專利名稱：光掩模和使用它的激光退火裝置以及曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及跟隨在一定方向上搬運(yùn)的基板而使光選擇性地照射到基板上的多個(gè)位置的光掩模，詳細(xì)地說，涉及在對(duì)同種基板的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情況下，也會(huì)使對(duì)移動(dòng)中的基板的跟隨性變得良好的光掩模和使用它的激光退火裝置以及曝光裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的這種光掩模具備多個(gè)掩模圖案，其在與基板的搬運(yùn)方向交叉的方向上以一定的排列間距形成，使光通過；以及一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其形成為各具備一對(duì)細(xì)線的結(jié)構(gòu)，形成在相對(duì)于多個(gè)掩模圖案在與基板搬運(yùn)方向相反的方向上分開一定距離的位置，上述一對(duì)細(xì)線具有與設(shè)置在基板上的多個(gè)圖案的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的排列間距的整數(shù)倍相等的間隔，與基板搬運(yùn)方向平行地形成(例如，參照專利文獻(xiàn)I)。·現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)_4] 專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :特開2008-216593號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
_6] 發(fā)明要解決的問題但是，在這樣的現(xiàn)有的光掩模中，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的平行于基板搬運(yùn)方向的一對(duì)細(xì)線的間隔與設(shè)置在基板上的多個(gè)圖案的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的排列間距的整數(shù)倍的大小相等，因此，在對(duì)同種基板的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情況下，有時(shí)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的上述一對(duì)細(xì)線與基板上的圖案的平行于基板搬運(yùn)方向的緣部干擾而難以檢測(cè)，不能夠準(zhǔn)確地檢測(cè)出對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置。因此，有如下可能對(duì)光掩模的基板的跟隨性能下降，不能夠使光精度良好地照射到基板上的目標(biāo)位置。因此，本發(fā)明的目的在于，針對(duì)這樣的問題，提供在對(duì)同種基板的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情況下，也會(huì)使對(duì)移動(dòng)中的基板的跟隨性變得良好的光掩模和使用它的激光退火裝置以及曝光裝置。
_9] 用于解決問題的方案為了達(dá)成上述目的，根據(jù)第I發(fā)明的光掩模使光選擇性地照射到在一定方向上搬運(yùn)的基板上的多個(gè)位置，在上述基板的表面上設(shè)置有多個(gè)圖案，該多個(gè)圖案以一定的排列間距設(shè)置為矩陣狀，上述光掩模具備多個(gè)掩模圖案，其在與上述基板的搬運(yùn)方向交叉的方向上以一定的排列間距形成，使光通過；以及多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其形成為各具備一對(duì)細(xì)線的結(jié)構(gòu)，相對(duì)于上述多個(gè)掩模圖案配置在與上述基板搬運(yùn)方向相反一側(cè)的位置，在基板搬運(yùn)方向上相互分開一定距離，并且形成為預(yù)先設(shè)定在上述一對(duì)細(xì)線間的基準(zhǔn)位置在與上述基板搬運(yùn)方向交叉的方向上相互偏離預(yù)先決定的距離的狀態(tài)，上述一對(duì)細(xì)線具有與設(shè)置在上述基板上的多個(gè)圖案的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的排列間距的整數(shù)倍相等的間隔，與上述基板搬運(yùn)方向平行地形成。 根據(jù)這樣的構(gòu)成，在對(duì)同種基板的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情況下，從在基板搬運(yùn)方向上相互分開一定距離而配置的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇適當(dāng)?shù)囊粋€(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，減小對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的平行于基板搬運(yùn)方向的一對(duì)細(xì)線與設(shè)置于基板的圖案的平行于基板搬運(yùn)方向的兩個(gè)緣部的干擾。另外，在上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的被選擇的一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置與設(shè)定于上述基板的基準(zhǔn)位置已對(duì)位的狀態(tài)下，上述被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線以與設(shè)置于上述基板的像素的平行于基板搬運(yùn)方向的中心線大致一致的方式配置。由此，在各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的被選擇的一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置與設(shè)定于基板的基準(zhǔn)位置已對(duì)位的狀態(tài)下，將上述被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線以與設(shè)置于基板的像素的平行于基板搬運(yùn)方向的中心線大致一致的方式配置，進(jìn)一步減小該一對(duì)細(xì)線與設(shè)置于基板的圖案的平行于基板搬運(yùn)方向的兩個(gè)緣部的干擾。而且，與上述各掩模圖案對(duì)應(yīng)地在上述基板側(cè)形成有多個(gè)微透鏡。由此，由與各掩 模圖案對(duì)應(yīng)地在基板側(cè)形成的多個(gè)微透鏡將光聚斂到基板上。并且，上述多個(gè)掩模圖案在基板搬運(yùn)方向及其交叉方向上以一定的排列間距形成為矩陣狀。由此，穿過在基板搬運(yùn)方向及其交叉方向上以一定的排列間距形成為矩陣狀的多個(gè)掩模圖案而將光照射到基板上的多個(gè)位置。另外，根據(jù)第2發(fā)明的激光退火裝置進(jìn)行在一定方向上搬運(yùn)的基板和與該基板相對(duì)配置的光掩模的對(duì)位來對(duì)上述基板上的多個(gè)位置選擇性地照射激光，對(duì)形成于上述基板的薄膜進(jìn)行退火處理，在上述基板的表面上設(shè)置有多個(gè)圖案，該多個(gè)圖案以一定的排列間距設(shè)置為矩陣狀，上述激光退火裝置具備掩模載置臺(tái)，其保持光掩模，并且能使上述光掩模在基板搬運(yùn)方向上移動(dòng)來從多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，上述光掩模設(shè)置有多個(gè)掩模圖案和上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，上述多個(gè)掩模圖案在與上述基板的搬運(yùn)方向交叉的方向上以一定的排列間距形成，使激光通過，上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成為各具備一對(duì)細(xì)線的結(jié)構(gòu)，相對(duì)于上述多個(gè)掩模圖案配置在與上述基板搬運(yùn)方向相反一側(cè)的位置，在基板搬運(yùn)方向上相互分開一定距離，并且形成為預(yù)先設(shè)定在上述一對(duì)細(xì)線間的基準(zhǔn)位置在與上述基板搬運(yùn)方向交叉的方向上相互偏離預(yù)先決定的距離的狀態(tài)，上述一對(duì)細(xì)線具有與設(shè)置在上述基板上的多個(gè)圖案的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的排列間距的整數(shù)倍相等的間隔，與上述基板搬運(yùn)方向平行地形成；線陣相機(jī)，其使細(xì)線狀的受光部的長(zhǎng)邊方向中心軸與從上述光掩模的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的在與上述基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的中心線一致而配置；以及對(duì)準(zhǔn)單元，其以上述被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置與預(yù)先設(shè)定于上述基板的基準(zhǔn)位置的位置關(guān)系成為預(yù)先決定的關(guān)系的方式，將上述基板與上述光掩模在與上述基板搬運(yùn)方向交叉的方向上相對(duì)地移動(dòng)。