 中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。因此，當(dāng)旋轉(zhuǎn)軸部87以其軸線(旋轉(zhuǎn)軸L)為中心旋轉(zhuǎn)時(shí)，滑動(dòng)軸部81也與 旋轉(zhuǎn)軸部87 —起以旋轉(zhuǎn)軸L為中心旋轉(zhuǎn)。
[0120]在此，沿著上下方向觀察時(shí)在左右方向上相向配置的一對(duì)旋轉(zhuǎn)軸部87分別在水 平面上沿著左右方向延伸，一端向框體301的內(nèi)部突出，而另一端向框體301的外部突出。 一對(duì)旋轉(zhuǎn)軸部87的向框體301的內(nèi)部突出的一側(cè)的端部，通過(guò)一對(duì)輔助桿88與另一個(gè)旋 轉(zhuǎn)軸部87相連接。一對(duì)輔助桿88分開(kāi)配置于被翻轉(zhuǎn)支撐機(jī)構(gòu)70支撐的兩張基板W的上 側(cè)和下側(cè)，各輔助桿88在水平面上沿著左右方向延伸配置。
[0121]在一對(duì)旋轉(zhuǎn)軸部87中，在一個(gè)旋轉(zhuǎn)軸部(在圖的例子中，+Y側(cè)的旋轉(zhuǎn)軸部)87a的 向框體301的外部突出的一側(cè)的端部上，設(shè)置有使旋轉(zhuǎn)軸部87a的空心部堵塞的底板872。 如上所述，在插通旋轉(zhuǎn)軸部87a的空心部的滑動(dòng)軸部81和使該空心部封閉的底板872之 間，配設(shè)有彈性構(gòu)件84。
[0122]在一對(duì)旋轉(zhuǎn)軸部87中，在另一個(gè)旋轉(zhuǎn)軸部(在圖的例子中，-Y側(cè)的旋轉(zhuǎn)軸部)87b 的向框體301的外部突出的一側(cè)的端部上，以堵塞旋轉(zhuǎn)軸部87b的空心部的方式設(shè)置有帶 輪873。如上所述，在插通旋轉(zhuǎn)軸部87b的空心部的滑動(dòng)軸部81和封閉該空心部的帶輪873 之間，配設(shè)有彈性構(gòu)件84。
[0123]帶輪873配設(shè)為其旋轉(zhuǎn)中心與旋轉(zhuǎn)軸部87的旋轉(zhuǎn)軸L 一致。另外，在帶輪873的 附近配設(shè)有馬達(dá)89，在帶輪873和馬達(dá)89之間卷繞有傳動(dòng)帶891，該傳動(dòng)帶891將馬達(dá)89 的驅(qū)動(dòng)力傳遞至帶輪873。在該結(jié)構(gòu)中，當(dāng)馬達(dá)89旋轉(zhuǎn)時(shí)，該旋轉(zhuǎn)力經(jīng)由傳動(dòng)帶891傳遞至 帶輪873，從而使帶輪873旋轉(zhuǎn)，由此，旋轉(zhuǎn)軸部87b以其軸線(旋轉(zhuǎn)軸)L為中心旋轉(zhuǎn)。
[0124]如上所述，一對(duì)旋轉(zhuǎn)軸部87a、87b經(jīng)由一對(duì)輔助桿88相互連接在一起。因此，當(dāng) 一個(gè)旋轉(zhuǎn)軸部87b以旋轉(zhuǎn)軸L為中心旋轉(zhuǎn)時(shí)，另一個(gè)旋轉(zhuǎn)軸部87a也同步地以其軸線(旋轉(zhuǎn) 軸)L為中心旋轉(zhuǎn)。即，與一個(gè)旋轉(zhuǎn)軸部87b相連接的馬達(dá)89的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)力也會(huì)傳遞至另 一個(gè)旋轉(zhuǎn)軸部87a。
[0125]在此，如上所述，各滑動(dòng)軸部81在旋轉(zhuǎn)軸部87a、87b的內(nèi)部不能旋轉(zhuǎn)。因此，當(dāng)旋 轉(zhuǎn)軸部87a、87b以旋轉(zhuǎn)軸L為中心旋轉(zhuǎn)180°時(shí)，各滑動(dòng)軸部81也以旋轉(zhuǎn)軸L為中心旋轉(zhuǎn) 180°。結(jié)果，與各滑動(dòng)軸部81相連接的支撐柱82在鉛直面上，以支撐柱82與滑動(dòng)軸部81 的連接部(即，支撐柱82的延伸方向上的中央部)為中心旋轉(zhuǎn)180°。由此，由配設(shè)在各支 撐柱82上的各夾持構(gòu)件83夾持的兩張基板W翻轉(zhuǎn)180°。這樣，在夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80中，能 夠使被兩個(gè)夾持部801夾持的兩張基板W—并翻轉(zhuǎn)，其中，兩個(gè)夾持部801在上下方向上隔 開(kāi)間隔配設(shè)。
[0126]< 2-2.基板翻轉(zhuǎn)裝置100的動(dòng)作>[0127]如上所述，翻轉(zhuǎn)支撐機(jī)構(gòu)70和夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80構(gòu)成使多個(gè)基板W —并翻轉(zhuǎn)的基 板翻轉(zhuǎn)裝置100。除了圖4至圖8之外，還參照?qǐng)D9，對(duì)該基板翻轉(zhuǎn)裝置100的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō) 明。圖9是用于說(shuō)明基板翻轉(zhuǎn)裝置100的動(dòng)作的示意圖。此外，通過(guò)由控制部50控制基板 翻轉(zhuǎn)裝置100所具有的各部70、80，來(lái)執(zhí)行基板翻轉(zhuǎn)裝置100的動(dòng)作。此外，也可以是如下 的結(jié)構(gòu):與基板處理裝置I的控制部50獨(dú)立地另行設(shè)置用于對(duì)控制基板翻轉(zhuǎn)裝置100所 具有的各部70、80進(jìn)行控制的控制部，并且由基板處理裝置I的控制部50統(tǒng)一控制該控制 部。
