專利名稱：一種頂發(fā)光oled器件及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種頂發(fā)光OLED器件及其制備方法。
背景技術(shù)：
OLED具有主動發(fā)光、電壓需求低且省電效率高的特點，加上反應(yīng)快、重量輕、厚度薄，構(gòu)造簡單，成本低等優(yōu)點，被視為21世紀(jì)最具前途的產(chǎn)品之一，OLED包括頂發(fā)光型、底發(fā)光型等。常規(guī)的OLED器件都制作在玻璃基板上或者柔性襯底上，其基本結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在襯底上的陽極、功能層、有機層和陰極，功能層包括設(shè)置于陽極與有機層間的空穴注入層和空穴傳輸層以及設(shè)置于陰極與有機層間的電子注入層和電子傳輸層。當(dāng)施加正向外加偏壓，空穴與電子克服界面能壘后，經(jīng)由陽極和陰極注入，在有發(fā)光特性的有機層內(nèi)復(fù)合，形成處于激發(fā)態(tài)的激子，此激發(fā)態(tài)在一般的環(huán)境中是不穩(wěn)定的，能量將以光或熱的形式釋放出來而回到穩(wěn)定的基態(tài)，因此電致發(fā)光是一個電流驅(qū)動的現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種頂發(fā)光OLED器件及其制備方法，該制備方法節(jié)省材料、成本低廉，所制備的頂發(fā)光OLED器件具有更好的散熱性能。為達到上述目的，本發(fā)明采用了以下技術(shù)方案一種頂發(fā)光OLED器件，包括電極基板以及設(shè)置于電極基板上的氧化層和第一功能層，所述第一功能層設(shè)置于電極基板上未設(shè)置氧化層的區(qū)域，第一功能層上設(shè)置有有機層，有機層上設(shè)置有第二功能層，第二功能層以及氧化層上設(shè)置有電極，所述電極基板采用導(dǎo)電材料，所述導(dǎo)電材料包括金屬或者合金。所述電極的厚度為10 80nm。所述電極的材料包括透明導(dǎo)電氧化物、金屬或者合金。一種制備上述頂發(fā)光OLED器件的方法，包括以下步驟1)將經(jīng)過切割、打磨、拋光后得到的電極基板進行清洗；2)清洗后，在電極基板上的部分區(qū)域制備氧化層；3)對制備有氧化層的電極基板進行清洗、烘干；4)烘干后，在電極基板上未制備氧化層的區(qū)域蒸鍍第一功能層，在第一功能層上依次蒸鍍有機層和第二功能層，在第二功能層和氧化層上蒸鍍電極；5)測試。所述第一功能層由電子注入層和電子傳輸層組成，第二功能層由空穴注入層和空穴傳輸層組成，或者，第一功能層由空穴注入層和空穴傳輸層組成，第二功能層由電子注入層和電子傳輸層組成。本發(fā)明所述頂發(fā)光OLED器件以導(dǎo)電材料作為電極基板，電極基板既是襯底又是電極，省去了在襯底上制備電極的工序，可以在襯底上直接制備功能層，不僅節(jié)省了制備成本，簡化了制備工序，而且提高了器件的散熱性能。


圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖，圖1中電極基板1、氧化層2、第一功能層3-1，第二功能層3-2，有機層4、電極5。圖2為本發(fā)明制備的頂發(fā)光OLED器件的發(fā)光效果圖。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步說明。參見圖1，一種頂發(fā)光OLED器件，包括電極基板1以及設(shè)置于電極基板1上的氧化層2和第一功能層3-1，所述第一功能層3-1設(shè)置于電極基板1上未設(shè)置氧化層2的區(qū)域，第一功能層3-1上設(shè)置有有機層4，有機層4上設(shè)置有第二功能層3-2，第二功能層3-2 以及氧化層2上設(shè)置有電極5，所述電極基板1采用導(dǎo)電材料，所述導(dǎo)電材料包括金屬(如鋁、銅、金、銀)或者合金，金屬和合金的使用有利于進一步提高器件的散熱性能，所述電極 5的厚度為10 80nm，有利于透光，所述電極5的材料包括透明導(dǎo)電氧化物(如氧化銦錫、 氧化銦鋅等)、金屬(如鋁、銀等)或者合金(鈣鋁合金、鋇鋁合金、鎂銀合金等)等各種導(dǎo)電材料。一種制備上述頂發(fā)光OLED器件的方法，包括以下步驟1)將經(jīng)過切割、打磨、拋光后得到的電極基板1進行清洗；2)清洗后，在電極基板1上的部分區(qū)域制備氧化層2 ；3)對制備有氧化層2的電極基板1進行清洗、烘干；4)烘干后，在電極基板1上未制備氧化層2的區(qū)域蒸鍍第一功能層3-1，在第一功能層上依次蒸鍍有機層4和第二功能層3-2，在第二功能層3-2和氧化層2上蒸鍍電極5 ；5)測試。