根據(jù)這樣的構(gòu)成，在對(duì)同種基板的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上偏移的位置照射激光來進(jìn)行退火處理的情況下，將掩模載置臺(tái)在基板搬運(yùn)方向上移動(dòng)來從在基板搬運(yùn)方向上相互分開一定距離而配置的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇適當(dāng)?shù)囊粋€(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，由線陣相機(jī)對(duì)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的平行于基板搬運(yùn)方向的一對(duì)細(xì)線與基板上的基準(zhǔn)位置進(jìn)行拍攝，基于該拍攝圖像，以上述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置與基板的基準(zhǔn)位置的位置關(guān)系成為預(yù)先決定的關(guān)系的方式，利用對(duì)準(zhǔn)單元將基板與光掩模在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上相對(duì)地移動(dòng)。
而且，在設(shè)置于上述光掩模的上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的被選擇的一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置與設(shè)定于上述基板的基準(zhǔn)位置已對(duì)位的狀態(tài)下，上述被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線以與設(shè)置于上述基板的像素的平行于基板搬運(yùn)方向的中心線大致一致的方式配置。由此，在各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的被選擇的一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置與設(shè)定于基板的基準(zhǔn)位置已對(duì)位的狀態(tài)下，將上述被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線以與設(shè)置于基板的像素的平行于基板搬運(yùn)方向的中心線大致一致的方式配置，進(jìn)一步減小該一對(duì)細(xì)線與設(shè)置于基板的圖案的平行于基板搬運(yùn)方向的兩個(gè)緣部的干擾。并且，上述光掩模，與上述各掩模圖案對(duì)應(yīng)地在上述基板側(cè)形成有多個(gè)微透鏡。由此，由與各掩模圖案對(duì)應(yīng)地在基板側(cè)形成的多個(gè)微透鏡將激光聚斂到基板上。另外，根據(jù)第3發(fā)明的曝光裝置進(jìn)行在一定方向上搬運(yùn)的基板和與該基板相對(duì)配置的光掩模的對(duì)位來對(duì)上述基板上的多個(gè)位置選擇性地照射紫外線，對(duì)涂敷在上述基板上的感光材料進(jìn)行曝光，在上述基板的表面上設(shè)置有多個(gè)圖案，該多個(gè)圖案以一定的排列間距設(shè)置為矩陣狀，上述曝光裝置具備掩模載置臺(tái)，其保持光掩模，并且能使上述光掩模在基板搬運(yùn)方向上移動(dòng)來從多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，上述光掩模設(shè)置有多個(gè)掩模 圖案和上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，上述多個(gè)掩模圖案在與上述基板的搬運(yùn)方向交叉的方向上以一定的排列間距形成，使紫外線通過，上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成為各具備一對(duì)細(xì)線的結(jié)構(gòu)，相對(duì)于上述多個(gè)掩模圖案配置在與上述基板搬運(yùn)方向相反一側(cè)的位置，在基板搬運(yùn)方向上相互分開一定距離，并且形成為預(yù)先設(shè)定在上述一對(duì)細(xì)線間的基準(zhǔn)位置在與上述基板搬運(yùn)方向交叉的方向上相互偏離預(yù)先決定的距離的狀態(tài)，上述一對(duì)細(xì)線具有與設(shè)置在上述基板上的多個(gè)圖案的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的排列間距的整數(shù)倍相等的間隔，與上述基板搬運(yùn)方向平行地形成；線陣相機(jī)，其使細(xì)線狀的受光部的長(zhǎng)邊方向中心軸與從上述光掩模的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的在與上述基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的中心線一致而配置；以及對(duì)準(zhǔn)單元，其以上述被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置與預(yù)先設(shè)定于上述基板的基準(zhǔn)位置的位置關(guān)系成為預(yù)先決定的關(guān)系的方式，將上述基板與上述光掩模在與上述基板搬運(yùn)方向交叉的方向上相對(duì)地移動(dòng)。根據(jù)這樣的構(gòu)成，在對(duì)同種基板的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上偏移的位置照射紫外線來進(jìn)行曝光的情況下，將掩模載置臺(tái)在基板搬運(yùn)方向上移動(dòng)來從在基板搬運(yùn)方向上相互分開一定距離而配置的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇適當(dāng)?shù)囊粋€(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，由線陣相機(jī)對(duì)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的平行于基板搬運(yùn)方向的一對(duì)細(xì)線與基板上的基準(zhǔn)位置進(jìn)行拍攝，基于該拍攝圖像，以上述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置與基板的基準(zhǔn)位置的位置關(guān)系成為預(yù)先決定的關(guān)系的方式，利用對(duì)準(zhǔn)單元將基板與光掩模在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上相對(duì)地移動(dòng)。而且，在設(shè)置于上述光掩模的上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的被選擇的一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置與設(shè)定于上述基板的基準(zhǔn)位置已對(duì)位的狀態(tài)下，上述被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線以與設(shè)置于上述基板的像素的平行于基板搬運(yùn)方向的中心線大致一致的方式配置。由此，在各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的被選擇的一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置與設(shè)定于基板的基準(zhǔn)位置已對(duì)位的狀態(tài)下，將上述被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線以與設(shè)置于基板的像素的平行于基板搬運(yùn)方向的中心線大致一致的方式配置，進(jìn)一步減小該一對(duì)細(xì)線與設(shè)置于基板的圖案的平行于基板搬運(yùn)方向的兩個(gè)緣部的干擾。并且，上述光掩模，與上述各掩模圖案對(duì)應(yīng)地在上述基板側(cè)形成有多個(gè)微透鏡。由此，由與各掩模圖案對(duì)應(yīng)地在基板側(cè)形成的多個(gè)微透鏡將紫外線聚斂到基板上。