[0128]此外，下面，說(shuō)明由設(shè)置在交接單元30上的基板翻轉(zhuǎn)裝置100使從移載機(jī)械手12 接收的基板W翻轉(zhuǎn)并將翻轉(zhuǎn)后的基板W遞給搬送機(jī)械手22的動(dòng)作，但是以下動(dòng)作也與下面 說(shuō)明的動(dòng)作相同，這些動(dòng)作是指，由該基板翻轉(zhuǎn)裝置100使從搬送機(jī)械手22接收的基板W 翻轉(zhuǎn)后將翻轉(zhuǎn)后的基板W遞給移載機(jī)械手12的情況的動(dòng)作、由設(shè)置在翻轉(zhuǎn)部40上的基板 翻轉(zhuǎn)裝置100使從搬送機(jī)械手22接收的基板W翻轉(zhuǎn)并將翻轉(zhuǎn)后的基板W再次遞給搬送機(jī) 械手22的情況的動(dòng)作。
[0129]在所有支撐構(gòu)件74配置在支撐位置Al并且所有夾持構(gòu)件83配置在分離位置B2 的狀態(tài)下，移載機(jī)械手12使分別支撐有一張基板W的兩個(gè)搬送臂121a、121b經(jīng)由開(kāi)口 303 進(jìn)入框體301的內(nèi)部，將支撐在上側(cè)的搬送臂121a上的基板W支撐到上側(cè)的支撐部701上， 并且將支撐在下側(cè)的搬送臂121b上的基板W支撐到下側(cè)的支撐部701上。在基板W支撐 在各支撐部701上時(shí)，移載機(jī)械手12將各搬送臂121a、121b經(jīng)由開(kāi)口 303從框體301的內(nèi) 部抽出。由此，從移載機(jī)械手12將兩張基板W交接給支撐機(jī)構(gòu)70，兩張基板W以水平姿勢(shì) 并且以沿著上下方向隔開(kāi)間隔層疊的狀態(tài)支撐在兩個(gè)支撐部701上(圖9的上部所示的狀 態(tài))。
[0130]當(dāng)所有支撐構(gòu)件74從待避位置A2移動(dòng)至支撐位置Al時(shí)，接著，缸體86使流槽狀 部85從開(kāi)側(cè)端部位置C2移動(dòng)至閉側(cè)端部位置Cl。于是，夾持構(gòu)件83以一邊受到來(lái)自彈性 構(gòu)件84的彈性作用力一邊在被缸體86支撐的狀態(tài)下靠近基板W至中途為止，從中途開(kāi)始 受到來(lái)自彈性構(gòu)件84的彈性作用力而移動(dòng)至夾持位置BI。通過(guò)將一對(duì)夾持構(gòu)件83分別配 置在夾持位置BI，來(lái)使基板W處于從基板W的沿著徑向的兩端緣部夾持在該一對(duì)夾持構(gòu)件 83上的狀態(tài)。即，支撐在各翻轉(zhuǎn)用支撐部701上的基板W，支撐在翻轉(zhuǎn)用支撐部701上的同 時(shí)，也夾持在夾持部801上(圖9的中部所示的狀態(tài))。
[0131]當(dāng)開(kāi)閉檢測(cè)部800檢測(cè)出關(guān)閉狀態(tài)時(shí)，接著，通過(guò)缸體73的驅(qū)動(dòng)，所有支撐構(gòu)件74 從支撐位置Al同步移動(dòng)至待避位置A2。由此，各支撐構(gòu)件74配置于基板W的翻轉(zhuǎn)區(qū)域M 的外側(cè)，兩張基板W以水平姿勢(shì)并且以在上下方向上隔開(kāi)間隔層疊的狀態(tài)下夾持在兩個(gè)夾 持部801上(圖9的下部所示的狀態(tài))。其中，如上所述，缸體73通過(guò)使各支撐構(gòu)件74向斜 下方移動(dòng)來(lái)使各支撐構(gòu)件74從支撐位置Al移動(dòng)至待避位置A2。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，支撐構(gòu)件74 向與基板W的側(cè)面和下表面這雙方同時(shí)遠(yuǎn)離的方向移動(dòng)。例如，在支撐構(gòu)件僅向與側(cè)面遠(yuǎn) 離的方向移動(dòng)的情況下，在支撐位置Al上與基板W的下表面相抵接的支撐構(gòu)件在與基板W 接觸的狀態(tài)下移動(dòng)，從而可能損傷基板W的下表面。另一方面，在支撐構(gòu)件僅向與下表面遠(yuǎn) 離的方向移動(dòng)的情況下，該支撐構(gòu)件會(huì)與下側(cè)的基板W碰撞。根據(jù)本實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)，不會(huì) 產(chǎn)生這樣的情況。即，支撐構(gòu)件74在不使基板W損傷的情況下,能夠使支撐構(gòu)件74適當(dāng)?shù)?移動(dòng)至待避位置A2。[0132]當(dāng)所有支撐構(gòu)件74從支撐位置Al移動(dòng)至待避位置A2時(shí)，接著，通過(guò)馬達(dá)89的驅(qū) 動(dòng)，旋轉(zhuǎn)軸部87a、87b以旋轉(zhuǎn)軸L為中心旋轉(zhuǎn)180°。于是，一對(duì)滑動(dòng)軸部81也以旋轉(zhuǎn)軸L 為中心旋轉(zhuǎn)180°，從而與各滑動(dòng)軸部81相連接的支撐柱82在鉛直面上以該支撐柱82延 伸方向上的中央部為中心旋轉(zhuǎn)180°。由此，分別夾持在兩個(gè)夾持部801上的基板W翻轉(zhuǎn) 180°。即，從兩個(gè)翻轉(zhuǎn)用支撐部701接收的兩張基板W—并翻轉(zhuǎn)180°。
