專利名稱：一種大直徑立式硅片承載器的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種硅產(chǎn)品，特別是一種大直徑立式硅片承載器的制備方法。
背景技術(shù)：
目前，微電子集成電路的4"、6"、8"硅片，主要應(yīng)用相配套尺寸的臥式硅片承載器，并作為硅片承載器和氧化與擴(kuò)散使用。4"、6"、8"臥式硅片承載器僅能夠和集成電路 6"、8"硅片相配套，但隨著大直徑12"硅片進(jìn)入市場，與之相配套的12"硅片承載器缺口則較大。臥式硅片承載器由于長度的限制，只能應(yīng)用4〃、6〃、8〃硅片，承載硅片數(shù)量也較少，一般在60個，同時臥式硅片承載器在承載硅片進(jìn)行摻雜和氧化工藝時，需要專業(yè)托盤將其送入石英容器內(nèi)，所以使用也極為不便。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提出了一種保障硅片間隙微小，不松動，提高硅片在氧化和擴(kuò)散的均勻性和一致性的大直徑立式硅片承載器的制備方法。本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的，一種大直徑立式硅片承載器的制備方法，其特點是①選用Φ20πιπι石英棒和Φ310πιπι石英片，作為制作臥式硅片承載器的原材料，石英硅含量> 99. 998% ；②對Φ 20mm石英棒進(jìn)行切割，長度為920mm ；③銑削石英片，作為底盤；④通過模具定位，沿底盤邊緣豎向焊接四根石英棒；⑤火焰拋光及退火；⑥通過模具定位，對石英棒相對的內(nèi)側(cè)分別橫向進(jìn)行開槽，四個石英棒相對應(yīng)的槽在同一水平面上； ⑦對溝槽深度及邊距進(jìn)行一次檢驗；⑧在模具上定位上片石英片，并定位點焊；⑨主體焊接后火焰拋光及退火；⑩最終檢驗成品。發(fā)明采用了立式形狀，高度大于920mm，可以承載8〃、12〃硅片，承載數(shù)量多。同時，在承載硅片進(jìn)行摻雜和氧化工藝時，并不需要輔助托盤，可以直接將立式硅片承載器放進(jìn)摻雜和養(yǎng)化硅片石英容器內(nèi)。本發(fā)明立式硅片承載器在應(yīng)用時，可保障硅片間隙微小，不松動，提高硅片在氧化和擴(kuò)散的均勻性和一致性，效果大大優(yōu)于臥式硅片承載器。
具體實施例方式一種大直徑立式硅片承載器的制備方法，
①選用Φ20πιπι石英棒和Φ310πιπι石英片，作為制作臥式硅片承載器的原材料，石英硅含量> 99. 998% ；②對Φ 20mm石英棒進(jìn)行切割，長度為920mm ；③銑削石英片，Φ310πιπι士0. 1mm，作為底盤；④通過模具定位，沿底盤邊緣豎向焊接四根石英棒；⑤火焰拋光及退火；⑥通過模具定位，對石英棒相對的內(nèi)側(cè)分別橫向進(jìn)行開槽，四個石英棒相對應(yīng)的槽在同一水平面上；深8mm ；溝槽數(shù)175個；⑦對溝槽深度及邊距進(jìn)行一次檢驗；⑧在模具上定位上片石英片，并定位點焊；⑨主體焊接后火焰拋光及退火；⑩最終檢驗成品。
權(quán)利要求
1. 一種大直徑立式硅片承載器的制備方法，其特征在于①選用Φ20πιπι石英棒和Φ310πιπι石英片，作為制作臥式硅片承載器的原材料，石英硅含量 > 99. 998% ；②對Φ20mm石英棒進(jìn)行切割，長度為920mm ；③銑削石英片，作為底盤；④通過模具定位，沿底盤邊緣豎向焊接四根石英棒；⑤火焰拋光及退火；⑥通過模具定位，對石英棒相對的內(nèi)側(cè)分別橫向進(jìn)行開槽，四個石英棒相對應(yīng)的槽在同一水平面上；⑦對溝槽深度及邊距進(jìn)行一次檢驗；⑧在模具上定位上片石英片，并定位點焊；⑨主體焊接后火焰拋光及退火；⑩最終檢驗成品。
全文摘要
一種大直徑立式硅片承載器的制備方法，其特點是選用Ф20mm石英棒和Ф310mm石英片，作為制作臥式硅片承載器的原材料，石英硅含量≥99.998％；通過模具定位，沿底盤邊緣豎向焊接四根石英棒；對石英棒相對的內(nèi)側(cè)分別橫向進(jìn)行開槽，四個石英棒相對應(yīng)的槽在同一水平面上；在模具上定位上片石英片，并定位焊接后火焰拋光及退火；最終檢驗成品。采用了立式形狀，承載數(shù)量多。同時，在承載硅片進(jìn)行摻雜和氧化工藝時，并不需要輔助托盤，可以直接將立式硅片承載器放進(jìn)摻雜和養(yǎng)化硅片石英容器內(nèi)。本發(fā)明立式硅片承載器在應(yīng)用時，可保障硅片間隙微小，不松動，提高硅片在氧化和擴(kuò)散的均勻性和一致性，效果大大優(yōu)于臥式硅片承載器。
文檔編號H01L21/683GK102222635SQ20101014702
公開日2011年10月19日 申請日期2010年4月14日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月14日
發(fā)明者王運家 申請人:王運家