專(zhuān)利名稱(chēng)：連續(xù)oled涂布機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于尤其是連續(xù)生產(chǎn)設(shè)有有機(jī)電致發(fā)光材料(OLED)的基板、特別是OLED顯示器、屏幕、面板或其它發(fā)光元件的裝置，以及用于生產(chǎn)設(shè)有有機(jī)電致發(fā)光材料(OLED)的基板的方法。
背景技術(shù)：
在致動(dòng)元件和娛樂(lè)電子設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域中，平面控制板和顯示器變得日益重要。這種平面控制板的有意思的實(shí)現(xiàn)方式是由所謂的OLED顯示器或屏幕提供，其中在電極之間的有機(jī)電致發(fā)光材料沉積在平坦的透明基板上，從而通過(guò)借助電極致動(dòng)可以產(chǎn)生出能夠用來(lái)產(chǎn)生出圖像的光的發(fā)射。
真空涂覆方法通常在所謂的集結(jié)式機(jī)臺(tái)(cluster tool)中用于生產(chǎn)這種OLED屏幕。通常圍繞著中央布置有其中進(jìn)行不同涂覆步驟的各種模塊，并且布置在中央的機(jī)器人將所要涂覆的基板插入到相應(yīng)模塊中，再將它們?nèi)〕霾⑶覍⑺鼈冚斔偷较乱粋€(gè)模塊。盡管這種技術(shù)相對(duì)于在各個(gè)模塊中的純度要求和工藝條件而言具有特定的優(yōu)點(diǎn)，但是對(duì)于經(jīng)濟(jì)地大規(guī)模生產(chǎn)相應(yīng)的OLED屏幕而言沒(méi)有什么意義。
為此，在現(xiàn)有技術(shù)中已經(jīng)提出所謂的串聯(lián)式機(jī)器，這有利于實(shí)現(xiàn)各種必要涂布步驟的連續(xù)過(guò)程。這里的示例為JP2003332052A、WO03/090260A2和WO03/043067A1。
JP2003332052A提出將用于例如沉積紅色、綠色和藍(lán)色發(fā)光電致發(fā)光材料的不同涂布站環(huán)形布置，并且具有用于在輸出站處在環(huán)外面構(gòu)造所建議的涂層所需的掩模的單獨(dú)清潔站。但是，這種機(jī)器結(jié)構(gòu)對(duì)于將被清潔的掩模輸送到輸入站的單獨(dú)輸送通道需要較高的成本，并且需要單獨(dú)布置清潔站。
WO03/090260A2描述了一種用于將多層涂層沉積在基板上的裝置，并且在基本上線(xiàn)性軌道上將基板多次引導(dǎo)穿過(guò)涂布機(jī)，以便沉積不同的層。雖然由此實(shí)現(xiàn)了連續(xù)串聯(lián)式機(jī)器，但是這種機(jī)器由于基板要反復(fù)行進(jìn)穿過(guò)涂布機(jī)所以具有缺點(diǎn)。
WO03/043067A1披露了一種用于大規(guī)模生產(chǎn)有機(jī)電致發(fā)光裝置的裝置，其中所要涂布的基板布置在運(yùn)載工具上，該運(yùn)載工具例如沿著軌道布置被引導(dǎo)穿過(guò)真空涂布機(jī)，并且其中帶有基板的運(yùn)載工具可以浸入到相鄰?fù)坎记皇抑校员氵M(jìn)行各種各樣的涂布過(guò)程。
這里，用于使基板下降至各個(gè)涂布腔室中的花費(fèi)不僅在涂布過(guò)程期間而且從設(shè)計(jì)方面看都非常高。
另外，所有過(guò)程，例如基板清潔、用于構(gòu)造的掩模布置以及掩模的清潔以及在各個(gè)腔室中的涂布都連續(xù)地進(jìn)行。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在于提供一種尤其用于連續(xù)生產(chǎn)設(shè)有有機(jī)電致發(fā)光材料(OLED)的基板、尤其是OLED顯示器、屏幕、面板或其他OLED發(fā)光元件的涂布機(jī)或裝置，其避免了現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，并且尤其是提供了一種用于大規(guī)模生產(chǎn)OLED元件的簡(jiǎn)單而令人滿(mǎn)意的可能性，同時(shí)空間要求較小并且允許實(shí)現(xiàn)OLED產(chǎn)品的高品質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。尤其是，相應(yīng)的裝置應(yīng)該容易制造并且該過(guò)程容易操作。
該目的是通過(guò)具有權(quán)利要求1的特征的裝置和具有權(quán)利要求20的特征的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)的。優(yōu)選實(shí)施方案是從屬權(quán)利要求的目標(biāo)。
所提出的解決方案其特征在于，基于雙腔室原理構(gòu)造出涂布機(jī)或裝置，即真空涂布機(jī)的整個(gè)真空空間優(yōu)選沿著其縱向軸線(xiàn)分成兩個(gè)部分，該真空空間的第一部分用來(lái)將裝載有所要涂布的基板的運(yùn)載工具從裝載站通過(guò)涂布機(jī)輸送到卸載站，并且該機(jī)器的另外的第二部分用來(lái)返回并且清潔基板運(yùn)載工具、尤其是構(gòu)造所需的掩模。這樣的優(yōu)點(diǎn)在于，可以將具有真正連續(xù)操作的非常緊湊的機(jī)器實(shí)現(xiàn)作為所謂的串聯(lián)式機(jī)器，其中通過(guò)在環(huán)形回路中引導(dǎo)運(yùn)載工具和/或掩模來(lái)大大避免運(yùn)載工具和掩模的存儲(chǔ)，并且明顯增大了產(chǎn)出率和效率。
另外，通過(guò)雙腔室原理，尤其對(duì)于產(chǎn)生真空而言可以實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)和簡(jiǎn)單的操作，并且這些雙腔室尤其能夠形成為全能模塊，從而可以根據(jù)需要將相應(yīng)的處理工具和其他裝置布置在相應(yīng)的雙腔室模塊中。這同樣大大有利于轉(zhuǎn)換。而且，這種結(jié)構(gòu)有利于不間斷地輸送用于在真空中微構(gòu)成涂層的基板或運(yùn)載工具和/或掩模。因此，避免了運(yùn)載工具或掩模被環(huán)境污染。
另外，必要時(shí)，為了將特定區(qū)域密封以避免污染，或在該機(jī)器局部通氣時(shí)，可以在各個(gè)腔室或腔室模塊之間設(shè)置鎖存腔室和/或鎖存裝置和隔離裝置。
除了用于輸送運(yùn)載工具的環(huán)形回路之外(它與輸送裝置的第一部分一起在基板輸送方向上沿著真空空間的第一部分延伸，并且該輸送裝置的相反取向、即沿著運(yùn)載工具返回輸送方向的第二部分沿著真空室或真空雙腔室的第二部分延伸)，優(yōu)選另外設(shè)有幾個(gè)用于輸送掩模的第二環(huán)形回路，以便用于構(gòu)造或微構(gòu)造出涂層。用于輸送掩模的第二環(huán)形回路的相應(yīng)輸送布置在其中進(jìn)行將基板從輸入?yún)^(qū)域輸送到輸出區(qū)域的那部分真空空間中也具有第一部分，并且在真空空間的第二部分中具有用于返回輸送的第二部分。
另外，優(yōu)選設(shè)有至少一個(gè)輸送支路，其中用于基板運(yùn)載工具的輸送裝置和/或用于掩模的輸送布置沒(méi)有形成為一連續(xù)回路，相反，在雙腔室中設(shè)有沿著相同和/或相反方向的平行輸送部分。這尤其在輸入和輸出區(qū)域中是有利的，因?yàn)檫@樣真空雙腔室的兩個(gè)部分都可以將位于基板運(yùn)載工具上的基板輸送到和離開(kāi)掩模安放站，并且因此可以大大提高效率。因此，可以在快速過(guò)程中將更多的基板送到涂布過(guò)程中，這進(jìn)一步提高了該機(jī)器的效率。