[0133]當(dāng)兩張基板W進(jìn)行了翻轉(zhuǎn)時(shí)，接著，通過(guò)缸體73的驅(qū)動(dòng)，所有支撐構(gòu)件74從待避 位置A2同步移動(dòng)至支撐位置Al。由此，夾持在各夾持部801上的翻轉(zhuǎn)后的基板W，處于夾 持在夾持部801上的同時(shí)支撐在翻轉(zhuǎn)用支撐部701上的狀態(tài)(參照?qǐng)D9的中部)。
[0134]當(dāng)所有支撐構(gòu)件74從待避位置A2移動(dòng)至支撐位置Al時(shí)，接著，缸體86使流槽 狀部85從閉側(cè)端部位置Cl移動(dòng)至開(kāi)側(cè)端部位置C2。于是，夾持構(gòu)件83從夾持位置BI移 動(dòng)至分離位置B2。由此，各夾持構(gòu)件83處于配置在與基板W分離的位置上的狀態(tài)，從而兩 張基板W處于以水平姿勢(shì)并且以在上下方向上隔開(kāi)間隔層疊的狀態(tài)下支撐在兩個(gè)翻轉(zhuǎn)用 支撐部701上的狀態(tài)(參照?qǐng)D9的上部)。在該狀態(tài)下，搬送機(jī)械手22使兩個(gè)搬送臂221a、 221b經(jīng)由開(kāi)口 302進(jìn)入框體301的內(nèi)部，在將支撐在各翻轉(zhuǎn)用支撐部701上的基板W移載 至各搬送臂22la、22Ib上的基礎(chǔ)上，將支撐有基板W的兩個(gè)搬送臂22la、22Ib經(jīng)由開(kāi)口 302 從框體301中抽出。
[0135]< 3.基板處理裝置I的動(dòng)作>
[0136]接著，參照?qǐng)D1至圖3以及圖10，對(duì)基板處理裝置I的整體動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。圖10 是用于說(shuō)明基板W的交接動(dòng)作的示意圖。此外，通過(guò)由控制部50對(duì)設(shè)置在基板處理裝置I 上的各部進(jìn)行控制，來(lái)執(zhí)行基板處理裝置I的動(dòng)作。
[0137]如上所述，基板處理裝置I具有對(duì)基板W的表面進(jìn)行刷洗式清洗處理的表面清洗 處理部SS以及對(duì)基板W的背面進(jìn)行刷洗式清洗處理的背面清洗處理部SSR，由此，能夠按 照目的進(jìn)行各種模式的清洗處理(例如，僅清洗基板W的表面的清洗處理，僅清洗基板W的 背面的清洗處理，清洗基板W的表面和背面這兩面的清洗處理等)。執(zhí)行哪種清洗處理，根 據(jù)記述有基板W的搬送步驟(還將基板的搬送步驟稱為“流程”)及處理?xiàng)l件的方案來(lái)設(shè)定。 針對(duì)每一組基板W (例如，批次單位的基板組)分別設(shè)定方案。下面，舉出按照方案執(zhí)行來(lái) 對(duì)基板W的兩面進(jìn)行清洗的清洗處理的情況和按照方案來(lái)僅對(duì)清洗基板W的表面進(jìn)行清洗 的清洗處理的情況的例子，說(shuō)明各情況下的基板處理裝置I的動(dòng)作。
[0138]<a.對(duì)基板W的兩面進(jìn)行清洗的情況>
[0139]在該情況下，當(dāng)利用AGV等來(lái)將容置有未處理基板W的搬送器C從裝置外部搬入 至分度器區(qū)10的搬送器載置臺(tái)11上時(shí)，分度器區(qū)10的移載機(jī)械手12利用搬送臂121a、 121b從該搬送器C中取出兩張未處理基板W，并將取出的這兩張未處理基板W搬送至交接 單元30。其中，在基板處理裝置I中，利用翻轉(zhuǎn)用支撐部701和輸送支撐部601a中的一個(gè) 支撐部，將未處理基板從移載機(jī)械手12交接給搬送機(jī)械手22。另外，利用哪個(gè)支撐部，例 如根據(jù)在方案中設(shè)定有哪種處理步驟來(lái)進(jìn)行選擇。在此，例如假設(shè)設(shè)定有如下規(guī)定:在方 案中設(shè)定有包含背面清洗在內(nèi)的處理步驟的情況下，利用翻轉(zhuǎn)用支撐部701交接未處理基 板，在除此之外的情況下，利用輸送支撐部601a來(lái)交接未處理基板W。因此,在對(duì)基板W的 兩面進(jìn)行清洗的情況下，移載機(jī)械手12將從搬送器C中取出的兩張未處理基板W遞給兩個(gè) 翻轉(zhuǎn)用支撐部701 (圖10的上部)。[0140]當(dāng)兩張基板W支撐在兩個(gè)翻轉(zhuǎn)用支撐部701上時(shí)，接著，夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80夾持支 撐在兩個(gè)翻轉(zhuǎn)用支撐部701上的兩張基板W，使該兩張基板W的內(nèi)外一并翻轉(zhuǎn)，使各基板W 的背面朝向上側(cè)。并且，將該翻轉(zhuǎn)后的兩張基板W再次支撐到兩個(gè)翻轉(zhuǎn)用支撐部701上。該 基板翻轉(zhuǎn)裝置100如上述那樣進(jìn)行動(dòng)作。
