專利名稱：：光學信息記錄媒體及其檢查方法和檢查裝置、及信息記錄方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及光學信息記錄媒體的檢查方法、檢査裝置、光學信息記錄媒體及信息記錄方法。尤其涉及以高速度進行記錄或再生的光學信息記錄媒體的檢查方法及檢查裝置，涉及檢查這樣的光學信息記錄媒體的殘留聚焦誤差及殘留跟蹤誤差的檢查方法。
背景技術：
：光學信息記錄媒體具備記錄層，信息作為位或標記被記錄于記錄層。在將信息再生的情況下，通過向位或標記照射光，并檢查出光的強度變化而將信息再生。這樣的光學信息記錄媒體一般為盤形狀，而被稱為光盤。下面，本申請說明書中，也遵循通常的習慣，將光學信息記錄媒體簡單地稱為光盤。作為高密度、大容量的光盤，藍光光盤(BD)或數(shù)字視頻光盤(DVD)等己被實用化，用于記錄計算機用的數(shù)據(jù)及軟件、視音頻數(shù)據(jù)等。在這樣的高密度、大容量的光盤中，對DVD—R/BD—R等被稱為--次寫入光盤的追記式光盤的需求也在提高。追記式光盤具備含有例如專利文獻l公開的Te—O—M(其中，M為選自金屬元素、半金屬元素及半導體元素中的至少一種元素。)系材料的記錄層。Te—O—M系材料是含有Te、O及M的復合材料，膜形成之后，在Te02的矩陣中，Te、Te—M及M的微粒子任意地分散。向由該材料形成的記錄層照射規(guī)定強度以上的激光時，記錄層的激光照射的部分熔融，冷卻時，粒徑大的Te或Te—M的結晶析出。由此，在記錄層形成記錄標記。結晶析出的部分與其它部分光學性質不同，因此，向記錄標記照射激光時，反射光的強度中產生差異，能夠將反射光的強度差作為信號檢測出。這樣，可以進行僅可寫入一次的，即追記式的記錄。光盤的旋轉速度的控制方法中有CLV(ConstantLinearVelocity)方式和CAV(ConstantAngularVelocity)方式。CLV方式以與半徑位置成反正比的旋轉速度對光盤進行旋轉控制，將激光的光斑掃描軌道的線速度設為一定，同時以一定的記錄信道時鐘脈沖進行信息的記錄。CAV方式在光盤記錄時的旋轉速度設為一定，并在該狀態(tài)下使光盤的記錄中的基準信號即信道時鐘脈沖與掃描軌道的半徑位置成比例。這種情況下，在光盤的內周側，信道時鐘脈沖降低，記錄速度減慢。另外，在光盤的外周側，信道時鐘脈沖提高，記錄速度加快。其中，記錄標記的記錄線密度是一定的。在光盤記錄信息，或將記錄的信息再生的情況下，需要向光盤照射在規(guī)定的聚光狀態(tài)下聚光的激光。這時，在光盤裝置中，將把激光保持在規(guī)定聚光狀態(tài)的控制稱為聚焦伺服控制，將按照追隨在記錄層形成的標記的列即軌道的方式，保持盤的徑向上的激光的位置的控制稱為跟蹤伺服伺服控制。另外，在聚焦伺服控制中，將表示激光偏離規(guī)定聚光狀態(tài)的量的信號稱為聚焦錯誤信號。同樣，在跟蹤伺服控制中，將表示激光偏離軌道的量的信號稱為跟蹤錯誤信號。此外，跟蹤誤差及聚焦誤差也被稱為徑向跟蹤誤差(radialtrackingerror)及軸向跟蹤誤差(axialtrackingerror)例如，專利文獻2及專利文獻3公開有關追記式光盤的聚焦伺服及跟蹤伺服的技術。這些文獻公開的方法中，公開有下述內容，即，通過基于聚焦錯誤信號等控制記錄速度，進行可靠性高的記錄處理的光盤裝置及該方法；和基于跟蹤錯誤信號檢測出盤的偏重心導致的振動的值的方法。近年來，在與大容量光盤相對應的計算機外圍設備及光盤錄影機中，對高速傳送比率下的記錄的要求越來越高。