專(zhuān)利名稱(chēng)：光記錄介質(zhì)的制造裝置及制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種通過(guò)UV(Ultraviolet:紫外線(xiàn))硬化樹(shù)脂對(duì)藍(lán)光碟盤(pán)等光記錄介質(zhì)形成透光膜層的制造裝置及制造方法。
背景技術(shù)：
在光記錄介質(zhì)的制造中，在通過(guò)UV硬化樹(shù)脂對(duì)光記錄介質(zhì)形成透光膜層的工序中，通常利用旋轉(zhuǎn)涂層法(旋涂法)。在形成透光膜層的工序的旋轉(zhuǎn)涂層法中，使UV硬化樹(shù)脂向光記錄介質(zhì)的中心附近滴下，并使旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)及載置于該旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的光記錄介質(zhì)高速旋轉(zhuǎn)。在由該高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力的作用下，滴下的UV硬化樹(shù)脂被朝向光記錄介質(zhì)的外周整體高速地拉拽。此時(shí)，優(yōu)選UV硬化樹(shù)脂以擴(kuò)展同心圓的方式均勻地被拉拽。然而，由于UV硬化樹(shù)脂粘度、基板溫度等各種條件，UV硬化樹(shù)脂有時(shí)無(wú)法呈同心圓狀均勻地?cái)U(kuò)展。圖9(a)是表示向高速旋轉(zhuǎn)的光記錄介質(zhì)21的中心附近滴下的UV硬化樹(shù)脂31由離心力朝向外周拉拽的情況的例子的俯視圖。如圖9(a)所示，UV硬化樹(shù)脂31有時(shí)非均勻地、例如在半徑方向上產(chǎn)生多個(gè)凸部及凹部地被拉拽。這樣的話(huà)，如圖9(b)的光記錄介質(zhì)的側(cè)面附近的局部放大圖所示，UV硬化樹(shù)脂不均勻地涂敷在光記錄介質(zhì)的側(cè)面上。另外，在旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)及光記錄介質(zhì)的高速旋轉(zhuǎn)后，當(dāng)旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)停止時(shí)，由于UV硬化樹(shù)脂的表面張力而將UV硬化樹(shù)脂的整體向中心方向拉回，由此，特別是在光記錄介質(zhì)的周緣附近多會(huì)產(chǎn)生UV硬化樹(shù)脂的略微的鼓起。為了防止這樣的非均勻的拉拽的發(fā)生或周緣附近的鼓起的發(fā)生，而在專(zhuān)利文獻(xiàn)I中公開(kāi)了一種利用刮刀(端面涂敷機(jī)構(gòu))的光記錄介質(zhì)的制造方法及制造裝置。專(zhuān)利文獻(xiàn)I公開(kāi)的刮刀(端面涂敷機(jī)構(gòu))將擴(kuò)展到光記錄介質(zhì)的周緣部的UV硬化樹(shù)脂接住，并將接住的UV硬化樹(shù)脂拉拽至光記錄介質(zhì)的端面(側(cè)面)而以均勻的厚度涂敷在端面(端面)上。在先技術(shù)文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2007-226859號(hào)公報(bào)發(fā)明的概要發(fā)明要解決的課題然而，即使如上述那樣通過(guò)離心力使UV硬化樹(shù)脂擴(kuò)展至周緣附近，并利用刮刀等將擴(kuò)展了的UV硬化樹(shù)脂向光記錄介質(zhì)的側(cè)面涂敷，也很難在側(cè)面上將UV硬化樹(shù)脂形成為均勻的厚度。這里的在側(cè)面上UV硬化樹(shù)脂為均勻的厚度是指在光記錄介質(zhì)側(cè)面的整周上UV硬化樹(shù)脂層的截面形狀均勻的意思。若沒(méi)有將UV硬化樹(shù)脂以均勻的厚度涂敷在側(cè)面上，則在光記錄介質(zhì)的上表面的周緣附近仍然容易產(chǎn)生UV硬化樹(shù)脂的鼓起。而且，容易從光記錄介質(zhì)的側(cè)面與UV硬化樹(shù)脂層的交界發(fā)生UV硬化樹(shù)脂的剝離。此外，上述情況會(huì)導(dǎo)致光記錄介質(zhì)的外觀上的品質(zhì)的下降。

發(fā)明內(nèi)容
考慮到現(xiàn)有的旋轉(zhuǎn)涂層法中的上述的問(wèn)題點(diǎn)，本發(fā)明目的在于提供一種能夠在光記錄介質(zhì)的側(cè)面的整周均勻地涂敷UV硬化樹(shù)脂層的光記錄介質(zhì)的制造方法及制造裝置。用于解決課題的手段為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的光記錄介質(zhì)的制造裝置具備:旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)，其上載置光記錄介質(zhì)的基板；滴下機(jī)構(gòu)，其在所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的旋轉(zhuǎn)中，滴下用于形成透光膜層的樹(shù)脂，所述滴下機(jī)構(gòu)向所述基板的內(nèi)側(cè)和所述基板的側(cè)面滴下所述樹(shù)脂。另外，本發(fā)明的光記錄介質(zhì)的制造方法是在光記錄介質(zhì)的基板上形成透光膜層的方式，包括:在旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)上載置所述基板的步驟；在所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的旋轉(zhuǎn)中，向所述基板的內(nèi)側(cè)滴下用于形成所述透光膜層的樹(shù)脂的步驟；在所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的旋轉(zhuǎn)中，向所述基板的側(cè)面滴下用于形成所述透光膜層的樹(shù)脂的步驟。發(fā)明效果本發(fā)明的光記錄介質(zhì)的制造裝置及制造方法不僅向光記錄介質(zhì)的內(nèi)周附近，而且向光記錄介質(zhì)的側(cè)面整周滴下UV硬化樹(shù)脂，因此能夠在光記錄介質(zhì)的側(cè)面的整周上均勻地形成UV硬化樹(shù)脂層。