[0141]當(dāng)翻轉(zhuǎn)后的兩張基板W支撐在兩個(gè)翻轉(zhuǎn)用支撐部701上時(shí)，清洗處理區(qū)20的搬送 機(jī)械手22利用搬送臂22la、22Ib從兩個(gè)翻轉(zhuǎn)用支撐部701接收這兩張基板W。
[0142]接著，由接收了翻轉(zhuǎn)后的兩張基板W (即，背面朝向上側(cè)的兩張基板W)的搬送機(jī)械 手22，將該接收的兩張基板W分別搬送至背面清洗處理部SSR。此外，如上所述，本實(shí)施方 式的清洗處理單元21a具有層疊配置的四個(gè)背面清洗處理部SSR，搬送機(jī)械手22選擇該四 個(gè)背面清洗處理部SSR中的任意的兩個(gè)背面清洗處理部SSR，來(lái)將基板W逐張地搬送至所選 擇的這兩個(gè)背面清洗處理部SSR中。
[0143]在搬入有基板W的兩個(gè)背面清洗處理部SSR中，分別執(zhí)行基板W的背面清洗處理。 即，在各背面清洗處理部SSR中，一邊利用旋轉(zhuǎn)卡盤211來(lái)保持背面朝向上側(cè)的基板W并使 該基板W旋轉(zhuǎn)，一邊從噴嘴213向基板W的背面供給清洗液。在該狀態(tài)下，清洗刷212與基 板W的背面抵接或者接近后沿著水平方向進(jìn)行掃描，由此對(duì)基板W的背面進(jìn)行清洗處理。
[0144]當(dāng)在各背面清洗處理部SSR中結(jié)束了對(duì)基板W的背面清洗處理時(shí)，搬送機(jī)械手22 利用搬送臂221a、221b分別從兩個(gè)背面清洗處理部SSR中依次取出進(jìn)行了背面清洗處理后 的基板W，并將取出的這兩張基板W搬送至翻轉(zhuǎn)部40。
[0145]在搬入有進(jìn)行了背面清洗處理后的兩張基板W的翻轉(zhuǎn)部40中，基板翻轉(zhuǎn)裝置100 使該兩張基板W的內(nèi)外翻轉(zhuǎn)，從而使各基板W的表面朝向上側(cè)。
[0146]當(dāng)兩張基板W在翻轉(zhuǎn)部40中被翻轉(zhuǎn)時(shí)，搬送機(jī)械手22用搬送臂221a、221b從翻 轉(zhuǎn)部40中接收被翻轉(zhuǎn)的兩張基板W(即，表面朝向上側(cè)的兩張基板W)，將接收的這兩張基板 W分別搬送至表面清洗處理部SS。此外，如上所述，本實(shí)施方式的清洗處理單元21b具有層 疊配置的四個(gè)表面清洗處理部SS，搬送機(jī)械手22選擇這四個(gè)表面清洗處理部SS中的任意 兩個(gè)表面清洗處理部SS，來(lái)將基板W逐張地搬送至所選擇的這兩個(gè)表面清洗處理部SS中。
[0147]在搬入有基板W的兩個(gè)表面清洗處理部SS中，分別執(zhí)行對(duì)基板W的表面清洗處 理。即，在各表面清洗處理部SS中，一邊利用旋轉(zhuǎn)卡盤201保持表面朝向上側(cè)的基板W并 使該基板W旋轉(zhuǎn)，一邊從噴嘴203向基板W的表面供給清洗液。在該狀態(tài)下，清洗刷202與 基板W的表面抵接或者接近后沿著水平方向進(jìn)行掃描，由此對(duì)基板W的表面進(jìn)行清洗處理。
[0148]當(dāng)在各表面清洗處理部SS中結(jié)束了對(duì)基板W的表面清洗處理時(shí)，搬送機(jī)械手22 利用搬送臂221a、221b分別從兩個(gè)表面清洗處理部SS中依次取出進(jìn)行了表面清洗處理后 的基板W，并將取出的這兩張基板W分別搬送至返送支撐部601b。
[0149]當(dāng)已處理基板W載置在返送支撐部601b上時(shí)，分度器區(qū)10的移載機(jī)械手12利用 搬送臂121a、121b取出該已處理基板W，并容納到搬送器C中。即，利用返送支撐部601b將 已處理基板W從搬送機(jī)械手22交接給移載機(jī)械手12。
[0150]<b.僅對(duì)基板W的表面進(jìn)行清洗的情況>
[0151]在該情況下，當(dāng)利用AGV等將容置有未處理基板W的搬送器C從裝置外部搬入至 分度器區(qū)10的搬送器載置臺(tái)11上時(shí)，分度器區(qū)10的移載機(jī)械手12利用搬送臂121a、121b 從該搬送器C中取出兩張未處理基板W，并將取出的這兩張未處理基板W搬送至交接單元30。其中，如上所述，在基板處理裝置I中，利用翻轉(zhuǎn)用支撐部701和輸送支撐部601a中的 一個(gè)，將未處理基板從移載機(jī)械手12交接給搬送機(jī)械手22，在此，設(shè)定有如下規(guī)定:在方案 中設(shè)定有不包括背面清洗的處理步驟的情況下，利用輸送支撐部601a交接未處理基板W。 因此，在僅對(duì)基板W的表面進(jìn)行清洗的情況下，移載機(jī)械手12將從搬送器C中取出的兩張 未處理基板W交接給兩個(gè)輸送支撐部601a (圖10的下部)。