優(yōu)選的是，用于運(yùn)載工具的輸送裝置和用于掩模的輸送布置部分地使用相同的輸送部件和操作裝置，從而至少一些輸送同時(shí)進(jìn)行。尤其是，基板運(yùn)載工具優(yōu)選也用作用于至少部分返回輸送掩模的掩模運(yùn)載工具。
優(yōu)選的是，從輸送裝置或輸送布置的第一部分轉(zhuǎn)換到輸送裝置或輸送布置的第二部分在基板裝載站和/或基板卸載站(其中基板布置在運(yùn)載工具處或者從這些中去除)中、和/或掩模安放站和/或掩模去除站(在那里將掩模分配給基板或?qū)⑺鼈儾贾迷谄渖匣蛟俅螐闹腥コ?中的環(huán)形回路中進(jìn)行，反之亦然。
在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，設(shè)有一旋轉(zhuǎn)模塊，它在一個(gè)站中不僅進(jìn)行用于兩個(gè)相鄰?fù)坎紖^(qū)域的掩模轉(zhuǎn)換，而且還進(jìn)行掩模從涂布部分向清潔部分的傳送，并且反之亦然，而且在旋轉(zhuǎn)模塊處設(shè)有相應(yīng)的掩模安放和/或去除站和/或掩模對(duì)準(zhǔn)站和用于掩模的保持元件。
該旋轉(zhuǎn)模塊包括具有一旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，在所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)上設(shè)有兩個(gè)拾取器，拾取器具有用于來(lái)自輸送裝置的第一部分和第二部分的基板運(yùn)載工具的轉(zhuǎn)移位置，由此通過(guò)旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)180°，拾取器可以移動(dòng)到另一個(gè)輸送部分的轉(zhuǎn)移位置中，通過(guò)旋轉(zhuǎn)90°，可以移動(dòng)到用于轉(zhuǎn)移至相鄰設(shè)置的掩模和/或基板運(yùn)載工具交換區(qū)域的轉(zhuǎn)移位置中。首先，在掩模轉(zhuǎn)換區(qū)域中從基板運(yùn)載工具中將掩模去除，然后將基板運(yùn)載工具分配給相應(yīng)的其他等待掩模，并且在安放之后沿著輸送系統(tǒng)進(jìn)一步運(yùn)動(dòng)。
優(yōu)選的是，可以沿著輸送路徑設(shè)置用于基板運(yùn)載工具和/或掩模的掩模和/或基板運(yùn)載工具自動(dòng)輸送裝置，以便可以轉(zhuǎn)換基板運(yùn)載工具和/或掩模，或者在給定操作過(guò)程的不同持續(xù)時(shí)間的情況下，可以實(shí)現(xiàn)該裝置的產(chǎn)出率和效率的最優(yōu)化。另外，這些自動(dòng)輸送裝置也可以用于裝載該機(jī)器。優(yōu)選的是，將可以具有一個(gè)或尤其數(shù)個(gè)存儲(chǔ)部位的這種中間自動(dòng)輸送裝置分配給傳送裝置、掩模安放和/或掩模去除站和/或旋轉(zhuǎn)模塊。通過(guò)使用針對(duì)相應(yīng)的操作可能性提供了相應(yīng)的旋轉(zhuǎn)和/或平移運(yùn)動(dòng)的基板運(yùn)載工具或掩模傳送單元，可以簡(jiǎn)單地將相應(yīng)的基板運(yùn)載工具和/或掩模輸送進(jìn)輸送過(guò)程并且再?gòu)闹休敵?，而且在自?dòng)輸送裝置單元，例如布置在一起的幾個(gè)自動(dòng)輸送裝置之間轉(zhuǎn)換。
與掩模和/或基板運(yùn)載工具自動(dòng)輸送裝置相同，也可以在實(shí)際輸送路徑之外的側(cè)支路中設(shè)置額外的掩模和/或基板運(yùn)載工具清潔站，從而通過(guò)從實(shí)際輸送路徑簡(jiǎn)短地輸出，可以進(jìn)行掩模和/或基板運(yùn)載工具的清潔。這尤其可以在能夠在真空腔室的第二部分或第二部中的返回輸送期間進(jìn)行的清潔之外進(jìn)行。
這些環(huán)形回路每個(gè)都可以通過(guò)單個(gè)連續(xù)操作輸送裝置或通過(guò)多個(gè)操作裝置和輸送部件來(lái)實(shí)現(xiàn)，在其中例如基板和/或運(yùn)載工具或掩模從一個(gè)裝置傳送給另一個(gè)裝置。因此，掩模和/或基板運(yùn)載工具的輸送可以完全連續(xù)地進(jìn)行，即不會(huì)停止或不連續(xù)地存在中間停止和/或任意其組合。因此同樣可以想到偶爾返回輸送到各個(gè)站中。因此，基板的涂布或一般處理也可以動(dòng)態(tài)地(即在輸送期間)或靜態(tài)地(即在基板沒(méi)有運(yùn)動(dòng)的情況下)進(jìn)行。因此，涂布或處理的類(lèi)型存在三種可以相互組合的基本可能性，即連續(xù)動(dòng)態(tài)、定時(shí)動(dòng)態(tài)或靜態(tài)。
通過(guò)本發(fā)明的裝置的這個(gè)實(shí)施方案，在給定用于生產(chǎn)OLED元件的相應(yīng)過(guò)程的情況下，可以在返回輸送期間直接清潔用于構(gòu)造涂層所需的掩?；蜿幱把谀?，并且避免或減少掩模儲(chǔ)存，同時(shí)使整體所需的掩模的數(shù)量最小化。


利用附圖從以下兩個(gè)實(shí)施方案的詳細(xì)說(shuō)明中將了解本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)、特性和特征。這些附圖僅以示意性的方式顯示出。
圖1為根據(jù)本發(fā)明的裝置的平面圖；圖2為根據(jù)本發(fā)明的裝置的第二實(shí)施方案的平面圖；圖3為具有相應(yīng)運(yùn)載工具和掩模的圖2中的裝置的局部視圖；圖4為圖2和3的裝置的一部分處理程序或操作的示意圖；圖5為在本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施方案中的旋轉(zhuǎn)模塊的平面圖；圖6為以用于生產(chǎn)白色OLED的形式的本發(fā)明裝置的第三實(shí)施方案的平面圖；并且圖7為以RGB-OLED涂布的形式的根據(jù)本發(fā)明的裝置的第四實(shí)施方案的平面圖。
具體實(shí)施例方式
圖1顯示出根據(jù)本發(fā)明的裝置，其被構(gòu)造用來(lái)產(chǎn)生發(fā)白光的有機(jī)LED(OLED)。裝置1包括多個(gè)連續(xù)的真空雙腔室2，每個(gè)腔室分成兩部分(半部)3和4，并且與其相鄰的腔室一起形成一真空空間。除了沿著該裝置的縱向軸線(xiàn)將該真空空間劃分成兩個(gè)部分3和4之外，該真空空間在圖1中所示的實(shí)施方案中另外由掩模安放站14和掩模去除站13再分成兩個(gè)區(qū)域，并且也可以再分成多個(gè)區(qū)域。但是，與縱向再分成部分3和4一樣，通過(guò)掩模安放站14和去除站14的再分不應(yīng)該理解為表示獲得了不同真空條件。盡管這在不同情況中是可能的，但是相同真空條件也可以是普遍的。再分只能理解為表示該真空空間不是一直相同的。但是，每個(gè)都具有其部分3和4的真空雙腔室2形成連續(xù)輸送區(qū)域，這些區(qū)域而且不會(huì)被掩模安放站14和去除站13中斷，同時(shí)在部分3和4之間的過(guò)渡部分只可以在某些區(qū)域中。由真空雙腔室2的模塊再分真空空間不會(huì)影響基本再分成部分3和4。