具體而言，正謀求實現(xiàn)以相當于BD的6倍速(6x)的速度記錄或再生信息的技術。因此，需要將光盤的旋轉速度(或線速度)提高，并在高速下使激光掃描。在此，"倍速"是指記錄或再生的標準速度的幾倍的速度。記錄或再生的速度具體地以線速度或傳送速率來表示。本申請說明書中，主要使用線速度來說明記錄或再生的速度。此外，提高盤旋轉速度時，由于光盤的面移動、偏心、缺損、厚度分布不均等、光盤的形狀不完整，記錄信息的軌道的位置及記錄層的位置(高度)在高速下位移。因此，需要在更高速下進行聚焦伺服控制及跟蹤伺服控制。但是，伺服控制的應答具有一定的極限，如果在超過伺服控制的應答特性的頻率下，軌道的位置及記錄層的位置發(fā)生變位，光盤裝置將不能完整地進行聚焦伺服控制及跟蹤伺服控制。其結果，顯著地產生下述問題，即，跟蹤錯誤信號的殘留誤差(殘留跟蹤誤差)增大，跟蹤伺服的穩(wěn)定性惡化，聚焦錯誤信號的殘留誤差(殘留聚焦誤差)增大，記錄信號的包絡線上發(fā)生與殘留誤差相對應的記錄缺失(脫落)并使SER(SymboiErrorRate)惡化。在此，殘留聚焦誤差是指光盤裝置在適當?shù)剡M行跟蹤伺服控制的狀態(tài)中，由于激光偏離軌道，跟蹤錯誤信號不為零，且沒有完全控制而產生的信號成分。同樣，殘留聚焦誤差是指光盤裝置在適當?shù)剡M行聚焦伺服控制的狀態(tài)中，由于激光偏離規(guī)定的聚光狀態(tài)，聚焦信號不為零，且沒有完全控制而產生的信號成分。這些信號的殘留誤差通過信號的振幅大小來評價，其值作為光盤裝置的激光的光斑偏離軌道中心的量及偏離記錄層的量，以距離(長度)來表示。例如，表示為跟蹤錯誤信號的殘留誤差是xxnm，聚焦錯誤信號的殘留誤差是xxnm。此外，殘留誤差也被稱為殘差。此外，本申請說明書中，簡單地稱為殘留誤差時，意思是殘留跟蹤誤差及殘留聚焦誤差兩方面。因此，需要以高精度對光盤制作時成為源盤的壓模、及光盤的成形、形成覆蓋層的數(shù)值的粘度及旋轉覆蓋時的厚度進行控制，同時，開發(fā)如下所述的檢查方法及檢查裝置也變得尤為重要，即，高精度且高效率地檢查制作的光盤是否滿足規(guī)定的形狀精度或機械特性的檢査方法及檢査裝置。專利文獻l:(日本)特開2004—362748號公報專利文獻2:(日本)特開2004—5817號公報專利文獻3:(日本)特許第3819138號公報但是，在檢查裝置的主軸電機以BD的6倍速進行高速旋轉，同時進行檢查的情況下，存在下述問題，即，由于振動及促動器的共振等、檢查裝置自身所具有的機械要素，導致可以觀察出殘留聚焦誤差及殘留跟蹤誤差很大，且不能高精度地測定(或檢查)本來應該測量的光盤的機械特性所導致的殘留誤差。此外，重新導入抑制振動及促動器共振的、高價且高性能的檢査裝置時，需要新的設備投資，導致媒體的成本上升。此外，例如，遍及光盤的全周，以CLV方式進行在相當于BD的6倍速(6X)那樣的線速度下的記錄的情況下，主軸電機的旋轉速度在內周上超過10000rpm。該旋轉速度是考慮了光盤的基板材料即塑料的斷裂極限并從安全性的觀點來看而確定的實用上的極限旋轉速度。因此，不優(yōu)選以超過10000卬m的速度進行光盤的檢查.此外，為了減小跟蹤信號及聚焦信號的殘留誤差，考慮變更檢査裝置的伺服濾波特性，以更高精度進行伺服控制。但是，以4倍速(4>0的線速度在BD進行記錄的光盤裝置中，已經(jīng)使用具有大約從6kHz到8kHz的高增益交點的伺服濾波器，進行聚焦伺服及跟蹤伺服控制。因此，為了對應BD的6倍速(6x)的線速度，而進一步提高檢查裝置的伺服特性的增益交點時，引起促動器的振動及相位余量的降低，可能不能確保伺服的穩(wěn)定性。