[0152]當(dāng)兩張基板W支撐在兩個(gè)輸送支撐部601a上時(shí)，搬送機(jī)械手22利用搬送臂221a、 221b從兩個(gè)輸送支撐部601a接收該兩張未處理基板W。
[0153]接著，接收了兩張基板W(即，表面朝向上側(cè)的狀態(tài)的兩張基板W)的搬送機(jī)械手22 將接收的這兩張基板W分別搬送至表面清洗處理部SS中。此外，在此，搬送機(jī)械手22也選 擇清洗處理單元21b所具有的四個(gè)表面清洗處理部SS中的任意的兩個(gè)表面清洗處理部SS， 并將基板W逐張地分別搬送至所選擇的這兩個(gè)表面清洗處理部SS中。
[0154]在搬入有基板W的兩個(gè)表面清洗處理部SS中，分別執(zhí)行對(duì)基板W的表面清洗處 理。
[0155]當(dāng)在各表面清洗處理部SS中結(jié)束了對(duì)基板W的表面清洗處理時(shí)，搬送機(jī)械手22 利用搬送臂221a、221b分別從兩個(gè)表面清洗處理部SS中依次取出進(jìn)行了表面清洗處理后 的基板W，并將取出的這兩張基板W分別搬送至返送支撐部601b。
[0156]當(dāng)已處理基板W載置在返送支撐部601b上時(shí)，分度器區(qū)10的移載機(jī)械手12利用 搬送臂121a、121b取出該已處理基板W，并容納到搬送器C中。即，經(jīng)由返送支撐部601b將 已處理基板W從搬送機(jī)械手22交接給移載機(jī)械手12。
[0157]如上所述，在基板處理裝置I中，在方案中設(shè)定有包括背面清洗的處理步驟的情 況下，控制部50使各搬送機(jī)械手12、22利用翻轉(zhuǎn)用支撐部701交接未處理基板W，并且在交 接時(shí)使基板翻轉(zhuǎn)裝置100對(duì)基板W進(jìn)行翻轉(zhuǎn)處理(圖10的上部)。在該情況下，不會(huì)將未處 理基板W搬入至輸送支撐部601a，而是專門經(jīng)由翻轉(zhuǎn)用支撐部701來(lái)將未處理基板W從移 載機(jī)械手12交接給搬送機(jī)械手22。另一方面，在方案中設(shè)定有不包括背面清洗的處理步 驟的情況下，控制部50使各搬送機(jī)械手12、22經(jīng)由輸送支撐部601a交接未處理基板W(圖 10的下部)。在該情況下，不會(huì)將未處理基板W搬入至翻轉(zhuǎn)用支撐部701，而是專門經(jīng)由輸 送支撐部601a，將未處理基板W從移載機(jī)械手12交接給搬送機(jī)械手22。
[0158]這樣，在基板處理裝置I中，作為將未處理基板W從移載機(jī)械手12交接給搬送機(jī) 械手22的路徑，存在經(jīng)由翻轉(zhuǎn)用支撐部701的交接路徑和經(jīng)由輸送支撐部601a的交接路 徑這兩條路徑，控制部50根據(jù)方案來(lái)選擇某一個(gè)交接路徑。另外，當(dāng)方案被變更時(shí)，控制部 50根據(jù)需要切換未處理基板W的交接路徑。例如，在從設(shè)定有包括背面清洗的處理步驟的 方案切換到設(shè)定有不包括背面清洗的處理步驟的方案的情況下，控制部50使未處理基板W 的交接路徑從經(jīng)由翻轉(zhuǎn)用支撐部701的交接路徑切換到經(jīng)由輸送支撐部601a的交接路徑。 另一方面，在從設(shè)定有不包括背面清洗的處理步驟的方案切換到設(shè)定有包括背面清洗的處 理步驟的方案的情況下，控制部50使未處理基板W的交接路徑從經(jīng)由輸送支撐部601a的 交接路徑切換到經(jīng)由翻轉(zhuǎn)用支撐部701的交接路徑。其中，在前者的情況下，在利用夾持翻 轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80使支撐在翻轉(zhuǎn)用支撐部701上的未處理基板W (前一方案的未處理基板W)翻轉(zhuǎn) 之后(優(yōu)選地，該未處理基板W被搬送機(jī)械手22搬出之后)，由移載機(jī)械手12將新的方案的 未處理基板W搬入至輸送支撐部601a。另外，在后者的情況下，在利用搬送機(jī)械手22搬出支撐在輸送支撐部601a上的未處理基板W (前一方案的未處理基板W)之后，由移載機(jī)械手 12將新的方案的未處理基板W搬入至翻轉(zhuǎn)用支撐部701。由此，能夠事先避免產(chǎn)生如下的 情況:在切換方案時(shí)，支撐在作為干涉支撐部的輸送支撐部601a上的未處理基板W，與利用 夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80進(jìn)行翻轉(zhuǎn)的基板W發(fā)生碰撞。
[0159]<4.效果>