另外，可以通過(guò)設(shè)置鎖存件或隔離元件20來(lái)進(jìn)行分隔，這有利于將該真空空間的各個(gè)區(qū)域分開(kāi)或隔開(kāi)。優(yōu)選的是，真空空間由類(lèi)似的模塊構(gòu)成，這些模塊與其用作掩模安放站和去除站、或基板裝載和卸載站、涂布站等一致地按照不同方式配備。
裝置1具有整體線(xiàn)性結(jié)構(gòu)，其中基板輸入裝置5設(shè)置在一個(gè)端部處并且基板輸出裝置6設(shè)置在相反的端部處。除了線(xiàn)性結(jié)構(gòu)之外，當(dāng)然也可以具有帶有相應(yīng)的曲線(xiàn)的不同結(jié)構(gòu)或圍繞著角部輸送。通過(guò)基板輸入裝置5和基板輸出裝置6，可以從周?chē)鷹l件或不同的真空處理機(jī)中將待涂布的基板轉(zhuǎn)移到裝置1的真空空間中或者從中轉(zhuǎn)出。
基板輸入裝置5后跟隨著一基板裝載站7(在沒(méi)有詳細(xì)說(shuō)明的鎖存或隔離裝置之后)，其中將待涂布的基板布置在運(yùn)載工具40上(參見(jiàn)圖3)，基板在涂布過(guò)程期間或在輸送穿過(guò)裝置1期間位于該運(yùn)載工具上。同時(shí)，基板裝載站7可以用作如在圖1的右底部處的局部圖中所示的傳送裝置，這有利于將運(yùn)載工具40從真空空間的部分4交換到真空空間的部分3中，并且反之亦然。如將在后面所示那樣，在基板裝載站中的運(yùn)載工具40使輸送方向從運(yùn)載工具返回輸送方向改變?yōu)榛遢斔头较颉?br> 可選的是(未示出)，基板裝載站也可以設(shè)在基板輸入裝置中，從而在設(shè)置在基板運(yùn)載工具上期間對(duì)基板的操作可以簡(jiǎn)單地在空氣中而不用在真空中進(jìn)行。在該情況下，基本輸入裝置將僅由一傳送模塊跟隨，在該傳送模塊中將從部分4返回的基板運(yùn)載工具轉(zhuǎn)送到部分3中，并且隨后輸送到用于裝載的基板輸入裝置中。輸出區(qū)域也可以相應(yīng)地布置。
在基板裝載站7之后是掩模安放站8，在其中將掩模(陰影掩模)(參見(jiàn)圖3)安放在或分配給布置在運(yùn)載工具40上或在該處的基板上，以便在隨后的涂布期間可以按照沒(méi)有在由掩模覆蓋的區(qū)域中涂布、而在其它區(qū)域中涂布基板這樣一種方式來(lái)實(shí)現(xiàn)涂層構(gòu)造。另外，在這里使掩模對(duì)準(zhǔn)或調(diào)整，以便準(zhǔn)確地在正確位置中進(jìn)行構(gòu)造。
掩模安放站8也包括沒(méi)有詳細(xì)說(shuō)明的傳送裝置，通過(guò)該傳送裝置的幫助可以將來(lái)自真空空間的部分4的掩模轉(zhuǎn)送到真空空間的部分3，并且該掩模同時(shí)也將輸送方向從返回輸送方向改變成基板輸送方向。在具有操縱和保持裝置(未示出)的相應(yīng)結(jié)構(gòu)的情況下，也可以將基板裝載站7和掩模安放站8結(jié)合在單個(gè)站中。
掩模安放站8之后為多個(gè)真空雙腔室2，它們配備用于在部分3處或之中進(jìn)行相應(yīng)的涂布過(guò)程。
在圖1中所示的實(shí)施方案中，設(shè)有涂布區(qū)域9、10和11，其中施加有相應(yīng)的輔助層，例如在區(qū)域9中的孔注入層HIL、孔輸送層HTL和電子阻擋層EBL，在區(qū)域10中的發(fā)光材料以及在區(qū)域11中的其他輔助層，例如電子注入層EIL、電子輸送層ETL和孔阻擋層HBL。
在其上具有基板的運(yùn)載工具和掩模已經(jīng)行進(jìn)穿過(guò)涂布區(qū)域9至11之后，它通入到相連的掩模去除站13中，在那里從基板上去除掩模。掩模去除站13也具有一傳送裝置，通過(guò)它將所去除的掩模轉(zhuǎn)送到真空空間的部分4，在那里沿著與在圖1的實(shí)施方案中為從左向右前進(jìn)的基板輸送方向相反的方向?qū)⑺斔突氐窖谀０卜耪?。在途中的真空雙腔室2中的一個(gè)中存在一掩模清潔站12，它在掩模正在往回輸送時(shí)，直接清潔掩模并且清除在涂布站9至11中施加的涂布材料。這樣，該掩模能夠立即重新用在掩模安放站8中?？梢园凑杖我夂线m的方式進(jìn)行清潔。
同時(shí)，帶有基板的運(yùn)載工具運(yùn)動(dòng)進(jìn)掩模安放站14中，該站14布置在掩模去除站13之后，并且在其中如在掩模安放站8中那樣又將新的掩模施加在基板上，以便可以提供經(jīng)適當(dāng)調(diào)節(jié)的掩模用于通過(guò)熱蒸涂進(jìn)行的隨后的電極涂覆。
在掩模安放站14中，正如在掩模安放站8中那樣，相應(yīng)掩模從真空空間的部分4轉(zhuǎn)移到真空空間的部分3，并且該掩模改變了其運(yùn)輸方向。而且，正如在掩模安放站8中那樣，該掩模在掩模安放站14中如此排列，即，在其中需要這些結(jié)構(gòu)的那些區(qū)域中精確地進(jìn)行對(duì)所要涂覆的涂布材料的構(gòu)造。
在掩模安放站14之后的在區(qū)域15中的真空雙腔室2如此配備，從而將電極材料熱蒸涂到基板上。當(dāng)然，也可以采用其他蒸涂過(guò)程。
在行進(jìn)穿過(guò)涂布站15之后，在運(yùn)載工具上的基板和布置在其上的掩模通入到掩模去除站17，在那里從基板上將掩模去除并且轉(zhuǎn)移到真空空間的部分4上，從而可以沿著與基板輸送相反的方向?qū)⒀谀＿\(yùn)輸回來(lái)，并且在清潔站16中清潔，從而便它可以立即重新用在掩模安放站中。
在隨后的用于運(yùn)載工具的基板裝載站18中，從運(yùn)載工具上將基板去除并且輸送到基板輸出站6，同時(shí)將運(yùn)載工具運(yùn)輸?shù)秸婵湛臻g的部分4并且使之運(yùn)動(dòng)回到基板裝載站7。
在所示優(yōu)選實(shí)施方案中的運(yùn)載工具的返回運(yùn)輸期間，掩模和運(yùn)載工具一起被運(yùn)輸，并且在該情況中運(yùn)載工具在掩模去除站17中拾取掩摸用于返回運(yùn)輸并且由此在掩模安放站14中再次傳送它。同樣，在掩模去除站13中的真空空間的部分4中的返回輸送期間，運(yùn)載工具從前一次涂布過(guò)程拾取掩模并且將它輸送到掩模拾取站8。但是，也可以想到為運(yùn)載工具和掩模設(shè)置單獨(dú)的運(yùn)輸部件來(lái)進(jìn)行返回輸送。
總之，在圖1的實(shí)施方案中，結(jié)果是形成三個(gè)環(huán)形回路，更準(zhǔn)確地說(shuō)是用于基板的運(yùn)載工具的第一環(huán)形回路，該基板從在真空空間的部分3(在圖中的上排)中的基板裝載站7開(kāi)始運(yùn)動(dòng)經(jīng)過(guò)掩模安放站8和涂布站9至11、掩模去除站13以及掩模拾取站14和涂布站15以及改變其運(yùn)輸方向的基板卸載站18，然后又沿著與基板運(yùn)輸方向相反的方向運(yùn)輸?shù)交逖b載站7。除了該第一環(huán)形回路之外，對(duì)于掩模運(yùn)輸而言還存在兩個(gè)第二環(huán)形回路，更準(zhǔn)確地說(shuō)是用于在涂布站9至11中的涂布過(guò)程的掩模的一個(gè)環(huán)形回路，以及用于在涂布站15中的涂布過(guò)程的掩模的另一個(gè)環(huán)形回路。用于在涂布站9至11中的涂布過(guò)程的掩模從掩模安放站8開(kāi)始運(yùn)動(dòng)經(jīng)過(guò)涂布站9至11到掩模去除站13，在那里掩模改變其運(yùn)輸方向并且運(yùn)輸經(jīng)過(guò)在真空空間的部分4中的掩模清潔站12回到掩模安放站8。
涂布站15的涂布過(guò)程的另一個(gè)掩模從在真空空間的部分3中的掩模安放站14運(yùn)動(dòng)經(jīng)過(guò)涂布站15到掩模去除站17，在那里它也改變運(yùn)輸方向并且輸送經(jīng)過(guò)在部分4中的清潔站16回到掩模安放站14。