若將電極基板用作陰極，則蒸鍍在電極基板上的所述第一功能層3-1由電子注入層和電子傳輸層組成，而蒸鍍于有機層上的第二功能層3-2由空穴注入層和空穴傳輸層組成，或者，若將電極基板用作陽極，則蒸鍍在電極基板上的第一功能層3-1由空穴注入層和空穴傳輸層組成，而蒸鍍于有機層上的第二功能層3-2由電子注入層和電子傳輸層組成。實施例該OLED器件采用頂發(fā)光結(jié)構(gòu)，具體為Al (厚度 15nm，可透光)/MoO3(厚度 60nm)/NPB(厚度 40nm)/Alci3 :CM5T(厚度 40nm) /Alq3 (厚度 20nm) /LiF (厚度 lnm) / 鋁基板制作過程的主要步驟為1)鋁制的基板進行設(shè)計、切割、打磨、拋光、清洗后得到電極基板；2)鋁基板上局部進行鋁硬質(zhì)陽極氧化；3)鋁硬質(zhì)陽極氧化后清洗鋁基板，然后烘干；4)烘干后放入真空鍍膜機中；5)當(dāng)真空鍍膜機的真空室內(nèi)氣壓達到10_4Pa時，在鋁基板上未進行鋁硬質(zhì)陽極氧化的區(qū)域依次蒸鍍電子注入層LiF，電子傳輸層Alq3，有機層=C545T,空穴傳輸層NPB，空穴注入層MoO3,最后在空穴注入層以及氧化層上蒸鍍陽極Al ；6)測試(見圖2)，為便于器件的測試，使用設(shè)計好的掩膜板，因此在電極基板上的部分區(qū)域制備氧化層防止電極與電極基板發(fā)生短路，氧化層覆蓋的區(qū)域不發(fā)光。采用鋁基板作為襯底和電極，節(jié)省了材料，提高了器件的散熱性能。
權(quán)利要求
1.一種頂發(fā)光OLED器件，其特征在于包括電極基板(1)以及設(shè)置于電極基板(1)上的氧化層(2)和第一功能層(3-1)，所述第一功能層(3-1)設(shè)置于電極基板(1)上未設(shè)置氧化層O)的區(qū)域，第一功能層(3-1)上設(shè)置有有機層G)，有機層(4)上設(shè)置有第二功能層(3-2)，第二功能層(3-2)以及氧化層( 上設(shè)置有電極(5)，所述電極基板(1)采用導(dǎo)電材料，所述導(dǎo)電材料包括金屬或者合金。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種頂發(fā)光OLED器件，其特征在于所述電極(5)的厚度為 10 80nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種頂發(fā)光OLED器件，其特征在于所述電極( 的材料包括透明導(dǎo)電氧化物、金屬或者合金。
4.一種制備如權(quán)利要求1所述頂發(fā)光OLED器件的方法，其特征在于包括以下步驟1)將經(jīng)過切割、打磨、拋光后得到的電極基板(1)進行清洗；2)清洗后，在電極基板(1)上的部分區(qū)域制備氧化層O)；3)對制備有氧化層O)的電極基板(1)進行清洗、烘干；4)烘干后，在電極基板(1)上未制備氧化層O)的區(qū)域蒸鍍第一功能層(3-1)，在第一功能層上依次蒸鍍有機層(4)和第二功能層(3-2)，在第二功能層(3- 和氧化層( 上蒸鍍電極(5)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述一種制備頂發(fā)光OLED器件的方法，其特征在于所述第一功能層(3-1)由電子注入層和電子傳輸層組成，第二功能層(3-2)由空穴注入層和空穴傳輸層組成，或者，第一功能層(3-1)由空穴注入層和空穴傳輸層組成，第二功能層(3-2)由電子注入層和電子傳輸層組成。
全文摘要
本發(fā)明提供一種頂發(fā)光OLED器件及其制備方法，包括電極基板以及設(shè)置于電極基板上的氧化層和功能層，功能層上設(shè)置有發(fā)光層，發(fā)光層上設(shè)置有功能層，功能層以及氧化層上設(shè)置有電極。所述功能層的組合有兩種一種為空穴注入層和空穴傳輸層，另一種為電子注入層和電子傳輸層。本發(fā)明所述頂發(fā)光OLED器件所采用的基板既可以做襯底又可以做電極，因此可以在電極基板直接制備OLED器件，不僅節(jié)省了制備成本，而且提高了器件的散熱性能。
文檔編號H01L51/52GK102544387SQ201110450278
公開日2012年7月4日 申請日期2011年12月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月19日
發(fā)明者張方輝, 張靜, 李艷菲, 梁田靜 申請人:陜西科技大學(xué)