[0160]根據(jù)上述的實(shí)施方式，交接單元30具有在上下方向上隔開(kāi)間隔配置的翻轉(zhuǎn)用支 撐部701和支撐部601，因此能夠經(jīng)由翻轉(zhuǎn)用支撐部701和支撐部601中的至少一個(gè)，來(lái)在 搬送機(jī)械手22和移載機(jī)械手12之間交接基板W，尤其是在經(jīng)由翻轉(zhuǎn)用支撐部701的情況 下，能夠在使基板W翻轉(zhuǎn)的基礎(chǔ)上進(jìn)行交接。在這里，支撐部601中的至少一個(gè)作為干涉支 撐部，該支撐部601在利用夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80進(jìn)行翻轉(zhuǎn)的基板W的翻轉(zhuǎn)區(qū)域M內(nèi)支撐基板W。 因此，能夠?qū)⒔唤訂卧?0的高度尺寸抑制得小。由此，能夠抑制搬送機(jī)械手22及移載機(jī)械 手12的上下方向上的移動(dòng)距離的增加，從而能夠有效地抑制基板處理裝置I的處理能力的 降低。另外，能夠?qū)崿F(xiàn)搬送機(jī)械手22及移載機(jī)械手12的緊湊化。另外，通過(guò)有效利用因?qū)?現(xiàn)交接單元30的緊湊化而產(chǎn)生的空間，還能夠?qū)崿F(xiàn)基板處理裝置I的緊湊化。
[0161]例如，如圖3所示，對(duì)于移載機(jī)械手12至少需要上下行程范圍(搬送器協(xié)調(diào)范圍) HC，該上下行程范圍HC用于在移載機(jī)械手12與搬送器載置臺(tái)11上的搬送器C之間交接基 板W。因此，為了有效地抑制移載機(jī)械手12的上下行程范圍，優(yōu)選地使用于在移載機(jī)械手 12與交接單元30之間交接基板W的上下行程范圍(交接單元協(xié)調(diào)范圍)H30與搬送器協(xié)調(diào) 范圍HC盡量近似。
[0162]根據(jù)搬送器C的高度尺寸來(lái)規(guī)定搬送器協(xié)調(diào)范圍HC，根據(jù)交接單元30的高度尺寸 來(lái)規(guī)定交接單元協(xié)調(diào)范圍H30，此時(shí)，一般而言，即使基板W的尺寸變大，搬送器C的高度尺 寸也不會(huì)變大，但是當(dāng)基板W的尺寸變大時(shí)，基板W的翻轉(zhuǎn)區(qū)域M會(huì)變大。在此，根據(jù)上述 的實(shí)施方式，至少一個(gè)支撐部601成為干涉支撐部，由此，能夠抑制與翻轉(zhuǎn)區(qū)域M的增大相 伴的交接單元30的高度尺寸的增加。即，即使基板W的尺寸變大，也能夠使交接單元協(xié)調(diào) 范圍H30與搬送器協(xié)調(diào)范圍HC近似。其結(jié)果，能夠抑制移載機(jī)械手12的行程范圍的增加， 從而能夠有效地抑制基板處理裝置I的處理能力的降低。
[0163]另外，根據(jù)上述實(shí)施方式，將未處理基板W從移載機(jī)械手12交接給搬送機(jī)械手22 的動(dòng)作，是經(jīng)由翻轉(zhuǎn)用支撐部701和輸送支撐部601a中的某一個(gè)支撐部(S卩，排他性地利用 上述支撐部701、601a)來(lái)進(jìn)行的。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，不會(huì)發(fā)生翻轉(zhuǎn)用支撐部701和輸送支撐部 601a在交接基板W時(shí)同時(shí)被利用的狀況，因此能夠可靠地避免支撐在輸送支撐部601a (成 為干涉支撐部的輸送支撐部601a)上的基板W和利用夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80進(jìn)行翻轉(zhuǎn)的基板W 產(chǎn)生干涉的情況。
[0164]另外，根據(jù)上述實(shí)施方式，將未處理基板W從移載機(jī)械手12遞給搬送機(jī)械手22的 交接路徑，是根據(jù)針對(duì)每個(gè)基板組分別設(shè)定的該方案，來(lái)在經(jīng)由翻轉(zhuǎn)用支撐部701的交接 路徑和經(jīng)由輸送支撐部601a的交接路徑之間擇一性地切換的。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，例如，根據(jù)方 案選擇僅對(duì)表面進(jìn)行的處理或者對(duì)兩面進(jìn)行的處理，由此能夠使裝置自動(dòng)地選擇交接路徑 來(lái)進(jìn)行處理。
[0165]另外，根據(jù)上述實(shí)施方式，輸送支撐部601a配置于翻轉(zhuǎn)用支撐部701的上側(cè)。根 據(jù)該結(jié)構(gòu)，經(jīng)由輸送支撐部601a交接的未處理基板W(即，未被翻轉(zhuǎn)而在表面朝向上側(cè)的狀態(tài)下被交接的未處理基板W)的經(jīng)過(guò)路徑形成在夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80的上側(cè)。因此，未處理基 板W的表面不會(huì)容易地被夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)等產(chǎn)生的顆粒等污染。
[0166]另外，根據(jù)上述實(shí)施方式，將已處理基板W從搬送機(jī)械手22交接給移載機(jī)械手12 的處理，是經(jīng)由配置于輸送支撐部601a的上側(cè)的返送支撐部601b來(lái)進(jìn)行的。根據(jù)該結(jié)構(gòu)， 已處理基板W的經(jīng)過(guò)路徑形成于未處理基板W的經(jīng)過(guò)路徑的上側(cè)，因此能夠潔凈地保持已 處理基板W的表面。