就所運(yùn)動(dòng)的對(duì)象而表示的這些環(huán)形回路(即，從運(yùn)載工具或掩模方面看是環(huán)形回路)可以由多個(gè)操縱和傳送裝置形成。但是，也可以想到，針對(duì)運(yùn)載工具的運(yùn)動(dòng)也可以專(zhuān)門(mén)設(shè)置單個(gè)連續(xù)運(yùn)輸裝置。
同樣，用于拾取掩模、運(yùn)載工具、基板等并且使之運(yùn)動(dòng)的各種歧管裝置可以設(shè)想用于基板裝載和卸載站7和18，以及掩模安放和去除站8和14，以及13和17。
可以想到例如用于基板裝載和卸載站7和18以及掩模安放和去除站8、13、14和17的傳送裝置為簡(jiǎn)單的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其中運(yùn)載工具板70繞著軸線(xiàn)80旋轉(zhuǎn)或樞轉(zhuǎn)，更準(zhǔn)確地說(shuō)轉(zhuǎn)動(dòng)180度，從而運(yùn)載工具70一次指向?yàn)槠湎鄳?yīng)的側(cè)面朝著真空空間的部分3，并且在轉(zhuǎn)動(dòng)180度之后，下一次朝著真空空間的部分4指向。當(dāng)給定基板垂直對(duì)準(zhǔn)、即與圖1的圖面垂直對(duì)準(zhǔn)并且對(duì)應(yīng)于垂直輸送時(shí)，可樞轉(zhuǎn)運(yùn)載工具板70的旋轉(zhuǎn)軸線(xiàn)80也垂直于圖面布置。在圖1的右底部顯示出相應(yīng)的視圖，其中運(yùn)載工具板70具有如由雙頭箭頭方向所示的運(yùn)載工具板70能夠繞著其樞轉(zhuǎn)的中心軸線(xiàn)80，從而基板運(yùn)載工具40能夠在真空空間的部分3和4之間轉(zhuǎn)動(dòng)。
這樣，也特別簡(jiǎn)單地實(shí)現(xiàn)了基板裝載和卸載站7、18以及掩模安放站和去除站8、13、14、17、18(例如掩模去除站13和掩模安放站14)的組合，因?yàn)橹灰槍?duì)所要接收和安放的部分設(shè)置相應(yīng)的中間保持裝置。下面將結(jié)合圖5對(duì)相應(yīng)的旋轉(zhuǎn)模塊進(jìn)行說(shuō)明。
圖2顯示出根據(jù)本發(fā)明用于生產(chǎn)所謂的RGB顯示器的裝置的另一個(gè)實(shí)施方案，其中紅色、藍(lán)色和綠色電致發(fā)光材料的像素必須按照結(jié)構(gòu)化方式彼此單獨(dú)生產(chǎn)出。相應(yīng)地，必須針對(duì)所要沉積的紅色、綠色和藍(lán)色電致發(fā)光材料設(shè)置具有相應(yīng)的掩模安放和去除站124、125、126、127、128、129的不同掩模。相應(yīng)地，針對(duì)相應(yīng)的掩模也要將清潔站130分配給用于紅色電致發(fā)光材料的涂布站121、將清潔站131分配給綠色涂布站122、并且將清潔站132分配給藍(lán)色涂布站。
涂布站121、122和123一起形成用于電致發(fā)光材料的涂布區(qū)域110。另外，也設(shè)有與在圖1中的實(shí)施方案的涂布區(qū)域9和11對(duì)應(yīng)的涂布區(qū)域109和111，在其中施加有相應(yīng)的輔助層，例如孔注入層、孔輸送層、EBL層、電感層、電子輸入層和HBL層。這些涂布站109和111也配備有用于在那里使用的掩模的清潔站112和133。而且，除了電極涂布站115之外，在裝置100的開(kāi)始部分處還設(shè)有等離子激活站119，其中將基板或其表面進(jìn)行等離子激活以便進(jìn)行隨后的涂布。
裝置100與其真空空間一起也沿著其縱向軸線(xiàn)一分為二，變成部分103和104，并且在部分103中或者相應(yīng)地在真空雙腔室102的部分103處設(shè)有相應(yīng)的基板處理和涂布站109、110、111、115和119，同時(shí)將清潔站112、130、131、132、133和116配備給或布置在部分104處或其中。
與用于分開(kāi)或隔離各個(gè)區(qū)域的圖1中的實(shí)施方案的鎖存件或隔離裝置20相同，尤其在掩模安放和去除站的區(qū)域中，在裝置100的該實(shí)施方案中設(shè)有相應(yīng)的鎖存件或隔離裝置120，它們例如設(shè)在等離子激活站119和涂布站109之間，以便使相應(yīng)的大氣分開(kāi)并且形成用于基板的鎖定區(qū)域。
整個(gè)結(jié)果導(dǎo)致該裝置100具有這樣一種結(jié)構(gòu)，即，該結(jié)構(gòu)帶有基板輸入站105、基板裝載站107、掩模安放站108和具有沒(méi)有詳細(xì)描述的輸送部件的運(yùn)載工具的環(huán)形回路，該環(huán)形回路使帶有所施加的基板和變化的掩模的運(yùn)載工具首先運(yùn)動(dòng)經(jīng)過(guò)等離子激活站119，然后經(jīng)過(guò)涂布站109，然后進(jìn)一步經(jīng)過(guò)涂布站121、122、123和111以及115，從而最終在基板卸載站118中使基板與運(yùn)載工具分開(kāi)并且在基板輸出站106中排出基板，或者使之能夠用于隨后的處理裝置。然后使沒(méi)有基板并且重新具有變化的掩模的運(yùn)載工具在真空空間的第二部分104中返回到基板裝載站107，順序經(jīng)過(guò)清潔站116、133、132、131、130和112。
除了該第一環(huán)形回路之外，該裝置106還具有兩個(gè)用于相應(yīng)掩模的環(huán)形回路，并且在掩模安放站108中的第一掩模相對(duì)于基板布置并且對(duì)準(zhǔn)在基板上或者運(yùn)載工具上，從而該基板在它通過(guò)等離子激活站119和涂布站109時(shí)可以受到保護(hù)并且只在前面限定的區(qū)域的相應(yīng)區(qū)域中暴露出。在掩模去除站113中將該掩模從基板或運(yùn)載工具上去除，并且通過(guò)掩模清潔站112輸送回到在真空局部空間104中的掩模安放站108。如果期望對(duì)基板的整個(gè)表面進(jìn)行等離子激活，則也可以在等離子激活站119和涂布站109之間設(shè)置掩模安放和對(duì)準(zhǔn)站108。代替等離子激活，也可以想到其他用于清潔和/或激活表面的處理技術(shù)、尤其是表面激活技術(shù)，例如UV、臭氧處理或離子轟擊。
用于輸送相應(yīng)掩模的第二種第二環(huán)形回路設(shè)置為用于涂布區(qū)域121，并且在掩模安放站114中安放并且調(diào)整掩模，在掩模去除站124中從基板或運(yùn)載工具上去除掩模并且在清潔站130中清潔掩模。
將第二種的第三、第四、第五和第六環(huán)形回路分配給涂布站122、123、111和115，并且在相應(yīng)的掩模安放站125、127、129和135的每一個(gè)中，將用于隨后涂布過(guò)程的掩模安放并且對(duì)準(zhǔn)在基板或運(yùn)載工具上，同時(shí)在各個(gè)涂布站之后在掩模去除站126、128、134和117中再次去除相應(yīng)的掩模。