發(fā)明效果根據(jù)權(quán)利要求I的發(fā)明，在對(duì)同種基板的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情況下，也能夠通過從多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇適當(dāng)?shù)囊粋€(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，減小該被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線與設(shè)置于基板的圖案的平行于基板搬運(yùn)方向的兩個(gè)緣部的干擾。因此，被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線的檢測(cè)變得容易，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置的算出變得容易。因此，能夠使用從多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇的一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記使光掩模良好地跟隨移動(dòng)中的基板。另外，根據(jù)權(quán)利要求2的發(fā)明，從多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線位于離設(shè)置于基板的圖案的平行于基板搬運(yùn)方向的兩個(gè)緣部最遠(yuǎn)的上述圖案的大致中心位置，因此，能夠避免一對(duì)細(xì)線與上述圖案的兩個(gè)緣部的干擾，使上述一對(duì)細(xì)線的檢測(cè)進(jìn)一步變得容易。
而且，根據(jù)權(quán)利要求3的發(fā)明，能夠由微透鏡將光聚斂到基板上，能夠提高光的利用效率。并且，根據(jù)權(quán)利要求4的發(fā)明，能夠擴(kuò)大光的照射區(qū)域，能夠縮短例如激光退火處理工序或者曝光工序的節(jié)拍(tact)。另外，根據(jù)權(quán)利要求5的發(fā)明，在對(duì)同種基板的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上偏移的位置照射激光來進(jìn)行退火處理的情況下，也能夠通過從多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇適當(dāng)?shù)囊粋€(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，減小該被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線與設(shè)置于基板的圖案的平行于基板搬運(yùn)方向的兩個(gè)緣部的干擾。因此，被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線的檢測(cè)變得容易，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置的算出變得容易。因此，能夠使用從多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇的一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記使光掩模良好地跟隨移動(dòng)中的基板。而且，根據(jù)權(quán)利要求6的發(fā)明，從設(shè)置于光掩模的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線位于離設(shè)置于基板的圖案的平行于基板搬運(yùn)方向的兩個(gè)緣部最遠(yuǎn)的上述圖案的大致中心位置，因此，能夠避免一對(duì)細(xì)線與上述圖案的兩個(gè)緣部的干擾，使上述一對(duì)細(xì)線的檢測(cè)進(jìn)一步變得容易。因此，光掩模的基準(zhǔn)位置的算出進(jìn)一步變得容易，能夠可靠地進(jìn)行光掩模與基板的對(duì)位，能夠使激光精度良好地照射到設(shè)定在基板上的目標(biāo)位置。并且，根據(jù)權(quán)利要求7的發(fā)明，能夠由微透鏡將激光聚斂到基板上，能夠減小激光源的功率。因此，能夠減輕激光源的負(fù)擔(dān)，使光源的壽命變長(zhǎng)。另外，根據(jù)權(quán)利要求8的發(fā)明，在對(duì)同種基板的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上偏移的位置照射紫外線來進(jìn)行曝光的情況下，也能夠通過從多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇適當(dāng)?shù)囊粋€(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，減小該被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線與設(shè)置于基板的圖案的平行于基板搬運(yùn)方向的兩個(gè)緣部的干擾。因此，被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線的檢測(cè)變得容易，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置的算出變得容易。因此，能夠使用從多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇的一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記使光掩模良好地跟隨移動(dòng)中的基板。而且，根據(jù)權(quán)利要求9的發(fā)明，從設(shè)置于光掩模的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線位于離設(shè)置于基板的圖案的平行于基板搬運(yùn)方向的兩個(gè)緣部最遠(yuǎn)的上述圖案的大致中心位置，因此，能夠避免一對(duì)細(xì)線與上述圖案的兩個(gè)緣部的干擾，使上述一對(duì)細(xì)線的檢測(cè)進(jìn)一步變得容易。因此，光掩模的基準(zhǔn)位置的算出進(jìn)一步變得容易，能夠可靠地進(jìn)行光掩模與基板的對(duì)位，能夠使紫外線精度良好地照射到設(shè)定在基板上的目標(biāo)位置。而且，根據(jù)權(quán)利要求10的發(fā)明，能夠由微透鏡將紫外線聚斂到基板上，能夠減小曝光用光源的功率。因此，能夠減輕曝光用光源的負(fù)擔(dān)，使光源的壽命變長(zhǎng)。


圖I是示出根據(jù)本發(fā)明的光掩模的實(shí)施方式的圖，(a)是俯視圖，(b)是(a)的X_X線截面圖。圖2是示出TFT基板的概要構(gòu)成的俯視圖。圖3是示出本發(fā)明的激光退火裝置的概要構(gòu)成的部分截面主視圖。圖4是示出上述激光退火裝置的控制單元的構(gòu)成的框圖。·
圖5是使用設(shè)置于上述TFT基板的引入標(biāo)記來說明TFT基板與光掩模的事先的對(duì)位的俯視圖。圖6是說明光掩模對(duì)移動(dòng)中的TFT基板的跟隨的俯視圖。圖7是示出TFT基板的退火目標(biāo)位置與光掩模的第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置關(guān)系的說明圖。圖8是示出TFT基板的其它退火目標(biāo)位置與光掩模的第2對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置關(guān)系的說明圖。
具體實(shí)施例方式以下，基于附圖詳細(xì)地說明本發(fā)明的實(shí)施方式。圖I是示出根據(jù)本發(fā)明的光掩模的實(shí)施方式的圖，(a)是俯視圖，(b)是(a)的X-X線截面圖。該光掩模I使光選擇性地照射到在一定方向上搬運(yùn)的基板上的多個(gè)位置，上述基板在表面上設(shè)置有多個(gè)圖案，該多個(gè)圖案以一定的排列間距設(shè)置為矩陣狀，上述光掩模I具備多個(gè)掩模圖案2、多個(gè)微透鏡3以及多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4。此外，在此使用的基板是TFT基板8，在該TFT基板8中，如圖2所示，將多個(gè)圖案(以下稱為“像素5”)以排列間距P1配置在由箭頭A示出的基板搬運(yùn)方向上，以排列間距P2配置在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上，沿著各像素5的平行于基板搬運(yùn)方向的緣部形成例如數(shù)據(jù)線6，沿著各像素5的與基板搬運(yùn)方向交叉的緣部形成例如柵極線7。另外，在基板搬運(yùn)方向開頭側(cè)的顯示區(qū)域外設(shè)置有大致十字狀的引入標(biāo)記9，引入標(biāo)記9的中心位置相對(duì)于基板搬運(yùn)方向開頭側(cè)的柵極線7分開距離L1,能夠進(jìn)行光掩模I與TFT基板8的事先的對(duì)位。在此，在沒有引入標(biāo)記9時(shí)，有如下可能不能夠檢測(cè)出成為TFT基板8側(cè)的對(duì)位的基準(zhǔn)的、例如預(yù)先決定的特定的數(shù)據(jù)線6，而錯(cuò)誤地檢測(cè)出其它數(shù)據(jù)線6，在像素5的與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上偏離同方向的排列間距P2的數(shù)個(gè)間距的量進(jìn)行對(duì)位。