發(fā)明內容本發(fā)明的目的在于提供能夠解決上述現(xiàn)有技術問題的、并高精度地檢査以高的線速度進行記錄或再生的光學信息記錄媒體的機械特性的檢查方法及檢查裝置以及用于在這樣的光學信息記錄媒體記錄良好的信號的記錄方法及光學信息記錄媒體。本發(fā)明提供一種光學信息記錄媒體的檢查方法，是檢查光學信息記錄媒體的檢查方法，其中，向所述光學信息記錄媒體照射激光，根據(jù)激光照射的半徑位置以線速度恒定控制使所述光學信息記錄媒體旋轉，根據(jù)所述光學信息記錄媒體的半徑位置將旋轉速度切換為至少兩種線速度的第一線速度Lvl和比所述第一線速度Lvl大的第二線速度Lv2，根據(jù)來自所述光學信息記錄媒體的反射光生成聚焦錯誤信號及/或跟蹤錯誤信號，根據(jù)所述聚焦錯誤信號及/或所述跟蹤錯誤信號，進行照射所述光學信息記錄媒體的激光的聚焦控制及/或跟蹤控制，將通過使從所述聚焦錯誤信號及/或所述跟蹤錯誤信號的控制循環(huán)分支出的輸出從規(guī)定的聚焦錯誤信號用頻帶限制濾波器及/或跟蹤錯誤信號用頻帶限制濾波器通過而得到的聚焦錯誤信號的殘留誤差及/或跟蹤錯誤信號的殘留誤差、與預先確定的規(guī)定基準值進行比較。在一優(yōu)選的實施方式中，在直到所述光學信息記錄媒體的規(guī)定半徑位置R為止的內周側的區(qū)域，通過以所述第一線速度Lvl使所述光學信息記錄媒體旋轉來進行所述比較，在所述光學信息記錄媒體的所述規(guī)定半徑位置R的外周側的區(qū)域，通過以所述第二線速度Lv2使所述光學信息記錄媒體旋轉來進行所述比較。在一優(yōu)選的實施方式中，所述第一線速度和所述第二線速度的比率Lv2/Lvl為1.5或2。在一優(yōu)選的實施方式中，所述第一線速度Lvl為9.834m/sec或4.917m/sec的正實數(shù)倍，及/或，所述第二線速度Lv2是14.75lm/sec或4.917m/sec的正實數(shù)倍。在一優(yōu)選的實施方式中，所述規(guī)定的半徑位置R，在Lv2/Lvl=1.5時為33mm《R《36mm的范圍，在Lv2/Lvl=2.0時為44mm《R《48mm的范圍。在一優(yōu)選的實施方式中，所述第-一線速度和所述第二線速度是在預先記錄于所述光學信息記錄媒體的規(guī)定區(qū)域的讀出及/或寫入時的線速度中的各最大線速度的1/2以下。在一優(yōu)選的實施方式中，以所述第一線速度使所述光學信息記錄媒體旋轉、進行所述聚焦控制而進行與所述規(guī)定基準值的比較時的所述聚焦控制的伺服特性的增益交點；與以所述第二線速度使所述光學信息記錄媒體旋轉、進行所述聚焦控制而進行與所述規(guī)定基準值的比較時的所述聚焦控制的伺服特性的增益交點相等，以所述第一線速度使所述光學信息記錄媒體旋轉、進行所述跟蹤控制而進行與所述規(guī)定基準值的比較時的所述跟蹤控制的伺服特性的增益交點；與以所述第二線速度使所述光學信息記錄媒體旋轉、進行所述跟蹤控制而進行與所述規(guī)定基準值的比較時的所述跟蹤控制的伺服特性的增益交點相等。在一優(yōu)選的實施方式中，所述聚焦錯誤信號用頻帶限制濾波器包括截止頻率LPF_FcL的低通濾波器LPF;和低通側截止頻率為BPF_FcL、高通側截止頻率為BPF一FcH的帶通濾波器BPF，從所述聚焦錯誤信號的控制循環(huán)分支出的輸出被輸入到所述低通濾波器LPF及所述帶通濾波器BPF，在以所述第一線速度及所述第二線速度使所述光學信息記錄媒體旋轉、進行所述聚焦控制而與所述規(guī)定基準值進行比較的情況下，根據(jù)所述第一線速度和所述第二線速度的線速度的比率來切換所述LPF—FcL、所述BPF—FcL及所述BPF—FcH。