這種操作模式由圖3和4的示意圖更清楚地顯示出，并且圖3顯示出用于圖2的裝置100的局部的用于運(yùn)載工具40和掩模50和51或52的運(yùn)輸或運(yùn)動(dòng)流。如在圖3中可以清楚地看出的一樣，數(shù)個(gè)運(yùn)載工具和掩?？偸遣粌H在第一而且還在第二環(huán)形回路中同時(shí)運(yùn)動(dòng)，從而保證通過(guò)該涂布機(jī)實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)出率。如由在掩模安放站108、114和125和掩模去除站113和124以及基板裝載站107中的雙頭箭頭所示一樣，運(yùn)載工具40在這些站中從該輸送裝置的在真空空間的部分104中用于運(yùn)載工具的第二部分交換到該輸送裝置的在真空空間的部分103中的第一部分，并且對(duì)于掩模而言從輸送布置的用于在真空空間的部分104中的掩模的第二部分交換到輸送布置的真空空間的部分103(掩模安放站)中的掩模的第一部分，并且反之(掩模去除站)亦然。
從圖4中尤為明顯地看出，示意性示出的第一環(huán)形回路140和第二環(huán)形回路150優(yōu)選具有相同的輸送部件和操縱裝置，以便實(shí)現(xiàn)用于運(yùn)載工具的輸送裝置和用于掩模的運(yùn)輸布置。
圖4為在掩模去除站124和掩模拾取站125中并且例如如圖1所示一樣通過(guò)可轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)載工具板70從紅色涂布站121到綠色涂布站122的交換期間的掩模傳送的示意圖。在掩模去除站124中，來(lái)自紅色涂布區(qū)域21的帶有掩模的運(yùn)載工具通過(guò)運(yùn)載工具板70的轉(zhuǎn)動(dòng)從真空空間的第一部分103傳送到真空空間的第二部分104，在那里它傳送用于紅色涂布區(qū)域的掩模。然后，運(yùn)載工具板70往回轉(zhuǎn)動(dòng)，從而位于運(yùn)載工具板70上的帶有布置在其上的基板的運(yùn)載工具(未示出)重新位于在真空空間的第一部分103的區(qū)域中。之后進(jìn)一步將基板與運(yùn)載工具一起輸送到綠色區(qū)域122的掩模安放站125中，在那里首先使運(yùn)載工具板70轉(zhuǎn)動(dòng)180度，從而將基板與運(yùn)載工具布置在真空空間的部分104中。在那里，運(yùn)載工具或基板從綠色區(qū)域中將掩模取出，返回并且在真空空間的部分104中清潔，并且在布置和對(duì)準(zhǔn)綠色掩模之后通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)180度回轉(zhuǎn)到真空空間的部分103中，從而在那里可以繼續(xù)進(jìn)行將帶有基板的運(yùn)載工具以及綠色掩模輸送穿過(guò)綠色區(qū)域。這種順序可以在所有涂布和基板處理站之間實(shí)現(xiàn)，并且也可以針對(duì)基板裝載和卸載站實(shí)現(xiàn)。
在使用允許短時(shí)間中間存放至少一個(gè)相應(yīng)掩模的相應(yīng)操縱部件的情況中，如圖5所示那樣，可以考慮在單個(gè)站中結(jié)合掩模安放和掩模去除站。但是，為了避免各個(gè)涂布區(qū)域的相互污染，即使在這會(huì)帶來(lái)一定程度更大的操作花費(fèi)的情況下，空間分開(kāi)也是有利的。但是，可以針對(duì)涂布站或基板處理站來(lái)實(shí)現(xiàn)這種組合，其中不必?fù)?dān)心出現(xiàn)任何污染，或者設(shè)置相應(yīng)的分離部件。
在圖5的實(shí)施例中，設(shè)有具有轉(zhuǎn)動(dòng)區(qū)域262和掩模交換區(qū)域261的旋轉(zhuǎn)模塊260。將具有相應(yīng)的經(jīng)涂布的掩模的基板運(yùn)載工具266導(dǎo)入在其中進(jìn)行涂布的輸送裝置的部分203中的旋轉(zhuǎn)模塊260，同時(shí)在部分204中傳送來(lái)自相鄰?fù)坎紖^(qū)域的帶有清潔掩模的基板運(yùn)載工具267，并且輸送方向相反。在將基板運(yùn)載工具266、267拾取到旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)263上之后，后者轉(zhuǎn)動(dòng)90度，從而基板運(yùn)載工具266、267可以通過(guò)線(xiàn)性運(yùn)動(dòng)傳送給相鄰掩模交換區(qū)域261。布置在外壁上的掩模定位系統(tǒng)264和265從基板運(yùn)載工具266、267上取出掩模。在掩模定位系統(tǒng)264和265保持著這些掩模的同時(shí)，基板運(yùn)載工具再次運(yùn)動(dòng)到轉(zhuǎn)動(dòng)工作臺(tái)263，轉(zhuǎn)動(dòng)180度，并且再次導(dǎo)入進(jìn)掩模交換區(qū)域261中。這里，基板運(yùn)載工具266從隨后的涂布區(qū)域中取出清潔掩模，同時(shí)帶有經(jīng)涂布的掩模的基板運(yùn)載工具267在進(jìn)一步轉(zhuǎn)動(dòng)90度之后運(yùn)動(dòng)進(jìn)其他涂布區(qū)域的清潔區(qū)域中。
例如在使用在輸入?yún)^(qū)域中的轉(zhuǎn)動(dòng)模塊時(shí)，可以將掩模清潔站安裝在轉(zhuǎn)動(dòng)區(qū)域262對(duì)著掩模交換區(qū)域261的側(cè)面處。
圖6顯示出根據(jù)本發(fā)明的用于生產(chǎn)發(fā)射白色有機(jī)光(白色OLED)的另一個(gè)裝置的示意圖。在圖6中所示的裝置200還具有多個(gè)連續(xù)布置的真空雙腔室202，它們只在幾個(gè)位置處由一旋轉(zhuǎn)模塊260和兩個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)模塊275以及幾個(gè)分隔裝置220彼此分開(kāi)。
除了代替圖1的掩模安放和去除站的旋轉(zhuǎn)模塊260之外，該裝置在其涂布區(qū)域中與圖1的裝置對(duì)應(yīng)，從而相同的尾部數(shù)字在術(shù)語(yǔ)列表中被選擇用于相同或等同的部件。
另外，圖6的裝置200與圖1的裝置的不同之處在于，設(shè)有不同的基板輸入和輸出裝置270、290。
基板輸入裝置270具有一機(jī)器人273，用來(lái)在傳送模塊274中將基板傳送到基板運(yùn)載工具上。傳送模塊如此設(shè)計(jì)，從而在其中的基板運(yùn)載工具繞著與圖像平面垂直的軸線(xiàn)轉(zhuǎn)動(dòng)，并且可以執(zhí)行線(xiàn)性運(yùn)動(dòng)，從而可以從真空雙腔室202的輸送部分278和279中取出基板運(yùn)載工具，并且將它們傳送到這些部分上。
基板輸入裝置270的具體特征在于，在真空雙腔室202中的兩個(gè)輸送部分278和279能夠用來(lái)將基板輸送給基板安放站271。這意味著，在平行的輸送部分278和279中，與在涂布區(qū)域中的反向平行輸送相反，可以有單向和反方向輸送。
另外，在基板輸送裝置270的輸送部分278和279中不僅可以將基板輸送給掩模安放站271，而且可以沿著傳送模塊274的方向輸送基板運(yùn)載工具。相應(yīng)地，還設(shè)有基板清潔站272，其用來(lái)清潔基板運(yùn)載工具。
這種基板輸送布置類(lèi)型實(shí)現(xiàn)了效率和產(chǎn)出率的明顯增大，因?yàn)檫@樣可以將更多的基板發(fā)送穿過(guò)這些涂布區(qū)域。尤其是，帶有轉(zhuǎn)動(dòng)模塊275的基板輸入裝置270可以以比在涂布區(qū)域中的輸送裝置高得多的循環(huán)頻率工作。