圖1是簡(jiǎn)要表示光記錄介質(zhì)的制造的整體工序的圖。圖2中，(a)是表示本發(fā)明的實(shí)施方式I的用于對(duì)光記錄介質(zhì)形成透光膜層的制造裝置的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的縱向剖視圖，(b)是內(nèi)側(cè)噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)的簡(jiǎn)圖，及(C)是側(cè)面噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)的簡(jiǎn)圖。圖3是從噴氣口噴出空氣時(shí)的基板及旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的周緣部分以及突起部上端部分的放大縱向剖視圖。圖4是表示進(jìn)行旋涂施工方法時(shí)的電動(dòng)機(jī)部(以及旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)及基板)的旋轉(zhuǎn)速度(rpm)的時(shí)間變化的圖。圖5是用于表示拋甩硬化裝置的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的拋甩硬化裝置的縱向剖視圖。圖6是表示旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)及基板旋轉(zhuǎn)時(shí)的遮光掩模及基板的周緣部分的情況的縱向剖視圖。圖7是表示在基板的周緣部分及側(cè)面上拋甩掉鼓起部分時(shí)的基板的周緣部分的情況的縱向剖視圖。圖8是用于表示完全硬化裝置的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的完全硬化裝置的縱向剖視圖。圖9中，(a)是表示向高速旋轉(zhuǎn)的光記錄介質(zhì)的中心附近滴下的UV硬化樹(shù)脂由離心力朝向外周拉拽的情況的例子的俯視圖，(b)是表示由離心力朝向外周拉拽的UV硬化樹(shù)脂不均勻地涂敷在光記錄介質(zhì)的側(cè)面上的情況的光記錄介質(zhì)的側(cè)面附近的局部放大立體圖。
具體實(shí)施例方式以下，參照附圖，說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式。1.實(shí)施方式I1.1.光記錄介質(zhì)的制造工序首先，說(shuō)明光記錄介質(zhì)的制造的整體工序。圖1是簡(jiǎn)要表示光記錄介質(zhì)的制造的整體工序的圖。通過(guò)以下說(shuō)明的制造方法制造出的光記錄介質(zhì)是在基板上設(shè)有信息信號(hào)層且對(duì)該基板照射光來(lái)進(jìn)行信息信號(hào)的記錄及/或再生的圓盤(pán)狀的記錄介質(zhì)，列舉藍(lán)光碟盤(pán)作為例子。如圖1所示，光記錄介質(zhì)的制造的整體工序包括基板的成形工序、濺射工序、透光膜層工序、及背面濺射工序，各工序按照上述順序進(jìn)行。在成形工序中，通過(guò)注塑成形機(jī)(未圖示)和注塑成形模具(未圖示)注塑成形出具有規(guī)定的凹凸圖案的基板11?；?1例如由厚度1.1mm、直徑120mm、中心孔徑15mm的聚碳酸酯樹(shù)脂構(gòu)成。注塑成形后的基板11由冷卻機(jī)構(gòu)(未圖示)冷卻。在濺射工序中，通過(guò)濺射裝置(未圖示)在冷卻后的基板11上形成反射膜12。反射膜12是由鋁或銀等構(gòu)成的0.1 μ m以下的薄膜。對(duì)于基板11，除了形成反射膜12之外，有時(shí)還形成其他的薄膜。在形成了反射膜12之后，基板11由冷卻機(jī)構(gòu)(未圖示)再次冷卻。在透光膜層工序中，在形成有反射膜12的基板11上通過(guò)旋涂而形成透光膜層13。透光膜層13例如是由大致100 μ m的厚度構(gòu)成的UV硬化樹(shù)脂層。UV硬化樹(shù)脂層包括95 98 μ m的厚度的罩層和2 5 μ m的厚度的硬涂層。由此，透光膜層工序包括用于形成罩層的透光膜層工序和用于形成硬涂層的透光膜層工序。而且，用于形成罩層的透光膜層工序包括旋涂工序、拋甩硬化工序、及完全硬化工序。其中，本實(shí)施方式I的光記錄介質(zhì)的制造裝置是用于進(jìn)行旋涂工序的制造裝置。在背面濺射工序中，在形成有透光膜層13的基板11的表面的相反面上形成防濕膜14。防濕膜14是防止吸濕從而避免基板11因吸濕而發(fā)生翹曲的膜。本實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)的制造裝置是用于進(jìn)行旋涂工序、拋甩硬化工序及完全硬化工序中的旋涂工序的制造裝置，所述旋涂工序、拋甩硬化工序及完全硬化工序構(gòu)成用于形成罩層的透光膜層工序。