在一優(yōu)選的實施方式中，所述跟蹤錯誤信號用頻帶限制濾波器包括截止頻率為LPF_TcL的低通濾波器LPF;和低通側截止頻率為BPFJTcL、高通側截止頻率為BPF—TcH的帶通濾波器BPF，從所述跟蹤錯誤信號的控制循環(huán)分支出的輸出被輸入到所述低通濾波器LPF及所述帶通濾波器BPF，所述LPF—TcL及所述BPF—TcL與所述第一線速度及所述第二線速度無關，是一定的，根據(jù)所述第一線速度和所述第二線速度的線速度的比率來切換所述BPF一FcH。在一優(yōu)選的實施方式中，將所述聚焦錯誤信號的所述LPF通過后的輸出F一LPF、所述聚焦錯誤信號的所述BPF通過后的輸出F一BPF、所述跟蹤錯誤信號的所述LPF通過后的輸出T—LPF、以及所述跟蹤錯誤信號的所述BPF通過后的輸出T—BPF、分別與預先確定的規(guī)定基準值進行比較。在---優(yōu)選的實施方式中，在每個所述半徑位置將所述輸出F—LPF、F—BPF、T—LPF、以及T—BPF與所述規(guī)定基準值進行比較時，將所述四個輸出與分別對應于所述第一線速度及所述第二線速度的基準值進行比較。在一優(yōu)選的實施方式中，所述第二線速度的所述F一LPF的基準值為所述第一線速度的所述F—LPF基準值的基準值以上。在一優(yōu)選的實施方式中，所述激光的強度與所述線速度無關是相同本發(fā)明提供一種光學信息記錄媒體，是光學性地再生及域記錄信息的光學信息記錄媒體，其中，在將相對于對所述光學信息記錄媒體進行再生及/或記錄的基準速度為k倍(k是正實數(shù))的速度作為速度信息記錄于所述光學信息記錄媒體的規(guī)定區(qū)域、并對于所述光學信息記錄媒體進行規(guī)定的檢査時，在所述光學信息記錄媒體的第一半徑位置的范圍，使用第一測定速度進行所述檢查，在與所述第一半徑位置的范圍相比位于外周側的第二半徑位置的范圍，使用第二測定速度進行所述檢查。在--優(yōu)選的實施方式中，所述第二測定速度為比所述基準速度的k倍低的速度，所述第一測定速度為比所述第二測定速度低的速度。在一優(yōu)選實施方式中，所述k是6以上的正實數(shù)。本發(fā)明提供一種光學信息記錄媒體，是光學性地再生及/或記錄信息的光學信息記錄媒體，其中，在將相對于對所述光學信息記錄媒體進行再生及/或記錄的基準速度為m倍(m是正實數(shù))的速度作為速度信息記錄于所述光學信息記錄媒體的規(guī)定區(qū)域的第一光學信息記錄媒體的情況下，所述第一光學信息記錄媒體使用規(guī)定的測定速度進行所述檢査，在將相對于對所述光學信息記錄媒體進行再生及/或記錄的基準速度為n倍(n是比m大的正實數(shù))的速度記錄于所述光學信息記錄媒體的規(guī)定區(qū)域的第二光學信息記錄媒體的情況下，所述第二光學信息記錄媒體根據(jù)所述第二光學信息記錄媒體的半徑位置使用不同的測定速度進行所述檢查。在一優(yōu)選的實施方式中，對于所述第二光學信息記錄媒體的測定速度的一方比對于所述第一光學信息記錄媒體的測定速度大，對于所述第二光學信息記錄媒體的測定速度的另一方為對于所述第一光學信息記錄媒體的測定速度以上。在--優(yōu)選的實施方式中，m是4以上的正實數(shù)，及/或，n是6以上的正實數(shù)。