因此，在TFT基板8中設(shè)置上述引入標(biāo)記9，就能進(jìn)行光掩模I與TFT基板8的事先的對(duì)位，容易地進(jìn)行上述特定的數(shù)據(jù)線6的檢測(cè)。如圖I所示，上述多個(gè)掩模圖案2用于使光選擇性地照射到預(yù)先設(shè)定在TFT基板8上的多個(gè)位置(以下稱為“光照射目標(biāo)位置”)，其是在設(shè)置于透明基板10的表面的遮光膜11中形成的使光通過的一定形狀的開口，以與設(shè)置在TFT基板8上的多個(gè)像素5的排列間距Pp P2相等的排列間距在基板搬運(yùn)方向及其交叉方向上形成為矩陣狀。在本實(shí)施方式中，上述多個(gè)掩模圖案2由與基板搬運(yùn)方向交叉的2列掩模圖案列2A、2B示出。如圖I (b)所示，在上述透明基板10的里面(TFT基板8側(cè))設(shè)置有多個(gè)微透鏡3。該多個(gè)微透鏡3是用于使光聚斂到TFT基板8上的凸透鏡，使光軸與各掩模圖案2的中心一致而配置。在相對(duì)于上述多個(gè)掩模圖案2而與由箭頭A示出的基板搬運(yùn)方向相反一側(cè)的位置上形成的第I 第3窺視窗12A、12B、12C內(nèi)，分別設(shè)置有第I、第2以及第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A、4B、4C。該第I 第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A 4C是用于使光掩模I蜿蜒地跟隨移動(dòng)中的TFT基板8而移動(dòng)，進(jìn)行上述多個(gè)掩模圖案2與TFT基板8上的光照射目標(biāo)位置的對(duì)位的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，在基板搬運(yùn)方向上相互分開距離L2而配置，并且以第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A的與基板搬運(yùn)方向交叉的中心軸和基板搬運(yùn)方向開頭側(cè)的掩模圖案列2A的長(zhǎng)邊方向中心軸形成距離L3的方式形成。而且，第I 第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A 4C分別形成為在一對(duì)細(xì)線4a、4b間設(shè)置有與基 板搬運(yùn)方向傾斜地交叉的一個(gè)細(xì)線4c的結(jié)構(gòu)，上述一對(duì)細(xì)線4a、4b具有與多個(gè)像素5的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的排列間距P2的整數(shù)倍相等的間隔ηΡ2 (η為I以上的整數(shù))，與基板搬運(yùn)方向平行地形成，上述第I 第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4Α 4C形成為如下狀態(tài)第2和第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4B、4C的對(duì)準(zhǔn)的基準(zhǔn)位置(例如一對(duì)細(xì)線4a、4b間的中點(diǎn)位置)以第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A的基準(zhǔn)位置為基準(zhǔn)，在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上分開距離DpD215在該情況下，在本發(fā)明的光掩模I使用于后述的激光退火裝置、曝光裝置中時(shí)，與基板搬運(yùn)方向傾斜地交叉的上述一個(gè)細(xì)線4c用于使光掩模I的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4的與基板搬運(yùn)方向交叉的中心線準(zhǔn)確地對(duì)位到為了檢測(cè)光掩模I的基準(zhǔn)位置和TFT基板8的基準(zhǔn)位置而設(shè)置的線陣相機(jī)17(參照?qǐng)D5)的細(xì)長(zhǎng)狀的受光部24的長(zhǎng)邊方向中心軸。具體地說，基于由線陣相機(jī)17拍攝的一維圖像來檢測(cè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4的上述一對(duì)細(xì)線4a、4b和傾斜細(xì)線4c的位置，運(yùn)算細(xì)線4a、4c間的距離和細(xì)線4c、4b間的距離，以兩個(gè)距離變?yōu)橄嗟鹊姆绞?，通過在基板搬運(yùn)方向上移動(dòng)光掩模I來進(jìn)行光掩模I相對(duì)于線陣相機(jī)17的對(duì)位。另外，上述傾斜細(xì)線4c也能夠以與上述同樣的方式用于設(shè)置于TFT基板8的柵極線7的檢測(cè)。例如，由線陣相機(jī)17對(duì)上述柵極線7進(jìn)行拍攝，運(yùn)算由對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4的三個(gè)細(xì)線4a 4c分割的柵極線7的部分的大小。并且，只要檢測(cè)出柵極線7的細(xì)線4a、4c間的大小與細(xì)線4c、4b間的大小變?yōu)橄嗟鹊臅r(shí)刻，就能夠檢測(cè)出柵極線7與對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的中心線一致的瞬間。因此，只要以柵極線7與對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4的上述中心線一致的瞬間為基準(zhǔn)，測(cè)量TFT基板8的移動(dòng)距離或者移動(dòng)時(shí)間，在該移動(dòng)距離或者移動(dòng)時(shí)間成為預(yù)先決定的一定值時(shí)照射激光或者紫外線，就能夠準(zhǔn)確地使激光或者紫外線照射到TFT基板8上的光照射目標(biāo)位置。而且，上述第I 第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A 4C的基準(zhǔn)位置以與掩模圖案2具有一定的位置關(guān)系的方式形成。例如，在本實(shí)施方式中，如圖I所示，第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A以其平行于基板搬運(yùn)方向的中心線與掩模圖案列2A、2B中的任意相鄰的2個(gè)掩模圖案2的中點(diǎn)位置一致的方式形成，第2對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4B形成為其中心位置相對(duì)于第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A的中心位置在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上偏離距離D1 = P2/2的狀態(tài)。因此，第2對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4B的平行于基板搬運(yùn)方向的中心線與某一個(gè)掩模圖案2的中心一致。另外，第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4C形成為其中心位置相對(duì)于第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A的中心位置在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上偏離距離D2= mP2/4(m為奇數(shù))的狀態(tài)。因此，第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4C的平行于基板搬運(yùn)方向的中心線與從某一個(gè)掩模圖案2的中心起在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上偏離P2/4的位置一致。 此外，在上述第I 第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A 4C中的被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4的基準(zhǔn)位置與設(shè)定于TFT基板8的基準(zhǔn)位置已對(duì)位的狀態(tài)下，上述被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4的一對(duì)細(xì)線4a、4b分別以與上述像素5的平行于基板搬運(yùn)方向的中心線大致一致的方式配置。因此，在使用各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A 4C進(jìn)行了光掩模I與TFT基板8的對(duì)位的狀態(tài)下，各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A 4C的上述一對(duì)細(xì)線4a、4b分別位于從像素5的平行于基板搬運(yùn)方向的左右的緣部充分地分開的像素5的大致中心線上，因此，與沿著像素5的緣部設(shè)置的數(shù)據(jù)線6不干擾，上述細(xì)線4a、4b的檢測(cè)變得容易。