尤其是本實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)的制造裝置是能夠在光記錄介質(zhì)的側(cè)面的整周上均勻地形成UV硬化樹(shù)脂層的制造裝置。1.2.光記錄介質(zhì)的制造裝置的結(jié)構(gòu)對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式I的制造裝置進(jìn)行說(shuō)明。圖2(a)是表示本實(shí)施方式的用于對(duì)光記錄介質(zhì)形成透光膜層的制造裝置的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的縱向剖視圖。本實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)的制造裝置2包括基體部210、電動(dòng)機(jī)部27、旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22、中心銷(xiāo)23、中心帽24、內(nèi)側(cè)噴嘴25及側(cè)面噴嘴26。在基體部210的中心部載置的電動(dòng)機(jī)部27的旋轉(zhuǎn)軸20在其上端部與圓板形的旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22的下表面中心部結(jié)合。由此，電動(dòng)機(jī)部27能夠使旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22以高速或低速旋轉(zhuǎn)。在旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22的上表面中心部設(shè)有中心銷(xiāo)23，該中心銷(xiāo)23經(jīng)由反射膜形成完成基板21 (以下稱(chēng)為基板21)的中心孔對(duì)保持在旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22上的基板21的保持位置進(jìn)行限制。旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22例如通過(guò)真空吸附而將基板21保持為相對(duì)于旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22不移動(dòng)。如圖2(a)所示，旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22具有直徑比基板21小的圓板形。將中心銷(xiāo)23嵌入基板21的中心孔，而將基板21保持在旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22上時(shí)，基板21的外周部分會(huì)比旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22的側(cè)面向外方突出。如圖2(a)所示，在該突出的部分的正下方設(shè)有來(lái)自基體部210的噴氣機(jī)構(gòu)30。如后述說(shuō)明那樣，在噴氣機(jī)構(gòu)30內(nèi)部設(shè)有通氣孔211。中心銷(xiāo)23及基板21的中心孔附近由外徑為18mm 25mm左右的中心帽24覆蓋。在中心帽24的下表面設(shè)置的凹部和中心銷(xiāo)23的頭部的凸部以密接的方式分別形成。因此，中心帽24的位置也由中心銷(xiāo)23限制。中心帽24和中心銷(xiāo)23以雙方均為永久磁鐵，或者一方為永久磁鐵而另一方為金屬的方式構(gòu)成。由此，中心帽24在中心銷(xiāo)23上及基板21的中心孔附近上被保持為相對(duì)于中心銷(xiāo)23及基板21不移動(dòng)。需要說(shuō)明的是，中心帽24也可以不通過(guò)磁力，而通過(guò)真空吸附力吸附于中心銷(xiāo)23及基板21而不能移動(dòng)。中心帽24的上表面具有下方擴(kuò)展的圓錐體的形狀。尤其是在本實(shí)施方式中，設(shè)有:向基板21的內(nèi)側(cè)即中心孔附近滴下UV硬化樹(shù)脂31的內(nèi)側(cè)噴嘴25 ;向基板21的側(cè)面滴下UV硬化樹(shù)脂31的側(cè)面噴嘴26。如圖2(b)、(c)所示，內(nèi)側(cè)噴嘴25和側(cè)面噴嘴26分別由噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)25a、26a驅(qū)動(dòng)。內(nèi)側(cè)噴嘴25通過(guò)內(nèi)側(cè)噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)25a而適當(dāng)移動(dòng)其配置位置，從而能夠在基板21的內(nèi)側(cè)的位置即中心帽24上表面的圓錐體的斜面上方的位置滴下UV硬化樹(shù)脂31。另外，側(cè)面噴嘴26使UV硬化樹(shù)脂31向基板21的側(cè)面滴下。通過(guò)基板21的旋轉(zhuǎn)而將從側(cè)面噴嘴26滴下的UV硬化樹(shù)脂涂敷在基板21的側(cè)面整周上。側(cè)面噴嘴26通過(guò)側(cè)面噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)26a而適當(dāng)移動(dòng)其配置位置，從而能夠在基板21側(cè)面滴下UV硬化樹(shù)脂31。