[0167]另外，在上述的實(shí)施方式的基板處理裝置I中，交接單元30及翻轉(zhuǎn)部40所具有的 基板翻轉(zhuǎn)裝置100，能夠使兩張基板W適當(dāng)?shù)匾徊⒎D(zhuǎn)。由此，能夠使基板處理裝置I的處 理能力良好。尤其是，在基板處理裝置I中，在移載機(jī)械手12和搬送機(jī)械手22之間交接基 板W時(shí),能夠使基板W的內(nèi)外翻轉(zhuǎn)。S卩，基板翻轉(zhuǎn)裝置100除了使基板W翻轉(zhuǎn)的功能之外， 還發(fā)揮在移載機(jī)械手12和搬送機(jī)械手22之間交接基板W的交接部的功能。根據(jù)該結(jié)構(gòu)， 例如，與另行單獨(dú)地設(shè)置交接部及翻轉(zhuǎn)部的情況相比，能夠減輕搬送機(jī)械手22的負(fù)擔(dān)，并 且減少清洗處理區(qū)20內(nèi)的處理步驟的次數(shù)，從而能夠有效地抑制基板處理裝置I的處理能 力的降低。
[0168]<5.變形例>
[0169]在上述實(shí)施方式中，支撐單元60具有六個(gè)支撐部601，但是設(shè)置在支撐單元60上 的支撐部601的個(gè)數(shù)不需一定是六個(gè)。而且，能夠任意地設(shè)定將設(shè)置在支撐單元60上的多 個(gè)支撐部601中的位于哪個(gè)位置的幾個(gè)支撐部601用作輸送支撐部60Ia (或者返送支撐部 601b)，例如，可由控制部50通過(guò)接受操作者的輸入來(lái)設(shè)定。在此，在上述實(shí)施方式中，將成 為干涉支撐部的所有支撐部601用作輸送支撐部601a，但是也可以將成為干涉支撐部的支 撐部601中的至少一個(gè)(或者所有)用作返送支撐部601b。例如，可將六個(gè)支撐部601中的 下側(cè)的三個(gè)支撐部601用作返送支撐部601b，在該情況下，將成為干涉支撐部的所有支撐 部601用作返送支撐部601b。其中，在該變形例中，需要適當(dāng)?shù)貙?duì)動(dòng)作計(jì)劃進(jìn)行調(diào)整，以便 在基板翻轉(zhuǎn)裝置100中進(jìn)行使基板W翻轉(zhuǎn)的動(dòng)作的期間，不向成為干涉支撐部的支撐部601 搬入基板W，另外，以便在基板W支撐在成為干涉支撐部的支撐部601上的期間，在基板翻轉(zhuǎn) 裝置100中不進(jìn)行使基板W翻轉(zhuǎn)的動(dòng)作。
[0170]另外，在上述的實(shí)施方式中，翻轉(zhuǎn)用支撐部701也可以用于返送基板W的交接。例 如在僅對(duì)基板W的背面進(jìn)行清洗的情況下，也可以經(jīng)由翻轉(zhuǎn)用支撐部701將已處理基板W 從搬送機(jī)械手22遞給移載機(jī)械手12，并在使已處理基板W翻轉(zhuǎn)之后，遞給移載機(jī)械手12。 其中，在該變形例中，也與上述的變形例同樣地，需要適當(dāng)?shù)貙?duì)動(dòng)作計(jì)劃進(jìn)行調(diào)整，以便在 基板翻轉(zhuǎn)裝置100中進(jìn)行使基板W翻轉(zhuǎn)的動(dòng)作的期間，不向成為干涉支撐部的支撐部601 搬入基板W，另外，在基板W支撐在成為干涉支撐部的支撐部601上的期間，在基板翻轉(zhuǎn)裝置 100中不進(jìn)行使基板W翻轉(zhuǎn)的動(dòng)作。
[0171]另外，在上述的實(shí)施方式中，設(shè)置在支撐單元60上的多個(gè)支撐部601配置在多個(gè) 翻轉(zhuǎn)用支撐部701的上側(cè)，但是也可以使至少一個(gè)支撐部601配置在多個(gè)翻轉(zhuǎn)用支撐部701 的下側(cè)。
[0172]另外，在上述的實(shí)施方式中，也可以將翻轉(zhuǎn)部40配置在交接單元30的框體301 內(nèi)。此時(shí)，在交接單元30的框體301內(nèi)的隔著支撐單元60的上側(cè)和下側(cè)，分別配置有一個(gè) 基板翻轉(zhuǎn)裝置100。在此，也可以將設(shè)置在支撐單元60上的多個(gè)支撐部601中的上側(cè)的一個(gè)以上的支撐部601，作為在上側(cè)的基板翻轉(zhuǎn)裝置100的基板W的翻轉(zhuǎn)區(qū)域中支撐基板W的干涉支撐部，并且將下側(cè)的一個(gè)以上的支撐部601，作為在下側(cè)的基板翻轉(zhuǎn)裝置100的基板W的翻轉(zhuǎn)區(qū)域中支撐基板W的干涉支撐部。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠?qū)ǚD(zhuǎn)部40和交接單元30的合計(jì)的高度尺寸抑制得小。其中，此時(shí)，也需要對(duì)動(dòng)作計(jì)劃進(jìn)行調(diào)整，以便在上側(cè)(下偵D的基板翻轉(zhuǎn)裝置loo中進(jìn)行使基板w翻轉(zhuǎn)的動(dòng)作的期間，不向上側(cè)(下側(cè))的干涉支撐部搬入基板W，另外，在基板w支撐在上側(cè)(下側(cè))的干涉支撐部上的期間，在上側(cè)(下側(cè))的基板翻轉(zhuǎn)裝置100中不進(jìn)行使基板W翻轉(zhuǎn)的動(dòng)作。