因此，各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A 4C的基準(zhǔn)位置的算出變得容易。此外，各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A 4C的基準(zhǔn)位置不限于一對(duì)細(xì)線4a、4b間的中點(diǎn)位置，也可以定為將上述一對(duì)細(xì)線4a、4b間以一定的比例內(nèi)分的位置,或者也可以將一對(duì)細(xì)線4a、4b中的任何一方定為基準(zhǔn)位置。另外，在上述實(shí)施方式中，說明了與掩模圖案2對(duì)應(yīng)地在TFT基板8側(cè)設(shè)置有微透 鏡3的情況，但本發(fā)明不限于此，也可以沒有微透鏡3。在將本發(fā)明的光掩模I用于激光退火的情況下，能夠使激光能量聚斂，因此設(shè)置有微透鏡3時(shí)更有效。另外，在用于曝光的情況下，不一定需要微透鏡3。但是，在設(shè)置有微透鏡3時(shí)，能夠?qū)⒀谀D案2縮小投影到基板上，能夠提高曝光圖案的分辨率。而且，在上述實(shí)施方式中，說明了設(shè)置有2列掩模圖案列2A、2B的情況，但本發(fā)明不限于此，掩模圖案列可以是I列，也可以設(shè)置3列以上。接著，說明使用了根據(jù)本發(fā)明的光掩模I的激光退火裝置。圖3是示出本發(fā)明的激光退火裝置的概要構(gòu)成的部分截面主視圖。該激光退火裝置進(jìn)行在箭頭A方向上搬運(yùn)的例如TFT基板8和與該TFT基板8相對(duì)配置的光掩模I的對(duì)位來對(duì)TFT基板8上的多個(gè)位置選擇性地照射激光21，對(duì)形成于TFT基板8的非晶硅的薄膜進(jìn)行退火來實(shí)現(xiàn)多晶硅化，上述TFT基板8在表面上設(shè)置有多個(gè)像素5，該多個(gè)像素5以一定的排列間距設(shè)置為矩陣狀，上述激光退火裝置具備搬運(yùn)單元13、激光源14、耦合光學(xué)系統(tǒng)15、掩模載置臺(tái)16、線陣相機(jī)17、對(duì)準(zhǔn)單元18以及控制單元19而構(gòu)成。上述搬運(yùn)單元13將TFT基板8載置于上表面，例如在如圖3所示的箭頭A方向上以一定速度搬運(yùn)，具備氣動(dòng)載置臺(tái)20，該氣動(dòng)載置臺(tái)20在上表面具有噴出氣體的多個(gè)噴出孔和抽吸氣體的多個(gè)抽吸孔，上述搬運(yùn)單元13在利用氣體的噴出與抽吸的平衡使TFT基板8以一定量浮在氣動(dòng)載置臺(tái)20上的狀態(tài)下，利用省略圖示的搬運(yùn)輥把持TFT基板8的兩個(gè)端緣部來搬運(yùn)，具備省略圖示的位置傳感器、速度傳感器。在上述搬運(yùn)單元13的上方設(shè)置有激光源14。該激光源14是以例如50Hz的重復(fù)周期發(fā)射例如波長(zhǎng)為308nm或者353nm的激光21的準(zhǔn)分子激光器。在從上述激光源14發(fā)射的激光21的光路上設(shè)置有稱合光學(xué)系統(tǒng)15。該稱合光學(xué)系統(tǒng)15擴(kuò)大激光21的光束直徑,并且使光束在橫截面內(nèi)的強(qiáng)度分布均勻來照射光掩模I,具備例如多個(gè)蠅眼透鏡、多個(gè)聚光透鏡而構(gòu)成。在上述耦合光學(xué)系統(tǒng)15的激光21的前進(jìn)方向下游側(cè)設(shè)置有掩模載置臺(tái)16。該掩模載置臺(tái)16保持光掩模I，使光掩模I與TFT基板8接近并相對(duì)，在中央部形成開口部22，把持光掩模I的周緣部。并且，利用例如馬達(dá)等驅(qū)動(dòng)單元23，能夠在如圖3所示的箭頭B、C方向上移動(dòng)。與上述掩模載置臺(tái)16所保持的光掩模I的第I 第3窺視窗12A 12C中的一個(gè)窺視窗(在圖3中，為第2窺視窗12B)相對(duì)而在搬運(yùn)單元13側(cè)設(shè)置有線陣相機(jī)17。該線陣相機(jī)17從下邊透過TFT基板8來對(duì)TFT基板8的表面和光掩模I的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4進(jìn)行拍攝，輸出這些一維圖像，上述線陣相機(jī)17具備將多個(gè)受光元件排成一個(gè)直線而形成的細(xì)長(zhǎng)狀的受光部24 (參照?qǐng)D5)，使該受光部24的長(zhǎng)邊方向中心軸與上述第I 第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A 4C中的被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4(在圖3中，示出選擇了第2對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4B的情況)的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的中心線一致而配置。另外，與線陣相機(jī)17相對(duì)，在掩模載置臺(tái)16的上方設(shè)置有照明用光源25，能夠?qū)€陣相機(jī)17的拍攝位置進(jìn)行照明。設(shè)置有對(duì)準(zhǔn)單元18，該對(duì)準(zhǔn)單元18能在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上移動(dòng)上述掩模載置臺(tái)16。該對(duì)準(zhǔn)單元18用于進(jìn)行TFT基板8與光掩模I的對(duì)位，包括例如直線馬 達(dá)、電磁致動(dòng)器、或者軌和馬達(dá)等。設(shè)置有控制單元19，其與上述搬運(yùn)單元13、激光源14、掩模載置臺(tái)16、線陣相機(jī)17以及對(duì)準(zhǔn)單元18連接。該控制單元19根據(jù)預(yù)先設(shè)定在TFT基板8上的多個(gè)退火目標(biāo)位置使光掩模I在基板搬運(yùn)方向上移動(dòng)，從第I 第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A 4C中選擇一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4，進(jìn)行該一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4與預(yù)先設(shè)定在TFT基板8上的基準(zhǔn)位置的對(duì)位，然后使激光21照射光掩模I來對(duì)基板上的多個(gè)退火目標(biāo)位置進(jìn)行退火處理，上述控制單元19具備如圖4所示的圖像處理部26、存儲(chǔ)器27、運(yùn)算部28、搬運(yùn)單元驅(qū)動(dòng)控制器29、掩模載置臺(tái)驅(qū)動(dòng)控制器30、對(duì)準(zhǔn)單元驅(qū)動(dòng)控制器31、激光源驅(qū)動(dòng)控制器32以及控制部33。在此，圖像處理部26對(duì)由線陣相機(jī)17拍攝的一維圖像進(jìn)行實(shí)時(shí)處理來檢測(cè)線陣相機(jī)17的細(xì)長(zhǎng)狀的受光部24的長(zhǎng)邊方向上的亮度變化，檢測(cè)在TFT基板8的數(shù)據(jù)線6上設(shè)定的基準(zhǔn)位置和光掩模I的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4的一對(duì)細(xì)線4a、4b的位置，并且根據(jù)線陣相機(jī)17的輸出中的基板搬運(yùn)方向的亮度變化，檢測(cè)TFT基板8的引入標(biāo)記9的與基板搬運(yùn)方向交叉的細(xì)線9a (參照?qǐng)D2)。另外，存儲(chǔ)器27存儲(chǔ)設(shè)定于光掩模I的尺寸L2、L3 (參照?qǐng)DI)、設(shè)定于TFT基板8的尺寸U、P1 (參照?qǐng)D2)、與第I 第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A 4C對(duì)應(yīng)的對(duì)準(zhǔn)的目標(biāo)值Ds1、Ds2以及從檢測(cè)出TFT基板8的引入標(biāo)記9的與基板搬運(yùn)方向交叉的細(xì)線9a起，到使激光源14點(diǎn)亮為止，TFT基板8移動(dòng)的距離的目標(biāo)值Ls，并且暫時(shí)存儲(chǔ)后述的運(yùn)算部28的運(yùn)算結(jié)果。此外，上述對(duì)準(zhǔn)的目標(biāo)值Ds1是對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4的基準(zhǔn)位置與基板的引入標(biāo)記9的中心位置之間的距離的目標(biāo)值，目標(biāo)值Ds2是對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4的基準(zhǔn)位置與設(shè)定于基板的基準(zhǔn)位置、例如特定的數(shù)據(jù)線6的中心位置之間的距離的目標(biāo)值。