在側(cè)面噴嘴26將UV硬化樹(shù)脂31向基板21的側(cè)面整周涂敷時(shí)，為了防止UV硬化樹(shù)脂31向基板21的下表面(即背面)繞回，從在噴氣機(jī)構(gòu)30的內(nèi)部設(shè)置的通氣孔211噴出空氣。圖3是從噴氣機(jī)構(gòu)30上端噴出空氣時(shí)的基板21及旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22的外周部分以及噴氣機(jī)構(gòu)30上端部分的放大縱向剖視圖。噴氣機(jī)構(gòu)30的上端部分與基板21下表面接近至幾mm左右。而且，在噴氣機(jī)構(gòu)30中，以使從基體部210的中心側(cè)下方向外側(cè)上方流動(dòng)的氣流與基板21側(cè)面的下端的稍?xún)?nèi)側(cè)發(fā)生碰觸、然后在基板21側(cè)面的下端成為朝外的水平方向的氣流的方式設(shè)置通氣孔211。向基板21側(cè)面涂敷的UV硬化樹(shù)脂、在基板21上表面形成的UV硬化樹(shù)脂層的UV硬化樹(shù)脂容易順著基板21側(cè)面向基板21的背側(cè)繞回。當(dāng)UV硬化樹(shù)脂附著于基板21的背面時(shí)，會(huì)引起外觀上的不良。因此，如圖3所示，通過(guò)構(gòu)成噴氣機(jī)構(gòu)30的上端部分及通氣孔211，能有效地進(jìn)行防止UV硬化樹(shù)脂31向基板21的下表面(背面)繞回的空氣的噴出。1.3.光記錄介質(zhì)的制造裝置的動(dòng)作對(duì)本實(shí)施方式的制造裝置2的旋涂工序中的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。首先，基板21由基板搬送機(jī)構(gòu)(未圖示)移載到旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22上。基板21在移載到旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22上時(shí)，由中心銷(xiāo)23限制其位置。旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22通過(guò)基板保持機(jī)構(gòu)、例如真空吸附機(jī)構(gòu)(未圖示)將基板21保持于其上。
中心帽24通過(guò)帽搬送機(jī)構(gòu)(未圖示)以覆蓋中心銷(xiāo)23和基板21的中心孔的方式移載。中心帽24也由中心銷(xiāo)23限制其位置。中心帽24和中心銷(xiāo)23例如通過(guò)磁力進(jìn)行密接。當(dāng)中心帽24配置在基板21上時(shí)，通過(guò)內(nèi)側(cè)噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)25a使內(nèi)側(cè)噴嘴25的前端向中心帽24上表面的圓錐體的斜面上方的規(guī)定位置移動(dòng)。而且，通過(guò)側(cè)面噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)26a使側(cè)面噴嘴26的前端向基板21的側(cè)面附近移動(dòng)。緊接著，在電動(dòng)機(jī)部27的動(dòng)力的作用下，旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22及基板21開(kāi)始旋轉(zhuǎn)。電動(dòng)機(jī)部27大致如圖4所示那樣變化旋轉(zhuǎn)速度。圖4是表示進(jìn)行旋涂施工方法時(shí)的電動(dòng)機(jī)部20 (以及旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22及基板21)的旋轉(zhuǎn)速度(rpm)的時(shí)間變化的圖。在電動(dòng)機(jī)部27的作用下，首先，旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22及基板21在區(qū)間A中進(jìn)行30 150rpm (轉(zhuǎn)數(shù)/分鐘)的低速旋轉(zhuǎn)，然后，在區(qū)間B中進(jìn)行比低速旋轉(zhuǎn)高的高速旋轉(zhuǎn)即1000 4000rpm(轉(zhuǎn)數(shù)/分鐘)的高速旋轉(zhuǎn)。在圖4的區(qū)間A的低速旋轉(zhuǎn)時(shí)，來(lái)自?xún)?nèi)側(cè)噴嘴25的UV硬化樹(shù)脂31向中心帽24上表面的圓錐體的斜面上滴下。雖然是低速，但由于中心帽24及基板21旋轉(zhuǎn)，因此從內(nèi)側(cè)噴嘴25滴下的UV硬化樹(shù)脂31被涂敷到中心帽24上表面的圓錐體的斜面的整周和基板21的內(nèi)周附近的整周。而且，在該區(qū)間A中，UV硬化樹(shù)脂31也從側(cè)面噴嘴26滴下，而涂敷到基板21的側(cè)面整周。此時(shí)，為了防止涂敷在基板21的側(cè)面整周上的UV硬化樹(shù)脂31向基板21的背面繞回，而如圖3的箭頭所示那樣，從噴氣機(jī)構(gòu)30的下方朝向基板21側(cè)面的下端由通氣孔211噴出水平方向的氣流。接著，在圖4的區(qū)間B的高速旋轉(zhuǎn)時(shí)，滴在中心帽24上表面的圓錐體的斜面上的UV硬化樹(shù)脂31在離心力的作用下朝向基板21上表面的外周延展。