本發(fā)明的再生方法為將上述任一項所規(guī)定的光學信息記錄媒體再生的方法，其具有向所述光學信息記錄媒體照射光的步驟、和從所述光學信息記錄媒體的規(guī)定區(qū)域再生速度信息的步驟。根據(jù)本發(fā)明，根據(jù)光學信息記錄媒體將旋轉速度切換為至少兩種線速度即第一線速度Lvl和比第一線速度大的第二線速度Lv2，并測定聚焦錯誤信號的殘留誤差及/或跟蹤錯誤信號的殘留誤差。通過切換旋轉速度，可以在光學信息記錄媒體的內周側，減慢線速度，降低光學信息記錄媒體的旋轉速度，因此，即使是高倍速的光學信息記錄媒體，也能夠抑制由于檢查裝置的振動或促動器的共振等、檢查裝置自身所具有的機械要素給聚焦錯誤信號的殘留誤差及/或跟蹤錯誤信號的殘留誤差帶來不良影響，并能夠高精度地測定由于要測量的光學信息記錄媒體的機械特性所導致的殘留誤差。因此，能夠提供一種可以篩選出再生信號的質量(SER)和跟蹤伺服的穩(wěn)定性優(yōu)異的高質量的光學信息記錄媒體的檢査方法，該光學信息記錄媒體不存在下述狀況，即，在光學信息記錄媒體記錄或再生時，由于表面振顫、偏心、缺損、厚度分布偏差的影響而使跟蹤錯誤信號的殘留誤差成分增大、產生跟蹤導入失敗、促動器的振動等伺服的穩(wěn)定性變差、聚焦錯誤信號的殘留誤差成分增大，在記錄信號的包絡線發(fā)生對應殘留誤差的脫落、以及使再生信號的SER顯著變差。尤其是適用于以BD6倍速(信道時鐘396MHz)以上的線速度可記錄的追記式或可擦寫式光盤的檢查方法。此外，根據(jù)本發(fā)明，通過在光學信息記錄媒體的規(guī)定區(qū)域追記可記錄的最大線速度及半徑位置信息的至少一方，可以謀求光學信息記錄媒體生產時殘留誤差特性的檢查裝置的共用化，能夠最小限地抑制設備投資，且能夠提高光學信息記錄媒體的生產成品率，能夠謀求光學信息記錄媒體的生產成本的降低。圖1是表示本發(fā)明的光學信息記錄媒體的實施方式的結構的圖。圖2是表示本發(fā)明的實施方式中在利用6倍速的CLV對光學信息記錄媒體進行記錄或再生的情況下的半徑位置和旋轉速度的關系的圖。圖3是表示在本發(fā)明的實施方式中在根據(jù)其半徑位置將光學信息記錄媒體利用4倍速及6倍速的CLV記錄或再生的情況下的半徑位置和旋轉速度的關系的圖。圖4是表示本發(fā)明的實施方式中在根據(jù)其半徑位置將光學信息記錄媒體利用4倍速、6倍速的CLV記錄或再生的情況下的半徑位置和旋轉速度的關系的圖。圖5是表示本發(fā)明的方式中光學信息媒體的檢查裝置的整體結構的框圖。圖6是表示圖5的檢査裝置的伺服增益特性的示意圖。圖7是圖5的檢查裝置的殘留跟蹤誤差測定部的框圖。圖8是圖5的檢查裝置的殘留聚焦誤差測定部的框圖。圖9是表示在圖6的殘留跟蹤誤差測定部及圖7的殘留聚焦誤差測定部中使用的測定濾波器的特性的圖。圖10A是表示以4倍速使盤旋轉時的殘留聚焦誤差的測定結果的圖。圖10B是表示以2倍速使盤旋轉時的殘留聚焦誤差的測定結果的圖。圖11是表示在殘留聚焦誤差大的狀態(tài)下記錄的信號的RF信號和殘留聚焦誤差的關系的圖。圖12是表示每一個干擾頻率的殘留跟蹤和跟蹤引入失敗率的關系的圖。圖13表示殘留聚焦誤差和散焦余量的關系的圖。圖14是表示本發(fā)明的實施方式中根據(jù)半徑位置以4倍速的CAV及6倍速的CLV記錄及再生的情況下的半徑位置和旋轉速度的關系的圖。標號說明101光盤102主軸電機103光拾取器108跟蹤伺服放大器109聚焦伺服放大器110跟蹤促動器驅動111聚焦促動器驅動112殘留跟蹤誤差測定部113殘留聚焦誤差測定部114存儲器115判斷部116激光驅動部117旋轉速度設定部具體實施例方式下面，作為光學信息記錄媒體之一例，例舉作為光盤之一種的BD—R(追記式藍光光盤)，對本發(fā)明的實施方式進行說明。