而且，運(yùn)算部28運(yùn)算由圖像處理部26檢測(cè)出的TFT基板8的基準(zhǔn)位置與光掩模I中的被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4的基準(zhǔn)位置之間的距離D，并且基于搬運(yùn)單元13的位置傳感器的輸出，運(yùn)算TFT基板8的移動(dòng)距離L。并且，搬運(yùn)單元驅(qū)動(dòng)控制器29以將TFT基板8以預(yù)先決定的速度搬運(yùn)的方式利用一定周期的脈沖控制搬運(yùn)單元13的驅(qū)動(dòng)。另外，掩模載置臺(tái)驅(qū)動(dòng)控制器30用于使掩模載置臺(tái)16在圖3中的箭頭B、C方向上移動(dòng)來從形成于光掩模I的第I 第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A 4C中選擇一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4，驅(qū)動(dòng)設(shè)置于掩模載置臺(tái)16的驅(qū)動(dòng)單元23。而且，對(duì)準(zhǔn)單元驅(qū)動(dòng)控制器31將由運(yùn)算部28運(yùn)算出的TFT基板8的基準(zhǔn)位置和光掩模I中的被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4的基準(zhǔn)位置之間的距離D與從存儲(chǔ)器27讀出的對(duì)準(zhǔn)的目標(biāo)值DSl、DS2比較，以兩者一致的方式驅(qū)動(dòng)對(duì)準(zhǔn)單元18，使光掩模I在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上移動(dòng)。而且，激光源驅(qū)動(dòng)控制器32控制激光源14的點(diǎn)亮和熄滅。并且，控制部33以上述各構(gòu)成要素恰當(dāng)?shù)貏?dòng)作的方式綜合控制整體。接著，說明這樣構(gòu)成的激光退火裝置的動(dòng)作。首先，在控制單元19的存儲(chǔ)器27中存儲(chǔ)需要的信息，進(jìn)行初始設(shè)定。另外，由控制單元19的掩模載置臺(tái)驅(qū)動(dòng)控制器30驅(qū)動(dòng)掩模載置臺(tái)16的驅(qū)動(dòng)單元23，將掩模載置臺(tái)16 在圖3所示的箭頭B方向上移動(dòng)距離L2。由此，第I窺視窗12A位于線陣相機(jī)17的上方，選擇第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A。這時(shí)，基于由線陣相機(jī)17拍攝的一維圖像，由圖像處理部26根據(jù)線陣相機(jī)17的細(xì)長(zhǎng)狀的受光部24的長(zhǎng)邊方向上的亮度變化檢測(cè)第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A的一對(duì)細(xì)線4a、4b和傾斜細(xì)線4c的位置，由運(yùn)算部28運(yùn)算細(xì)線4a、4c間的距離和細(xì)線4c、4b間的距離，以兩個(gè)距離變?yōu)橄嗟鹊姆绞接裳谀］d置臺(tái)驅(qū)動(dòng)控制器30對(duì)掩模載置臺(tái)16的向基板搬運(yùn)方向的移動(dòng)進(jìn)行微調(diào)整，進(jìn)行線陣相機(jī)17的受光部24的長(zhǎng)邊方向中心軸與光掩模I的第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的中心線的準(zhǔn)確的對(duì)位。接著，搬運(yùn)單元13在將表面形成有非晶硅的薄膜的TFT基板8以圖2所示的引入標(biāo)記9成為在圖3中由箭頭A示出的基板搬運(yùn)方向開頭側(cè)的方式載置到氣動(dòng)載置臺(tái)20的上表面的狀態(tài)下，在箭頭A方向上以一定速度開始搬運(yùn)。當(dāng)搬運(yùn)TFT基板8而上述引入標(biāo)記9達(dá)到形成于光掩模I的第I窺視窗12A的下側(cè)時(shí)開始由線陣相機(jī)17進(jìn)行的拍攝，從線陣相機(jī)17以一定的時(shí)間間隔輸出拍攝圖像。將該拍攝圖像輸入到控制單元19的圖像處理部26進(jìn)行圖像處理，根據(jù)線陣相機(jī)17的細(xì)長(zhǎng)狀的受光部24的長(zhǎng)邊方向上的亮度變化，檢測(cè)TFT基板8的引入標(biāo)記9的平行于基板搬運(yùn)方向的細(xì)線9b (參照?qǐng)D2)的位置和第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A的一對(duì)細(xì)線4a、4b的位置。在運(yùn)算部28中，基于由圖像處理部26檢測(cè)出的上述引入標(biāo)記9的細(xì)線9b的位置數(shù)據(jù)與第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A的一對(duì)細(xì)線4a、4b的位置數(shù)據(jù)，運(yùn)算上述引入標(biāo)記9的上述細(xì)線9b的平行于基板搬運(yùn)方向的中心線與第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A的基準(zhǔn)位置(例如中心位置)之間的距離D，將其與存儲(chǔ)器27所存儲(chǔ)的對(duì)準(zhǔn)的目標(biāo)值Ds1比較。接著，對(duì)準(zhǔn)單元驅(qū)動(dòng)控制器31以上述距離D與對(duì)準(zhǔn)的目標(biāo)值Ds1 —致的方式對(duì)對(duì)準(zhǔn)單元18進(jìn)行驅(qū)動(dòng)控制來將光掩模I在圖5中的箭頭E、F方向上移動(dòng)，事先將TFT基板8與光掩模I對(duì)位。另外，在圖像處理部26中，處理由線陣相機(jī)17拍攝的一維圖像，根據(jù)沿著基板搬運(yùn)方向的亮度變化，檢測(cè)引入標(biāo)記9的與基板搬運(yùn)方向交叉的細(xì)線9a。另外，在運(yùn)算部28中，基于設(shè)置于搬運(yùn)單元13的位置傳感器的輸出，檢測(cè)出上述細(xì)線9a后運(yùn)算TFT基板8移動(dòng)的距離L，將該距離L與存儲(chǔ)器27所存儲(chǔ)的TFT基板8的移動(dòng)距離的目標(biāo)值Ls (在本實(shí)施方式中，Ls = LJL3)比較，當(dāng)兩者一致而圖6所示TFT基板8的多個(gè)數(shù)據(jù)線6和多個(gè)柵極線7的交叉部與光掩模I的多個(gè)掩模圖案2的中心一致時(shí)，將激光源14的點(diǎn)亮指令輸出到激光源驅(qū)動(dòng)控制器32。激光源驅(qū)動(dòng)控制器32接收到上述點(diǎn)亮指令時(shí)使激光源14點(diǎn)亮一定時(shí)間。由此，如圖7所示，光掩模I的微透鏡3將激光21聚斂到TFT基板8的數(shù)據(jù)線6和柵極線7的交叉部，對(duì)該交叉部的非晶硅膜進(jìn)行退火處理，進(jìn)行多晶硅化。之后，以與上述同樣的方式，基于由線陣相機(jī)17拍攝的拍攝圖像，例如選擇與在線陣相機(jī)17的受光部24中預(yù)先決定的基準(zhǔn)位置接近的TFT基板8的數(shù)據(jù)線6作為特定的數(shù)據(jù)線6，檢測(cè)該特定的數(shù)據(jù)線6的位置和第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A的一對(duì)細(xì)線4a、4b的位置。并且，運(yùn)算該特定的數(shù)據(jù)線6的中心線與第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A的基準(zhǔn)位置(例如中心位置)之間的距離D，以該距離D與存儲(chǔ)器27所存儲(chǔ)的對(duì)準(zhǔn)的目標(biāo)值Ds2 —致的方式驅(qū)動(dòng)對(duì)準(zhǔn)單元18來將光掩模I在圖6所示的箭頭E、F方向上移動(dòng)，進(jìn)行TFT基板8與光掩模I的對(duì)位。由此，能夠使光掩模I跟隨移動(dòng)中的TFT基板8。在該情況下，如圖7所示，第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A的一對(duì)細(xì)線4a、4b位于TFT基板8的像素5的離平行于基板搬運(yùn)方向(箭頭A方向)的兩個(gè)緣部最遠(yuǎn)的平行于箭頭A方向的中·心線上。因此，上述一對(duì)細(xì)線4a、4b與沿著像素5的上述緣部設(shè)置的數(shù)據(jù)線6不干擾，能容易地檢測(cè)。因此，第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4的基準(zhǔn)位置的算出變得容易，能夠使光掩模I準(zhǔn)確地跟隨移動(dòng)中的TFT基板8。這樣，一邊使光掩模I跟隨移動(dòng)中的TFT基板8，一邊在TFT基板8每移動(dòng)2Pi (P1為像素5的基板搬運(yùn)方向的排列間距)時(shí)由激光源驅(qū)動(dòng)控制器32使激光源14點(diǎn)亮一定時(shí)間。由此，能夠?qū)FT基板8上的全部的退火目標(biāo)位置34的非晶硅膜進(jìn)行退火處理來實(shí)現(xiàn)