[0173]另外，在上述的實(shí)施方式中，基板翻轉(zhuǎn)裝置100使兩張基板W同時(shí)翻轉(zhuǎn)，但是基板翻轉(zhuǎn)裝置100可以使一張基板W翻轉(zhuǎn)，也可以使三張以上的基板W同時(shí)翻轉(zhuǎn)。例如，在翻轉(zhuǎn)支撐機(jī)構(gòu)70中，在各支撐柱72上配設(shè)四個(gè)支撐構(gòu)件74，并且在夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)80中，在各支撐柱82上配設(shè)四個(gè)夾持構(gòu)件83，則能夠使四張基板W同時(shí)翻轉(zhuǎn)。
[0174]另外，在上述的實(shí)施方式中，各清洗處理單元21a、21b中的表面清洗處理部SS和背面清洗處理部SSR的布局以及各處理部的安裝個(gè)數(shù)，并不限定于上述例子。另外，翻轉(zhuǎn)部40的配置位置也不限定于上述的例子。例如，翻轉(zhuǎn)部40可以配置于交接單元30的下側(cè)，也可以配置于清洗處理區(qū)20。
[0175]另外，在上述實(shí)施方式的基板翻轉(zhuǎn)裝置100中，針對(duì)支撐在翻轉(zhuǎn)支撐機(jī)構(gòu)70上的兩張基板W分別設(shè)置檢測(cè)部，該檢測(cè)部用于檢測(cè)對(duì)應(yīng)的基板W的異常。檢測(cè)部例如能夠利用光學(xué)傳感器等來(lái)檢測(cè)對(duì)應(yīng)的基板W是否存在以及該基板W的姿勢(shì)的異常等。
【權(quán)利要求】
1.一種基板處理裝置，其特征在于，具有:處理部，其具有對(duì)基板的表面進(jìn)行清洗的表面清洗部、對(duì)基板的背面進(jìn)行清洗的背面 清洗部、第一搬送機(jī)械手，分度器部，其具有第二搬送機(jī)械手，該分度器部將未處理的基板遞給上述處理部，并且 從上述處理部接收已處理的基板，交接單元，其配置在上述處理部和上述分度器部之間的連接部分上；上述交接單元具有:第一支撐部，其將基板支撐為水平姿勢(shì)，第二支撐部，其在上下方向上與上述第一支撐部隔開(kāi)間隔地配置，并將基板支撐為水 平姿勢(shì)，翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其使支撐在上述第一支撐部上的基板翻轉(zhuǎn)，并將翻轉(zhuǎn)后的基板再次支撐在 上述第一支撐部上；支撐于上述第二支撐部上的基板的一部分，配置在由上述翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)翻轉(zhuǎn)的基板的翻轉(zhuǎn) 區(qū)域內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，將未處理的基板從上述第二搬 送機(jī)械手向上述第一搬送機(jī)械手的交接，是利用上述第一支撐部和上述第二支撐部中的一 個(gè)支撐部來(lái)進(jìn)行的。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，將未處理的基板從上述第二搬 送機(jī)械手交接給上述第一搬送機(jī)械手的交接路徑，是根據(jù)針對(duì)每個(gè)基板組分別設(shè)定的方 案，來(lái)在經(jīng)由上述第一支撐部的交接路徑和經(jīng)由上述第二支撐部的交接路徑之間擇一性地 進(jìn)行切換的。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第二支撐部配置在上述第一支撐部的上側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或者3所述的基板處理裝置，其特征在于，上述交接單元還具有第三支撐部，該第三支撐部配置在上述第二支撐部的上側(cè)，并且 將基板支撐為水平姿勢(shì)；將已處理的基板從上述第一搬送機(jī)械手向上述第二搬送機(jī)械手的交接，是經(jīng)由上述第 三支撐部來(lái)進(jìn)行的。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于，該基板處理裝置具有多個(gè)上述第一支撐部；上述翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使支撐在多個(gè)上述第一支撐部上的多個(gè)基板一并翻轉(zhuǎn)。
【文檔編號(hào)】H01L21/304GK103515218SQ201310082986
【公開(kāi)日】2014年1月15日 申請(qǐng)日期:2013年3月15日 優(yōu)先權(quán)日:2012年6月18日
【發(fā)明者】加藤洋 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)屏制造株式會(huì)社