此時(shí)的旋轉(zhuǎn)速度取決于UV硬化樹(shù)脂粘度、基板溫度等，以通過(guò)UV硬化樹(shù)脂的延展而盡量形成均勻的厚度的UV硬化樹(shù)脂層的方式確定旋轉(zhuǎn)速度。而且，在該區(qū)間B時(shí)，從側(cè)面噴嘴26涂敷到基板21的側(cè)面的整周上的UV硬化樹(shù)脂31中的多余的部分在高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力的作用下被拋甩。通過(guò)這樣的拋甩，在基板21的側(cè)面的整周上均勻地形成UV硬化樹(shù)脂層。需要說(shuō)明的是，此時(shí)也同樣地，為了防止涂敷到基板21的側(cè)面的整周上的UV硬化樹(shù)脂31向基板21的背面繞回，而從噴氣機(jī)構(gòu)30的下方朝向基板21側(cè)面的下端由通氣孔211噴出水平方向的氣流(參照?qǐng)D3)。通過(guò)在電動(dòng)機(jī)部42的作用下的旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)22、基板21及中心帽24的旋轉(zhuǎn)，在基板21的上表面及側(cè)面上形成了均勻的UV硬化樹(shù)脂層，之后通過(guò)帽搬送機(jī)構(gòu)(未圖示)將中心帽24除去。如以上那樣，在基板21上表面形成UV硬化樹(shù)脂層31，完成本實(shí)施方式的制造裝置2的進(jìn)行旋涂工序的動(dòng)作。1.4.拋甩硬化工序和完全硬化工序在通過(guò)實(shí)施方式I的制造裝置2進(jìn)行了旋涂工序之后，進(jìn)行拋甩硬化工序和完全硬化工序。拋甩硬化工序通過(guò)圖5所示的拋甩硬化裝置4進(jìn)行，完全硬化工序通過(guò)圖8所示的完全硬化裝置7進(jìn)行。在藍(lán)光碟盤(pán)等基板中，包含UV硬化樹(shù)脂層的透光膜層的平坦度會(huì)對(duì)基于激光的寫(xiě)入品質(zhì)及再生品質(zhì)造成大的影響。然而，在僅實(shí)施了旋涂工序的基板(藍(lán)光碟盤(pán))中，由于UV硬化樹(shù)脂的表面張力而容易在基板外周的周緣部分產(chǎn)生UV硬化樹(shù)脂的鼓起。為了將該鼓起部分除去，而通過(guò)拋甩硬化裝置4進(jìn)行拋甩硬化工序。而且，為了使UV硬化樹(shù)脂層完全硬化，而通過(guò)完全硬化裝置7進(jìn)行完全硬化工序。在拋甩硬化工序和完全硬化工序中，為了首先進(jìn)行拋甩硬化工序，在圖2(a)所示的實(shí)施方式I的制造裝置2中完成了對(duì)基板21的旋涂工序之后，利用搬送機(jī)構(gòu)(未圖示)將基板21向圖5所示的拋甩硬化裝置4移載。如后面說(shuō)明那樣，基板21保持在拋甩硬化裝置4的旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)41上。1.4.1.拋甩硬化裝置的結(jié)構(gòu)圖5是用于表示拋甩硬化裝置4的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的拋甩硬化裝置4的縱向剖視圖。圖5所示的拋甩硬化裝置4包括覆蓋部45、電動(dòng)機(jī)部42、旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)41、中心銷(xiāo)47、第一 UV照射部43及遮光掩模44。覆蓋部45為上端開(kāi)口的大致圓筒形狀，在其內(nèi)部配置有旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)41及電動(dòng)機(jī)部42的旋轉(zhuǎn)軸的一部分。在覆蓋部45的中心部載置的電動(dòng)機(jī)部42的旋轉(zhuǎn)軸46在其上端部與圓板形的旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)41的下表面中心部結(jié)合。由此，電動(dòng)機(jī)部42能使旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)41旋轉(zhuǎn)。在旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)41的上表面中心部設(shè)有中心銷(xiāo)47，該中心銷(xiāo)47經(jīng)由基板21的中心孔對(duì)保持在旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)41上的基板21的保持位置進(jìn)行限制。旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)41例如通過(guò)真空吸附將基板21保持為相對(duì)于旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)41不移動(dòng)。在旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)41的鉛垂上方設(shè)有第一 UV照射部43及遮光掩模44。第一 UV照射部43從下表面照射紫外線(xiàn)。用于照射紫外線(xiàn)的下表面為具有與基板21的外徑大致相同或比基板21的外徑稍大的外徑的圓形形狀。遮光掩模44是將從第一 UV照射部43的下表面照射的紫外線(xiàn)的一部分遮擋的構(gòu)件，具有環(huán)形狀。