多晶硅化。接著，說明對(duì)退火目標(biāo)位置34不同的其它TFT基板8，使用相同的光掩模I來進(jìn)行激光退火處理的情況。在該情況下，在像素5的上述退火目標(biāo)位置34如圖8所示是與平行于的基板搬運(yùn)方向(箭頭A方向)的中心線一致的柵極線7上的位置時(shí)，只要將光掩模I在與基板搬運(yùn)方向(箭頭A方向)交叉的方向上向同方向移動(dòng)像素5的排列間距P2的半間距(P2/2)即可。然而，在該情況下，如圖8所示，第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A的一對(duì)細(xì)線4a、4b與TFT基板8的數(shù)據(jù)線6干擾，因此不能夠由線陣相機(jī)17將上述細(xì)線4a、4b與數(shù)據(jù)線6分離來檢測(cè)。因此，不能夠算出第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A的基準(zhǔn)位置，不能夠使光掩模I跟隨移動(dòng)中的TFT基板8。因此，在這樣的情況下，在本發(fā)明中，由掩模載置臺(tái)驅(qū)動(dòng)控制器30對(duì)驅(qū)動(dòng)單元23進(jìn)行驅(qū)動(dòng)來將掩模載置臺(tái)16在圖3所示的箭頭C方向上移動(dòng)距離L2，將由線陣相機(jī)17檢測(cè)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4從第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A切換為第2對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4B。在此，第2對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4B是使第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A在與基板搬運(yùn)方向(箭頭A方向)交叉的方向上偏離D1 = P2/2而設(shè)置的，因此，如圖8所示，第2對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4B的一對(duì)細(xì)線4a、4b位于像素5的平行于基板搬運(yùn)方向(箭頭A方向)的中心線上，第2對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4B的檢測(cè)變得容易。因此，能夠使用第2對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4B來使光掩模I跟隨移動(dòng)中的TFT基板8，對(duì)退火目標(biāo)位置34不同的TFT基板8也能夠使用相同的光掩模I來位置精度良好地進(jìn)行退火處理。而且，在對(duì)與上述任意的退火目標(biāo)位置34均不同的目標(biāo)位置進(jìn)行退火處理的情·況下，只要與該目標(biāo)位置對(duì)應(yīng)地選擇形成于光掩模I的第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4C即可。在該情況下，在進(jìn)行了 TFT基板8與光掩模I的對(duì)位的狀態(tài)下，第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4C的一對(duì)細(xì)線4a、4b也位于與像素5的平行于基板搬運(yùn)方向的兩個(gè)緣部分開的像素5的中途，一對(duì)細(xì)線4a、4b與數(shù)據(jù)線6不干擾，第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4C的檢測(cè)變得容易，能夠使光掩模I跟隨移動(dòng)中的TFT基板8。此外，在上述實(shí)施方式中，說明了基板是TFT基板8的情況，但本發(fā)明不限于此，只要是要對(duì)基板上的多個(gè)位置照射激光21來對(duì)表面上覆蓋的薄膜進(jìn)行退火處理的基板即可，可以是任何基板。另外，在上述實(shí)施方式中，說明了將本發(fā)明的光掩模I應(yīng)用于激光退火裝置的情況，但不限于激光退火裝置，也能夠應(yīng)用于對(duì)涂敷在基板上的感光材料進(jìn)行曝光的曝光裝置。在該情況下，只要將上述激光退火裝置的激光源14置換為發(fā)射紫外線的氙氣燈、超高壓水銀燈、或者包括發(fā)射紫外線的激光源的曝光用光源即可。由此，能夠根據(jù)預(yù)先設(shè)定在基板上的多個(gè)曝光目標(biāo)位置將光掩模I在基板搬運(yùn)方向上移動(dòng)來從多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4中選擇一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4，進(jìn)行該一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4的基準(zhǔn)位置與預(yù)先設(shè)定在基板上的基準(zhǔn)位置的對(duì)位，然后對(duì)光掩模I照射紫外線來曝光基板上的多個(gè)曝光目標(biāo)位置?！ぴ谠撉闆r下，將光掩模I的掩模圖案列設(shè)置多列，在基板搬運(yùn)方向開頭側(cè)的曝光目標(biāo)位置與光掩模I的多個(gè)掩模圖案列中的基板搬運(yùn)方向跟前側(cè)的掩模圖案列的各掩模圖案2 —致時(shí)，照射一定時(shí)間紫外線，并且，其后只要在基板每移動(dòng)與掩模圖案2的基板搬運(yùn)方向的排列間距P1相等的距離時(shí)，照射一定時(shí)間紫外線，就能夠?qū)ι鲜銎毓饽繕?biāo)位置進(jìn)行多重曝光。因此，能夠降低曝光用光源的功率來減輕光源的負(fù)擔(dān)，能夠使光源的壽命變長(zhǎng)。并且，在以上的說明中，說明了在進(jìn)行光掩模I與基板的對(duì)位時(shí)，將光掩模I側(cè)在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上移動(dòng)的情況，但本發(fā)明不限于此，也可以移動(dòng)基板側(cè)，還可以移動(dòng)光掩模I與基板兩者。附圖標(biāo)記說明I…光掩模2…掩模圖案3…微透鏡4…對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4A…第I對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4B…第2對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4C…第3對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記4a、4b、4c…對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的細(xì)線5…像素(設(shè)置于基板的圖案)8··· TFT 基板(基板)16…掩模載置臺(tái)17…線陣相機(jī)18…對(duì)準(zhǔn)單元
權(quán)利要求
1.一種光掩模， 使光選擇性地照射到在一定方向上搬運(yùn)的基板上的多個(gè)位置，在上述基板的表面上設(shè)置有多個(gè)圖案，該多個(gè)圖案以一定的排列間距設(shè)置為矩陣狀，上述光掩模的特征在于設(shè)置有 多個(gè)掩模圖案，其在與上述基板的搬運(yùn)方向交叉的方向上以一定的排列間距形成，使光通過；以及 多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其形成為各具備一對(duì)細(xì)線的結(jié)構(gòu)，相對(duì)于上述多個(gè)掩模圖案配置在與上述基板搬運(yùn)方向相反一側(cè)的位置，在基板搬運(yùn)方向上相互分開一定距離，并且形成為預(yù)先設(shè)定在上述一對(duì)細(xì)線間的基準(zhǔn)位置在與上述基板搬運(yùn)方向交叉的方向上相互偏離預(yù)先決定的距離的狀態(tài)，上述一對(duì)細(xì)線具有與設(shè)置在上述基板上的多個(gè)圖案的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的排列間距的整數(shù)倍相等的間隔，與上述基板搬運(yùn)方向平行地形成。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光掩模，其特征在于， 在上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的被選擇的一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置與設(shè)定于上述基板的基準(zhǔn)位置已對(duì)位的狀態(tài)下，上述被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線以與設(shè)置于上述基板的像素的平行于基板搬運(yùn)方向的中心線大致一致的方式配置。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光掩模，其特征在于， 與上述各掩模圖案對(duì)應(yīng)地在上述基板側(cè)形成有多個(gè)微透鏡。