另外，在旋轉(zhuǎn)模塊260的區(qū)域中，設(shè)有兩個(gè)基板運(yùn)載工具自動(dòng)輸送裝置281和282，它們通過(guò)基板運(yùn)載工具傳送模塊283相互連接并且與旋轉(zhuǎn)模塊260連接。該存儲(chǔ)單元280由此便于基板運(yùn)載工具的中間緩沖，以便于優(yōu)化通過(guò)涂布機(jī)實(shí)現(xiàn)的基板產(chǎn)出率的最優(yōu)化。而且，存在交換不合格基板運(yùn)載工具的可能性。另外，該存儲(chǔ)單元可以用來(lái)給機(jī)器裝載基板運(yùn)載工具。至于其它，旋轉(zhuǎn)模塊260的功能與如參照?qǐng)D5所述的一樣。
與基板輸入?yún)^(qū)域相同，基板輸出區(qū)域290具有一轉(zhuǎn)動(dòng)模塊275、掩模去除站和/或中間存儲(chǔ)器276以及與機(jī)器人273相互作用的基板運(yùn)載工具操作或傳送模塊274?；鍌魉湍K274和機(jī)器人273布置在具有惰性氛圍的所謂的手套箱中。
在基板輸出裝置290的情況中，在那里布置有相應(yīng)掩模去除或存儲(chǔ)單元276的真空雙腔室202的兩個(gè)輸送部分也可以沿著基板運(yùn)載工具的兩個(gè)方向來(lái)回運(yùn)動(dòng)，從而也可以便迅速輸出基板成為可能。
尤其是，在各個(gè)區(qū)域和部分中的輸送速度可以不同，以便有利于優(yōu)化使用整個(gè)裝置。因此，例如在基板輸入裝置270和基板輸出裝置290的輸送支路中的速度可以與在涂布區(qū)域209至211和215a和215b中的輸送速度不同。另外，這些輸送速度在各個(gè)涂布區(qū)域中也可以不同，并且在各個(gè)部分中、即在真空雙腔室的部分3和真空雙腔室的另一個(gè)部分204中也可以不同。因此，在涂布部分中的輸送速度可以與在返回輸送的區(qū)域中的輸送速度不同。這有利于優(yōu)化整個(gè)裝置的使用。
詳細(xì)地說(shuō)，圖6的裝置200按照這樣一種方式作用，即，基板借助機(jī)器人273傳送給在基板傳送單元274中可以得到的基板運(yùn)載工具。從那里，借助鎖存件(沒(méi)有更詳細(xì)地顯示出)沿著掩模安放站271的方向?qū)⒀b載有基板的基板運(yùn)載工具輸送給基板輸入裝置270的輸送部分278或279。在那里，將借助清潔站212從部分204返回的掩模安放在基板上。設(shè)有掩模的基板與基板運(yùn)載工具一起借助轉(zhuǎn)動(dòng)模塊275、更具體地說(shuō)例如通過(guò)基板運(yùn)載工具拾取器的相應(yīng)轉(zhuǎn)動(dòng)被導(dǎo)入真空腔室布置的部分203中。同時(shí)，可以將帶有來(lái)自部分204的清潔掩模的返回基板運(yùn)載工具傳送給基板輸入裝置270，并且在基板安放站271中將掩模去除，并且將它暫時(shí)存儲(chǔ)直到帶有基板的基板運(yùn)載工具從基板傳送模塊274中返回。
因此，在所示的實(shí)施方案中，導(dǎo)入真空腔室的部分203中的基板行進(jìn)穿過(guò)涂布區(qū)域209、210a、210b和211，在那里例如以如下順序形成有孔注入層、孔輸送層、紅色發(fā)光層、綠色發(fā)光層、藍(lán)色發(fā)光層、孔阻擋層和電子注入層。然后，在旋轉(zhuǎn)模塊260中拾取帶有布置在其上的掩模的基板，在該轉(zhuǎn)動(dòng)模塊中在掩模去除站265中將掩模去除，然后在真空腔室的部分204中將它輸送回，同時(shí)在掩模安放站264中的涂布基板取得用于在涂布腔室215a和215b中隨后涂布過(guò)程所需的新掩模。
與旋轉(zhuǎn)模塊260的掩模交換區(qū)域261連接的是一基板運(yùn)載工具傳送模塊283，其服務(wù)于兩個(gè)基板運(yùn)載工具自動(dòng)輸送裝置281和282?；暹\(yùn)載工具由此在這里可以更換。
隨后，仍然在真空腔室的部分203中的帶有新掩模的基板進(jìn)一步被引導(dǎo)穿過(guò)涂布站215a和215b，在那里進(jìn)行LiF蒸涂，然后進(jìn)行鋁蒸涂以及相應(yīng)的沉積。之后，將位于基板運(yùn)載工具上的帶有掩模的基板傳送給基板輸出裝置290的轉(zhuǎn)動(dòng)模塊275，在該處它們通入到掩模去除站276，并且在基板傳送單元274、273中將基板運(yùn)載工具卸載。這在所謂的手套箱中在惰性氣體氛圍中進(jìn)行。
圖7顯示出第四實(shí)施方案300，其中類(lèi)似或相同的部件具有與在前面實(shí)施方案中相同的尾部數(shù)字。裝置300為用于生產(chǎn)所謂的RGB-OLED系統(tǒng)的涂布機(jī)，其中因此不同顏色的LED相互并排沉積。該機(jī)器因此與實(shí)施方案100的機(jī)器構(gòu)思基本上對(duì)應(yīng)，其不同之處在于掩模安放和去除站113和114以及124、125、126、127、128、129與130、134和135一起由相應(yīng)的旋轉(zhuǎn)模塊360代替。這些又具有旋轉(zhuǎn)區(qū)域362、掩模更換區(qū)域361，該掩模更換區(qū)域361帶有掩模安放站264以及掩模去除和中間存儲(chǔ)站365。與圖6的實(shí)施方案相同，在數(shù)個(gè)旋轉(zhuǎn)模塊360中的掩模更換區(qū)域361處設(shè)有具有一個(gè)或兩個(gè)基板運(yùn)載工具自動(dòng)輸送裝置381、382的基板運(yùn)載工具傳送單元383。
用基板輸入裝置305進(jìn)行基板輸入，之后通過(guò)機(jī)器人373進(jìn)行的傳送、用基板輸出裝置306進(jìn)行的基板輸出、并且向機(jī)器人373的傳送與在圖2的實(shí)施方案中一樣地進(jìn)行。但是，這里只設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)模塊390和傳送模塊，這僅僅有利于將基板運(yùn)載工具從真空腔室的部分304傳送給部分303。在基板輸入裝置305中進(jìn)行基板安放，同時(shí)在基板輸出裝置306中進(jìn)行基板去除。
術(shù)語(yǔ)列表1，100，200，300涂布機(jī)2，102，202，302真空雙腔室3，4；103，104；203，204；303，304 真空雙腔室的各部分5，105，305 基板輸入裝置6，106，306 基板輸出裝置7，107 基板裝載站8，14，108，114，125，127，129，138，271 掩模安放站
9，109，209，309 用于孔注入層、孔輸送層、電子阻擋層的涂布區(qū)域10，109，110，111，121，122，123，210，321，322，323用于發(fā)光材料的涂布區(qū)域11，111，211，311 用于孔阻擋層、電子注入層、電子輸送層的涂布區(qū)域12，16，112，116，130，131，132，133，212，312用于掩模的清潔站13，17，113，117，124，126，128，134掩模去除站15，215a，215b用于電極的涂布區(qū)域18基板卸載站20，120，220 鎖存和隔離裝置40，266，267 基板運(yùn)載工具50，51，52掩模70運(yùn)載工具板80軸線(xiàn)119 等離子激活140 第一環(huán)形回路150 第二環(huán)形回路260，360 旋轉(zhuǎn)模塊261，361 掩模更換區(qū)域262，362 旋轉(zhuǎn)區(qū)域26旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)264，265；364，365掩模更換系統(tǒng)270 基板輸入裝置271 基板清潔站272，273 機(jī)器人27傳送模塊275 轉(zhuǎn)動(dòng)模塊278，279 輸送步驟
280 存儲(chǔ)單元281，282；381，382基板運(yùn)載工具自動(dòng)輸送裝置283，383 基板運(yùn)載工具傳送模塊290 基板輸出裝置390 轉(zhuǎn)動(dòng)模塊。