該環(huán)形狀如后面說(shuō)明那樣為將基板21的外周的周緣部分遮蔽的形狀，其內(nèi)徑為118mm 119mm。1.4.2.拋甩硬化裝置的動(dòng)作接著，對(duì)拋甩硬化裝置4的拋甩硬化工序中的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。覆蓋部45、電動(dòng)機(jī)部42、旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)41及保持在旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)41上的基板21通過(guò)升降裝置(未圖示)向遮光掩模44正下方移動(dòng)。此時(shí)，上述移動(dòng)進(jìn)行至基板21與遮光掩模44的間隙成為0.5mm 1.5mm為止。接著,通過(guò)電動(dòng)機(jī)部42使旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)41及基板21旋轉(zhuǎn)。圖6是表示旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)41及基板21旋轉(zhuǎn)時(shí)的遮光掩模44及基板21的外周的周緣部分的情況的縱向剖視圖。UV硬化樹(shù)脂層中的接受紫外線(xiàn)的部分成為半硬化狀態(tài)部51。另一方面，遮光掩模44對(duì)UV硬化樹(shù)脂層中的基板21的周緣部分、尤其是產(chǎn)生UV硬化樹(shù)脂的鼓起32的部分進(jìn)行紫外線(xiàn)的遮光。因此，UV硬化樹(shù)脂層中的基板21的周緣部分成為未硬化狀態(tài)部52。該未硬化狀態(tài)部52中的UV硬化樹(shù)脂的鼓起32部分在旋轉(zhuǎn)的離心力的作用下向外方延展，逐漸從UV硬化樹(shù)脂層被除去(即，被拋甩)。通過(guò)使旋轉(zhuǎn)持續(xù)，由此如圖7所示，在基板21的周緣部分及側(cè)面上，在整周形成沒(méi)有鼓起部分的均勻的UV硬化樹(shù)脂層。圖7是表示在基板21的周緣部分及側(cè)面上拋甩掉鼓起部分時(shí)的基板21的周緣部分的情況的縱向剖視圖。在該時(shí)刻，拋甩硬化工序完成。在拋甩硬化工序完成后，通過(guò)搬送機(jī)構(gòu)(未圖示)將基板21向圖8所示的完全硬化裝置7移載。如后面說(shuō)明那樣，基板21保持在完全硬化裝置7的底座71上。1.4.3.完全硬化裝置的結(jié)構(gòu)圖8是用于表示完全硬化裝置7的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的完全硬化裝置7的縱向剖視圖。圖8所示的完全硬化裝置7包括電動(dòng)機(jī)部73、底座71、中心銷(xiāo)74及第二 UV照射部72。在完全硬化裝置7的中心部載置的電動(dòng)機(jī)部73的旋轉(zhuǎn)軸75在其上端部與底座71的下表面中心部結(jié)合。由此，電動(dòng)機(jī)部73能使底座71旋轉(zhuǎn)。在底座71的上表面中心部設(shè)有中心銷(xiāo)74，該中心銷(xiāo)74經(jīng)由基板21的中心孔對(duì)保持在底座71上的基板21的保持位置進(jìn)行限制。在底座71的鉛垂上方設(shè)有第二 UV照射部72。第二 UV照射部72也從下表面照射紫外線(xiàn)。用于照射紫外線(xiàn)的下表面為具有與基板21的外徑大致相同或比基板21的外徑稍大的外徑的圓形形狀。1.4.4.完全硬化裝置的動(dòng)作接著，說(shuō)明完全硬化裝置7的進(jìn)行完全硬化工序的動(dòng)作?；?1的UV硬化樹(shù)脂層31在剛向完全硬化裝置7移載之后，包含半硬化狀態(tài)部51和未硬化狀態(tài)部52。在向完全硬化裝置7移載后，保持在底座71上的基板21的UV硬化樹(shù)脂層31通過(guò)來(lái)自第二 UV照射部72的下表面的紫外線(xiàn)照射而完全硬化。此時(shí)，為了使照射的紫外線(xiàn)光量的面內(nèi)分布在基板21上表面均勻，而通過(guò)電動(dòng)機(jī)部73使底座71及基板21旋轉(zhuǎn)。通過(guò)UV硬化樹(shù)脂層的完全硬化，而完成完全硬化工序。需要說(shuō)明的是，在圖8所示的完全硬化裝置7中，也可以在底座71的外側(cè)附近設(shè)置紫外線(xiàn)反射用的反射板。并且，通過(guò)第二 UV照射部72以紫外線(xiàn)來(lái)照射基板21的上表面的UV硬化樹(shù)脂層31，并通過(guò)反射板使第二 UV照射部72所照射的紫外線(xiàn)適當(dāng)反射而照射基板21的尤其是側(cè)面的UV硬化樹(shù)脂層31。這樣的話(huà)，能夠使形成于基板21的UV硬化樹(shù)脂層31的整體高效且迅速地硬化。1.5.之后的工序如以上那樣，通過(guò)完成旋涂工序、拋甩硬化工序及完全硬化工序，由此完成用于形成罩層的透光膜層工序。而且，之后，通過(guò)完成用于形成硬涂層的透光膜層工序，而完成圖1所示的透光膜層工序。在透光膜層工序之后，進(jìn)行背面濺射工序。1.6.本實(shí)施方式的總結(jié)如以上那樣，本實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)的制造裝置2在旋涂工序中，除了進(jìn)行光記錄介質(zhì)的中心孔附近即中心帽24上表面的圓錐體的斜面上方的位置處的UV硬化樹(shù)脂的滴下之外，還使UV硬化樹(shù)脂向基板21的側(cè)面整周滴下。