4.根據(jù)權(quán)利要求I至3中的任一項(xiàng)所述的光掩模，其特征在于， 上述多個(gè)掩模圖案在基板搬運(yùn)方向及其交叉方向上以一定的排列間距形成為矩陣狀。
5.一種激光退火裝置， 進(jìn)行在一定方向上搬運(yùn)的基板和與該基板相對(duì)配置的光掩模的對(duì)位來對(duì)上述基板上的多個(gè)位置選擇性地照射激光，對(duì)形成于上述基板的薄膜進(jìn)行退火處理，在上述基板的表面上設(shè)置有多個(gè)圖案，該多個(gè)圖案以一定的排列間距設(shè)置為矩陣狀，上述激光退火裝置的特征在于具備 掩模載置臺(tái)，其保持光掩模，并且能使上述光掩模在基板搬運(yùn)方向上移動(dòng)來從多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，上述光掩模設(shè)置有多個(gè)掩模圖案和上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，上述多個(gè)掩模圖案在與上述基板的搬運(yùn)方向交叉的方向上以一定的排列間距形成，使激光通過，上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成為各具備一對(duì)細(xì)線的結(jié)構(gòu)，相對(duì)于上述多個(gè)掩模圖案配置在與上述基板搬運(yùn)方向相反一側(cè)的位置，在基板搬運(yùn)方向上相互分開一定距離，并且形成為預(yù)先設(shè)定在上述一對(duì)細(xì)線間的基準(zhǔn)位置在與上述基板搬運(yùn)方向交叉的方向上相互偏離預(yù)先決定的距離的狀態(tài)，上述一對(duì)細(xì)線具有與設(shè)置在上述基板上的多個(gè)圖案的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的排列間距的整數(shù)倍相等的間隔，與上述基板搬運(yùn)方向平行地形成； 線陣相機(jī)，其使細(xì)線狀的受光部的長(zhǎng)邊方向中心軸與從上述光掩模的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的在與上述基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的中心線一致而配置；以及 對(duì)準(zhǔn)單元，其以上述被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置與預(yù)先設(shè)定于上述基板的基準(zhǔn)位置的位置關(guān)系成為預(yù)先決定的關(guān)系的方式，將上述基板與上述光掩模在與上述基板搬運(yùn)方向交叉的方向上相對(duì)地移動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的激光退火裝置，其特征在于， 在設(shè)置于上述光掩模的上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的被選擇的一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置與設(shè)定于上述基板的基準(zhǔn)位置已對(duì)位的狀態(tài)下，上述被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線以與設(shè)置于上述基板的像素的平行于基板搬運(yùn)方向的中心線大致一致的方式配置。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的激光退火裝置，其特征在于， 上述光掩模，與上述各掩模圖案對(duì)應(yīng)地在上述基板側(cè)形成有多個(gè)微透鏡。
8.—種曝光裝置， 進(jìn)行在一定方向上搬運(yùn)的基板和與該基板相對(duì)配置的光掩模的對(duì)位來對(duì)上述基板上的多個(gè)位置選擇性地照射紫外線，對(duì)涂敷在上述基板上的感光材料進(jìn)行曝光，在上述基板的表面上設(shè)置有多個(gè)圖案，該多個(gè)圖案以一定的排列間距設(shè)置為矩陣狀，上述曝光裝置的特征在于具備 掩模載置臺(tái)，其保持光掩模，并且能使上述光掩模在基板搬運(yùn)方向上移動(dòng)來從多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，上述光掩模設(shè)置有多個(gè)掩模圖案和上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，上述多個(gè)掩模圖案在與上述基板的搬運(yùn)方向交叉的方向上以一定的排列間距形成，使紫外線通過，上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成為各具備一對(duì)細(xì)線的結(jié)構(gòu)，相對(duì)于上述多個(gè)掩模圖案配置在與上述基板搬運(yùn)方向相反一側(cè)的位置，在基板搬運(yùn)方向上相互分開一定距離，并且形成為預(yù)先設(shè)定在上述一對(duì)細(xì)線間的基準(zhǔn)位置在與上述基板搬運(yùn)方向交叉的方向上相互偏離預(yù)先決定的距離的狀態(tài)，上述一對(duì)細(xì)線具有與設(shè)置在上述基板上的多個(gè)圖案的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的排列間距的整數(shù)倍相等的間隔，與上述基板搬運(yùn)方向平行地形成； 線陣相機(jī)，其使細(xì)線狀的受光部的長(zhǎng)邊方向中心軸與從上述光掩模的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的在與上述基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的中心線一致而配置；以及 對(duì)準(zhǔn)單元，其以上述被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置與預(yù)先設(shè)定于上述基板的基準(zhǔn)位置的位置關(guān)系成為預(yù)先決定的關(guān)系的方式，將上述基板與上述光掩模在與上述基板搬運(yùn)方向交叉的方向上相對(duì)地移動(dòng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的曝光裝置，其特征在于， 在設(shè)置于上述光掩模的上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中的被選擇的一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)位置與設(shè)定于上述基板的基準(zhǔn)位置已對(duì)位的狀態(tài)下，上述被選擇的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一對(duì)細(xì)線以與設(shè)置于上述基板的像素的平行于基板搬運(yùn)方向的中心線大致一致的方式配置。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的曝光裝置，其特征在于， 上述光掩模，與上述各掩模圖案對(duì)應(yīng)地在上述基板側(cè)形成有多個(gè)微透鏡。
全文摘要
本發(fā)明具備多個(gè)掩模圖案(2)，其在與基板的搬運(yùn)方向交叉的方向上以一定的排列間距形成，使光通過；以及多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(4)，其形成為各具備一對(duì)細(xì)線(4a、4b)的結(jié)構(gòu)，相對(duì)于多個(gè)掩模圖案2配置在與基板搬運(yùn)方向相反一側(cè)的位置，在基板搬運(yùn)方向上相互分開一定距離，并且形成為預(yù)先設(shè)定在一對(duì)細(xì)線(4a、4b)間的基準(zhǔn)位置在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上相互偏離預(yù)先決定的距離的狀態(tài)，一對(duì)細(xì)線(4a、4b)具有與設(shè)置在基板上的多個(gè)圖案的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上的排列間距的整數(shù)倍相等的間隔，與基板搬運(yùn)方向平行地形成。由此，在對(duì)同種基板的在與基板搬運(yùn)方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情況下，也會(huì)使對(duì)移動(dòng)中的基板的跟隨性變得良好。
文檔編號(hào)H01L21/027GK102947760SQ20118002963
公開日2013年2月27日 申請(qǐng)日期2011年5月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月17日
發(fā)明者畑中誠(chéng), 巖本正實(shí), 橋本和重 申請(qǐng)人:株式會(huì)社V技術(shù)