但是，光學信息記錄媒體不限于此，可以是可進行多次信息的擦寫的BD—RE(擦寫式藍光光盤)或BD—ROM(再生專用藍光光盤)。此外，也可以是其它規(guī)格的光盤。關于藍光光盤的主要光學常數(shù)和物理格式，公開于《藍光光盤讀本》(才一厶社出版)及藍光協(xié)會的主頁(http:〃www.blu—raydisc.com)中所登載的白皮書(爾7^卜^一八Q)。BD—R中，使用波長405nm(如果將誤差范圍的容許值設為士5nm，則為400410nm)的激光及NA=0.85(如果將誤差范圍的容許值設為士0.01，則為0.840.86)的物鏡。BD—R的軌距為0.32pm，記錄層設有一層或兩層。記錄層或其記錄面是從激光入射側單面起一層或單面兩層構成，從BD—R的保護層的表面到記錄面的距離為75pm10(Vm。記錄面是追記式。記錄信號的調制方式利用17PP調制，記錄的標記的最短標記長度(2T標記)為0.149(im(信道位長度T為74.50nm)。記錄容量為單面單層25GB(更詳細地說為25.025GB)，或者單面雙層50GB(更詳細地說為50.050GB)。信道時鐘頻率在BD標準傳送速率(lx)為66MHz(66.000Mbit/s)，在BD4x的傳送速率為264MHz(264.000Mbit/s)，在BD6x的傳送速率為396MHz(396細Mbit/s)，在BD8x的傳送速率為528MHz(528.000Mbit/s)。標準線速度(基準線速度、lx)為4.917m/sec。2倍(2x)、4倍(4x)、6倍(6x)及8倍(8x)的線速度分別為9.834m/sec、19.668m/sec、29.502m/sec及39.336m/sec。比標準線速度高的線速度通常是標準線速度的正整數(shù)倍，但不限于整數(shù)，也可以是正的實數(shù)倍。此外，也可以定義0.5倍(0.5x)等比標準線速度慢的線速度。圖1示意地表示BD—R的軌道配置。如圖10所示，從BD的內周側依次配置有讀入?yún)^(qū)域1004、數(shù)據(jù)區(qū)域1001、讀出區(qū)域1005。讀入?yún)^(qū)域1004內配置有OPC(OptimumPowerControl)區(qū)域1002及PIC(PermanentInformation&ControlData)區(qū)域1003。為了在向數(shù)據(jù)區(qū)域1001記錄數(shù)據(jù)之前，對每個盤測試最適合的記錄功率或記錄脈沖序列的條件，并通過記錄進行最優(yōu)化，而使用OPC區(qū)域1002。此外，在各光盤裝置的性能的偏差、或急劇的溫度變化等環(huán)境變化發(fā)生時，為了調整記錄功率或記錄脈沖序列的變動量等，也有進行試記錄的區(qū)域。通過對槽高速地進行調制，在PIC區(qū)域1003記錄有為了求出盤構造或推薦記錄功率所需的參數(shù)或記錄脈沖序列的推薦值、記錄線速度、再生條件等，其為再生專用區(qū)域。在PIC區(qū)域1003的內周側，通過被稱為BCA(BurstCuttingArea)的條形碼狀的信號記錄有未圖示的媒體識別用的固有的編號，其作為著作權保護等信息使用。數(shù)據(jù)區(qū)域1001實際上是在光盤上記錄用戶指定的數(shù)據(jù)的區(qū)域，也稱作用戶區(qū)域。