如此，通過(guò)使UV硬化樹(shù)脂也向基板側(cè)面滴下，而能夠在基板21的側(cè)面的整周均勻地形成UV硬化樹(shù)脂層。此外，通過(guò)對(duì)由本實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)的制造裝置2制造出的基板21進(jìn)行拋甩硬化工序及完全硬化工序，由此能夠得到?jīng)]有基板周緣部的鼓起，而且不會(huì)發(fā)生UV硬化樹(shù)脂從基板側(cè)面部的剝離的藍(lán)光碟盤(pán)等光記錄介質(zhì)。2.其他的實(shí)施方式本發(fā)明的光記錄介質(zhì)的制造裝置并未限定為上述的實(shí)施方式I的制造裝置2。在實(shí)施方式I的光記錄介質(zhì)的制造裝置2中，設(shè)置了用于滴下UV硬化樹(shù)脂的兩個(gè)噴嘴(內(nèi)側(cè)噴嘴25、側(cè)面噴嘴26)，但設(shè)置的噴嘴也可以為一個(gè)。
在設(shè)置的噴嘴為一個(gè)的情況下，首先，噴嘴通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)(未圖示)而配置在中心帽24上表面的圓錐體的斜面上方的位置。然后，在圖4所示的區(qū)間A的低速旋轉(zhuǎn)時(shí)，噴嘴向中心帽24上表面的圓錐體的斜面上滴下UV硬化樹(shù)脂，緊接著，噴嘴通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)(未圖示)進(jìn)一步移動(dòng)至基板21的側(cè)面附近而向基板21的側(cè)面整周滴下UV硬化樹(shù)脂。之后，若進(jìn)行圖4所示的區(qū)間B的高速旋轉(zhuǎn)，則與實(shí)施方式I的制造裝置同樣地，在基板21上表面形成均勻的厚度的UV硬化樹(shù)脂層，在基板21的側(cè)面的整周形成截面形狀均勻的UV硬化樹(shù)脂層。此外，在設(shè)置的噴嘴為一個(gè)的情況下，也可以如下構(gòu)成:噴嘴首先通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)而配置在基板21的側(cè)面附近，向基板21的側(cè)面整周滴下UV硬化樹(shù)脂，緊接著，通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使噴嘴移動(dòng)到中心帽24上表面的圓錐體的斜面上方的位置，向中心帽24上表面的圓錐體的斜面上滴下UV硬化樹(shù)脂。這樣，若設(shè)置的噴嘴為一個(gè)，則能夠簡(jiǎn)化光記錄介質(zhì)的制造裝
置的結(jié)構(gòu)。另外，在本發(fā)明的另一實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)的制造裝置中，側(cè)面噴嘴也可以設(shè)置多個(gè)。在該實(shí)施方式的制造裝置中，例如兩個(gè)側(cè)面噴嘴通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)而配置在隔著基板的側(cè)面上的對(duì)稱(chēng)的位置，然后進(jìn)行UV硬化樹(shù)脂的滴下。這樣，若設(shè)置多個(gè)側(cè)面噴嘴，則能夠更迅速地進(jìn)行UV硬化樹(shù)脂層向側(cè)面的形成。而且，內(nèi)側(cè)噴嘴也可以設(shè)置多個(gè)。需要說(shuō)明的是，在上述的實(shí)施方式中，使用由作為滴下機(jī)構(gòu)的噴嘴滴下的UV硬化樹(shù)脂形成了透光膜層。不過(guò)，即使構(gòu)成透光膜層的樹(shù)脂為UV硬化樹(shù)脂以外的樹(shù)脂，也能夠適用本發(fā)明的思想。

工業(yè)上的可利用性本發(fā)明在對(duì)藍(lán)光碟盤(pán)等光記錄介質(zhì)均勻地形成基于UV硬化樹(shù)脂的透光膜層的制造裝置及制造方法中有用。符號(hào)說(shuō)明11...基板，12...反射膜，13...透光膜層，21...基板，22...旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)，23...中心銷(xiāo)，24...中心帽，25...內(nèi)側(cè)噴嘴，26...側(cè)面噴嘴，27...電動(dòng)機(jī)部，30...噴氣機(jī)構(gòu)，31...υν硬化樹(shù)脂層，32...υν硬化樹(shù)脂的鼓起，41...旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)，42...電動(dòng)機(jī)部，43...第一 UV照射部，44...遮光掩模，45…覆蓋部，47…中心銷(xiāo)，51...半硬化狀態(tài)部，52…未硬化狀態(tài)部，71…底座，72…第二 UV照射部，73...電動(dòng)機(jī)部，74...中心銷(xiāo)，210...基體部，211...通氣孔。
權(quán)利要求