權(quán)利要求
1.用于尤其是連續(xù)生產(chǎn)設(shè)有有機(jī)電致發(fā)光材料(OLED)的基板、特別是OLED顯示器、屏幕、面板或其它發(fā)光元件的裝置，它具有一真空空間和一輸送裝置，該輸送裝置用于輸送待涂布的基板并且至少部分沿著該真空空間布置，而且具有用于基板的運(yùn)載工具，其特征在于，所述輸送裝置包括至少一個(gè)用于輸送運(yùn)載工具(40)的環(huán)形回路(140)，并且該真空空間被分成至少兩個(gè)部分，即第一部分(3，103)和第二部分(4，104)，在第一部分(3，103)中設(shè)有輸送裝置的用于沿著第一方向(基板輸送方向)輸送運(yùn)載工具(40)的第一部分，在第二部分(4，104)中設(shè)有輸送裝置的用于沿著第二方向(運(yùn)載工具返回輸送方向)輸送運(yùn)載工具的第二部分。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述真空空間由多個(gè)彼此相鄰布置的腔室(2，102)構(gòu)成，這些腔室彼此分開(kāi)并且允許在真空中不間斷地輸送基板和/或運(yùn)載工具(40)和/或掩模(50，51，52)，并且/或者沿著環(huán)形回路另外設(shè)有鎖存腔室和/或裝置(20，120)。
3.如前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，通過(guò)至少部分地一個(gè)接著另一個(gè)之后布置的真空雙腔室(2，102)來(lái)將該真空空間劃分成兩個(gè)。
4.如前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，在該真空空間中設(shè)有一第二環(huán)形回路、優(yōu)選為數(shù)個(gè)第二環(huán)形回路(150)，其用于輸送掩模(50，51，52)，優(yōu)選每一回路各自用于沉積有機(jī)電致發(fā)光材料、尤其是紅色(121)、綠色(122)和藍(lán)色(123)有機(jī)電致發(fā)光元件的區(qū)域(10，110)，并且第二環(huán)形回路(150)的輸送布置的第一部分設(shè)在該真空空間的第一部分(3，103)中，并且第二環(huán)形回路(150)的輸送布置的第二部分設(shè)在該真空空間的第二部分(4，104)中。
5.如前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，至少一個(gè)、優(yōu)選為數(shù)個(gè)基板裝載站(7，107)和卸載站(18，118)被設(shè)置用于布置或卸載來(lái)自運(yùn)載工具和/或掩模安放站和/或掩模去除站和/或掩模對(duì)準(zhǔn)站(8，13，14，17；108，113，114，117，124，125，126，127，128，129，134，135)的基板。
6.如前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，尤其在基板裝載站(7，107)和卸載站(18，118)和/或掩模安放和去除站(8，13，14，17；108，113，114，117，124，125，126，127，128，129，134，135)中設(shè)置傳送裝置，用于將來(lái)自所述真空空間的第一部分(3，103)的運(yùn)載工具(40)和/或掩模(50，51，52)轉(zhuǎn)換到第二部分(4，104)，或者反之，將來(lái)自所述真空空間的第二部分(4，104)的運(yùn)載工具(40)和/或掩模(50，51，52)轉(zhuǎn)換到第一部分(3，103)。
7.如前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，沿著所述第一環(huán)形回路(140)設(shè)有一個(gè)或多個(gè)涂布站(9，10，11，15；109，110，111，115)，它們包括真空涂布過(guò)程，尤其是化學(xué)氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)，尤其是濺射過(guò)程、等離子輔助涂布過(guò)程，具有或沒(méi)有載體氣體的蒸涂過(guò)程；用于基板、用于運(yùn)載工具和/或掩模的清潔站(12，16；112，116，130至133)；和/或其他基板處理站，尤其是基板激活站(119)，尤其是等離子激活站和/或用于UV、臭氧、離子轟擊或火花放電處理的站，并且尤其針對(duì)孔注入層(HIL)、孔輸送層(HTL)和電子阻擋層(EBL)的等離子激活和沉積而言設(shè)有第二環(huán)形回路，用于輸送適用于該涂布過(guò)程的掩模和/或用于沉積相同的電致發(fā)光材料、特別用于沉積每一紅色、藍(lán)色或綠色發(fā)光材料；另一個(gè)第二環(huán)形回路，用于輸送適用于這種/這些涂布過(guò)程的掩模和/或用于沉積電子注入層(EIL)、電子輸送層(ETL)和電子阻擋層(EBL)；相同或另一個(gè)第二環(huán)形回路，用于輸送適用于該涂布過(guò)程的掩模和/或用于尤其通過(guò)真空涂布過(guò)程、尤其是化學(xué)氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)，尤其是濺射技術(shù)、等離子輔助涂布過(guò)程、具有或沒(méi)有載體氣體的蒸涂過(guò)程來(lái)沉積電極；另一個(gè)第二環(huán)形回路，用于輸送適用于該涂布過(guò)程的掩模。
8.如權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，所述涂布和基板處理站(9，10，11，15；109，110，111，115，119)在所述真空空間的第一部分(3，103)處或之中沿著該輸送裝置的第一部分布置，并且或者用于掩模和/或運(yùn)載工具的清潔站(12，16；112，116，130至133)在所述真空空間的第一和/或第二部分(4，104)處或之中、尤其在外壁處沿著輸送裝置的第一和/或第二部分布置。
9.如前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，設(shè)有一旋轉(zhuǎn)模塊(260)，其中尤其結(jié)合有來(lái)自相鄰?fù)坎紖^(qū)域的掩模安放和去除站，并且設(shè)有旋轉(zhuǎn)區(qū)域(262)和掩模轉(zhuǎn)換區(qū)域(261)，并且在該旋轉(zhuǎn)區(qū)域中設(shè)有一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(263)，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)能夠在所述輸送部分(203，204)和/或掩模轉(zhuǎn)換區(qū)域之間切換。
10.如前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，設(shè)有至少一個(gè)、優(yōu)選數(shù)個(gè)尤其與傳送裝置、基板裝載和卸載站、掩模安放和/或去除站和/或旋轉(zhuǎn)模塊(260)相連的掩模和/或基板運(yùn)載工具自動(dòng)輸送裝置。