在讀出區(qū)域1005沒有設置OPC區(qū)域及PIC區(qū)域，而設置有記錄如下數(shù)據(jù)的區(qū)域，該數(shù)據(jù)是關于稱為INFO區(qū)域的記錄數(shù)據(jù)的管理信息的數(shù)據(jù)。雖然未圖示，但是在內周的讀入?yún)^(qū)域1004內也設有INFO區(qū)域，為了提高可靠性，在外周記錄有共用的信息。對于距這些各區(qū)域的盤中心的距離(半徑)，讀入?yún)^(qū)域為22.2mm24.0mm，數(shù)據(jù)區(qū)域為24.0mm58.0mm，讀出區(qū)域為58.0mm58.5mm。接著，對向BD—R的信息記錄方法進行說明。在BD—R上，利用CLV方式以4倍速(4x)的線速度記錄或再生信息的情況下，為了實現(xiàn)4倍速的線速度，需要在最內周的數(shù)據(jù)區(qū)域將盤的旋轉速度保持為8000rpm，需要在最外周的數(shù)據(jù)區(qū)域將盤的旋轉速度保持為3200rmp。此外，在高線速度下進行記錄或再生時，盤的旋轉速度也更快。圖2表示在BD—R上以6倍速(6x)的線速度記錄或再生信息的情況下的記錄位置和旋轉速度的關系。記錄位置以半徑r表示。需要在數(shù)據(jù)區(qū)域1001的最內周部即r=24mm的位置，以約12000rpm的旋轉速度使BD—R旋轉，在數(shù)據(jù)區(qū)域1001的最外周即r=58mm的位置，以約4800rmp的旋轉速度使BD—R旋轉。從圖2可知，在比半徑r約28mm更靠內周側進行記錄再生時，主軸電機的旋轉速度超過10000rpm。從塑料的斷裂極限的觀點來考慮，不優(yōu)選如上所述的情況，即光盤的旋轉速度超過10000rmp，因此，不優(yōu)選以超過10000rmp的速度進行光盤的檢查。此外，在這樣的高速下，檢查裝置的伺服特性有可能變得不穩(wěn)定，有可能不能準確地檢查光盤。因此，在本發(fā)明中，對最大旋轉速度設置限制來進行光盤的檢查。具體而言，按照不超過設定的最大旋轉速度的方式將盤的內周側的線速度設為比外周側慢。圖3表示在比半徑位置r約36mm更靠內周側以4倍速(4x)的線速度，在比其更靠外周側以6倍速(6x)的線速度利用CLV進行記錄或再生的情況下的半徑位置和光盤的旋轉速度的關系。這種情況下，數(shù)據(jù)區(qū)域1001的最內周部(r=24mm)的4倍速(4x)的線速度下的最大旋轉速度約為8000rpm。將光盤的整個區(qū)域的最大旋轉速度確定為該值的情況下，在6倍速(6x)的線速度下，在半徑位置r約為36mm時，旋轉速度約為8000rpm。因此，在比半徑位置r為36mm更靠內周側，以4倍速(4x)的線速度進行記錄或再生，在比半徑位置r為36mm或比之更靠外周側，以6倍速(6x)的線速度進行記錄或再生，由此，能夠將光盤的旋轉速度設為約8000rpm以下。這樣，根據(jù)4倍速(4x)和6倍速(6x)的線速度率(1.5倍)，在最內周的半徑位置24mm的1.5倍的半徑位置36mm，通過切換兩種線速度，在4倍速(4x)及6倍速(6x)任一個線速度下旋轉的情況下，也可以使最大旋轉速度相等。通過確定旋轉速度的上限，并根據(jù)半徑位置改變線速度進行記錄或再生，從而即使線速度不同，只要最大旋轉速度相同，在用于追隨光盤的偏心或面振動成分的跟蹤控制及聚焦控制的伺服特性中，也可以不需要根據(jù)各線速度的最大旋轉速度變更后述的伺服濾波器(基準伺服)的低頻率側的增益特性，從而可以在4倍速(4x)和6倍速(6x)下使光盤裝置的伺服濾波特性共用化。