1.一種光記錄介質(zhì)的制造裝置，其特征在于，具備: 旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)，其上載置光記錄介質(zhì)的基板； 滴下機(jī)構(gòu)，其在所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的旋轉(zhuǎn)中，滴下用于形成透光膜層的樹(shù)脂， 所述滴下機(jī)構(gòu)向所述基板的內(nèi)側(cè)和所述基板的側(cè)面滴下所述樹(shù)脂。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)的制造裝置，其特征在于， 所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)以第一旋轉(zhuǎn)速度進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，在基于所述第一旋轉(zhuǎn)速度的旋轉(zhuǎn)后，以比所述第一旋轉(zhuǎn)速度高速的第二旋轉(zhuǎn)速度進(jìn)行旋轉(zhuǎn)， 所述滴下機(jī)構(gòu)在基于所述第一旋轉(zhuǎn)速度的旋轉(zhuǎn)中滴下所述樹(shù)脂。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)的制造裝置，其特征在于， 所述滴下機(jī)構(gòu)包括內(nèi)側(cè)噴嘴和側(cè)面噴嘴， 所述內(nèi)側(cè)噴嘴配置在所述基板的內(nèi)側(cè)，所述側(cè)面噴嘴配置在所述基板的側(cè)面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)的制造裝置，其特征在于， 所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)具有外徑比所述基板的外徑小的圓板形， 在所述基板載置到所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)上時(shí)比所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的外周側(cè)面突出的基板部分的正下方的位置處設(shè)置有進(jìn)行空氣的噴出的噴氣機(jī)構(gòu)。
5.一種光記錄介質(zhì)的制造方法，其是在光記錄介質(zhì)的基板上形成透光膜層的方法，包括: 在旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)上載置所述基板的步驟； 在所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的旋轉(zhuǎn)中，向所述基板的內(nèi)側(cè)滴下用于形成所述透光膜層的樹(shù)脂的步驟； 在所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的旋轉(zhuǎn)中，向所述基板的側(cè)面滴下用于形成所述透光膜層的樹(shù)脂的步驟。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于， 還包括使所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)以第一旋轉(zhuǎn)速度進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，在基于所述第一旋轉(zhuǎn)速度的旋轉(zhuǎn)后，以比所述第一旋轉(zhuǎn)速度高速的第二旋轉(zhuǎn)速度進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的步驟， 進(jìn)行滴下的所述步驟在基于所述第一旋轉(zhuǎn)速度的旋轉(zhuǎn)中滴下所述樹(shù)脂。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光記錄介質(zhì)的制造方法，其中， 還包括在滴下所述樹(shù)脂時(shí)及剛滴下所述樹(shù)脂之后，從所述基板的外周部分的下方噴出空氣的步驟。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光記錄介質(zhì)的制造方法，其中， 還包括在向所述基板涂敷了樹(shù)脂后，對(duì)所述基板的周緣部分進(jìn)行紫外線(xiàn)的遮光，并向涂敷后的樹(shù)脂層照射紫外線(xiàn)，同時(shí)使所述基板旋轉(zhuǎn)的步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光記錄介質(zhì)的制造裝置及制造方法，所述光記錄介質(zhì)的制造裝置具備旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)，其上載置光記錄介質(zhì)的基板；滴下機(jī)構(gòu)，其在所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的旋轉(zhuǎn)中，滴下用于形成透光膜層的樹(shù)脂，所述滴下機(jī)構(gòu)向所述基板的內(nèi)側(cè)和所述基板的側(cè)面滴下樹(shù)脂。根據(jù)本發(fā)明，在旋涂工序中，在光記錄介質(zhì)的側(cè)面的整周上形成截面形狀均勻的UV硬化樹(shù)脂層。
文檔編號(hào)G11B7/26GK103180904SQ20118005132
公開(kāi)日2013年6月26日 申請(qǐng)日期2011年7月22日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月25日
發(fā)明者鷹取佑治, 豐田武彥, 原田辰幸 申請(qǐng)人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社