11.如權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述掩模轉(zhuǎn)換區(qū)域(261)具有兩個(gè)掩模轉(zhuǎn)換位置，其中在第一掩模轉(zhuǎn)換位置(264)中通過(guò)精確的掩模對(duì)準(zhǔn)來(lái)進(jìn)行掩模定位，以便將掩模安放在待涂布的基板上，同時(shí)，在另一個(gè)掩模轉(zhuǎn)換位置(265)中，只是進(jìn)行簡(jiǎn)單的掩模安放，以便返回輸送在運(yùn)載工具上的掩模。
12.如權(quán)利要求9至11中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，在所述旋轉(zhuǎn)模塊之后設(shè)有基板運(yùn)載工具自動(dòng)輸送裝置，并且至少為一個(gè)、優(yōu)選為兩個(gè)相對(duì)的基板運(yùn)載工具自動(dòng)輸送裝置，而且設(shè)有至少一個(gè)基板運(yùn)載工具轉(zhuǎn)換單元，用于相對(duì)于基板運(yùn)載工具自動(dòng)輸送裝置和/或相鄰機(jī)器組成部件取得和轉(zhuǎn)送基板運(yùn)載工具。
13.如權(quán)利要求9至12中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，在所述旋轉(zhuǎn)模塊(260)之后、尤其在旋轉(zhuǎn)模塊的掩模轉(zhuǎn)換區(qū)域之后、和/或在旋轉(zhuǎn)模塊(260)的旋轉(zhuǎn)區(qū)域(262)(261)之后設(shè)有一個(gè)或多個(gè)掩模和/或基板清潔站。
14.如前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，該裝置設(shè)有至少一個(gè)輸送支路，其中輸送方向和/或輸送布置具有兩個(gè)平行的部分，所述輸送方向?yàn)橹辽匍g歇性的單方向。
15.如權(quán)利要求14所述的裝置，其特征在于，所述輸送支路在基板裝載裝置和/或基板卸載裝置的區(qū)域中設(shè)有平行輸送部分的至少間歇性的單向輸送。
16.如前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述環(huán)形回路(140，150)和/或輸送裝置包括單個(gè)的連續(xù)運(yùn)輸裝置和/或多個(gè)操縱和傳送裝置。
17.如前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述第一環(huán)形回路(140)和第二環(huán)形回路(150)至少部分地使用相同的運(yùn)輸和操縱裝置。
18.如前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，在位于輸送裝置的第一部分開(kāi)始處的第一環(huán)形回路(140)處設(shè)有一基板輸入裝置(5，105)，并且優(yōu)選在輸送裝置的第一部分的結(jié)束處設(shè)有一基板輸出裝置(6，106)。
19.如前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述裝置形成為一連續(xù)操作、尤其是線(xiàn)性(串聯(lián)式)機(jī)器。
20.用于尤其利用根據(jù)前面權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的裝置來(lái)連續(xù)生產(chǎn)設(shè)有有機(jī)電致發(fā)光材料(OLED)的基板、特別是OLED顯示器、屏幕、面板或其它發(fā)光元件的方法，該方法包括以下步驟a)在基板裝載站(7，107)中將基板布置在運(yùn)載工具(40)上，以便輸送穿過(guò)真空涂布機(jī)；b)在掩模安放站(8，14；108，114，125，127，129，135)中將掩模安放在基板或相對(duì)于基板的運(yùn)載工具上，以便沉積結(jié)構(gòu)化涂層；c)進(jìn)行尤其是電致發(fā)光材料的結(jié)構(gòu)化涂布；d)在掩模去除站(13，17；113，124，126，128，134，117)中去除掩模，并且沿著相反、尤其是反向平行基板輸送方向立即將掩模返回輸送給掩模安放站(8，14；108，114，125，127，129，135)；e)在返回輸送期間清潔掩模；f)將清潔后的掩模設(shè)置在掩模安放站(8，14；108，114，125，127，129，135)中；g)進(jìn)一步輸送帶有涂布后的基板的運(yùn)載工具(40)，以便從真空涂布機(jī)中卸載或者執(zhí)行進(jìn)一步涂布。
21.如權(quán)利要求20所述的方法，其特征在于，掩模的返回輸送在真空中進(jìn)行。
22.如權(quán)利要求20或21所述的方法，其特征在于，步驟b)至g)連續(xù)出現(xiàn)數(shù)次。
23.如權(quán)利要求20至22中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述運(yùn)載工具在基板卸載之后尤其至少部分地沿著與初始輸送方向相反、優(yōu)選與初始方向反向平行方向立即往回朝著基板裝載站輸送，并且尤其至少一些輸送在具有掩模的情況下進(jìn)行。
24.如權(quán)利要求20至23中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在掩模安放站和/或掩模去除站中，將掩模從基板輸送方向向返回輸送方向傳送，或者反之，將掩模從返回輸送方向向基板輸送方向傳送。
25.如權(quán)利要求20至24中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，沿著輸送路徑將運(yùn)載工具和/或掩模暫時(shí)存儲(chǔ)在自動(dòng)輸送裝置中。
26.如權(quán)利要求20至25中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在返回輸送期間掩模和/或基板運(yùn)載工具的清潔在保持返回運(yùn)輸方向的情況下或在具有簡(jiǎn)短輸送中斷的情況的橫向安裝清潔站中進(jìn)行。
27.如權(quán)利要求20至26中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在所述環(huán)形回路和/或輸送支路和/或部分中的輸送速度是不同的。
全文摘要
本發(fā)明涉及特別是用于連續(xù)生產(chǎn)設(shè)有有機(jī)電致發(fā)光材料(OLED)的基板、尤其是OLED顯示器、屏幕、面板或其它發(fā)光元件的方法和裝置，該裝置具有真空空間和用于輸送待涂布的基板且至少部分沿著真空空間布置而且具有用于基板的運(yùn)載工具的輸送裝置，所述輸送裝置包括至少一個(gè)用于輸送運(yùn)載工具的環(huán)形回路，該真空空間分成至少兩個(gè)部分，即，第一部分(3)和第二部分(4)，在第一部分(3)中設(shè)有輸送裝置的用于沿著第一方向(基板輸送方向)輸送運(yùn)載工具的第一部分，在第二部分(4)中設(shè)有輸送裝置的用于沿著第二方向(運(yùn)載工具返回輸送方向)輸送運(yùn)載工具的第二部分。因此，在返回輸送期間直接有利地清潔用于構(gòu)造OLED涂層所需的掩模，并且不需要任何掩模儲(chǔ)存。
文檔編號(hào)H01L21/67GK1854330SQ200610076380
公開(kāi)日2006年11月1日 申請(qǐng)日期2006年4月20日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月20日
發(fā)明者迪特爾·曼茨, 馬庫(kù)斯·本德?tīng)? 烏韋·霍夫曼, 迪特爾·哈斯, 烏爾里?！ざ骼仗? 海諾·萊爾, 阿希姆·古克 申請(qǐng)人:應(yīng)用菲林股份有限兩合公司