此外，可以將后述的光盤的殘留誤差檢査裝置的伺服濾波特性共用化為--個，取消下述切換步驟，S卩，為了根據(jù)線速度進行伺服濾波器的切換或變更，而使聚焦動作暫時停止，變更伺服濾波特性(基準伺服)的設定，再進行聚焦、跟蹤動作，并進行再生。因此，具有能夠縮短檢查時間的效果。此外，在進行不同的線速度的殘留誤差測定時，僅通過將對測定旋轉速度和后述的殘留誤差進行測定的濾波器的截止頻率切換，就可以從內周到外周連續(xù)地進行殘留誤差的檢査，可以大幅縮短檢査時間。由此，可以縮短生產節(jié)拍時間，提高光盤的生產性。此外，可以在與4倍速(4x)的BD—R盤的檢查裝置相同的基準伺服條件下進行殘留誤差測定及檢查。可以直接將4倍速(4x)的BD—R盤的殘留誤差檢查裝置作為6倍速(6x)的BD—R盤的檢查裝置使用，通過將各生產線共用化，可以不需要導入新的檢査裝置，從而可以大幅削減設備投資費。其結果，具有在量產媒體的基礎上還可實現(xiàn)大幅的成本下降的效果。在此，將切換半徑位置r設為了36mm，但是這只是線速度比是1.5倍時的一例而已。在以讀入?yún)^(qū)域的最內周部的22.2mm為基準，并將其旋轉速度的上限設為最大旋轉速度(約8000rpm)的情況下，可以將33.3mm作為4倍速(4x)和6倍速(6x)的切換半徑位置。此外，可以將雙層盤的layerl的OPC區(qū)域的最內周部即22.7mm作為基準。艮P，將切換半徑位置設置于約33mm36mm之間的半徑位置是適合的。此外，例如使用4倍速(4x)及8倍速(8x)的線速度的情況下，線速度Lv2/Lvl是2.0。與6倍速(6x)的情況相同為低速度，g卩，將在4倍速(4x)的線速度下進行記錄或再生的情況下的半徑位置22.2mm24mm的旋轉速度設為上限旋轉速度時，將切換半徑位置設為約44mm48mm是適合的。此外，也可以對于一個光盤以三種以上的線速度進行記錄或再生。這種情況下，線速度的切換半徑位置的數(shù)量比使用的線速度的數(shù)量少一個。例如，為了使用4倍速(4x)、6倍速(6x)及8倍速(8x)的線速度進行記錄或再生，而設置兩處線速度的切換半徑位置。圖4表示在4倍速(4x)、6倍速(6x)及8倍速(8x)下利用CLV進行記錄或再生時的半徑位置和旋轉速度的關系。各線速度的上限旋轉速度由4倍速(4x)的最內周的基準即半徑位置的旋轉速度來確定。將4倍速(4x)作為基準的情況下的6倍速(6x)及8倍速(8x)的線速度成為1.5及2.0。因此，將4倍速(4x)的最內周的基準即第一半徑位置設定在22.2mm24mm時，可以將第二及第三切換半徑位置分別設定在約33mm36mm及約44mm48mm。這種情況下，在比第一半徑位置更靠內周側，以4倍速(4x)的線速度進行記錄或再生，在第一位置半徑和第二半徑位置之間，以6倍速(6x)的線速度進行記錄或再生，在比第二半徑位置更靠外側，以8倍速(8x)的線速度進行記錄或再生。這時，無論最大旋轉速度是哪一個線速度，4倍速(4x)的最內周部的基準即第一半徑位置的旋轉速度約為8000rpm。在這種情況下，與使用上述4倍速(4x)及8倍速(8x)的線速度的情況相比，可以在第一和第二切換半徑位置之間不以4倍速(4x)而是以6倍速(6x)進行記錄或再生。因此，可以提高光盤整體的記錄或再生速度，可以縮短寫入時間或讀出時間。接著，對本發(fā)明的光學信息記錄媒體的檢查裝置的實施方式進行說明。本實施方式的光學信息記錄媒體的檢查裝置使要檢查的光盤以所述的不同的線速度進行旋轉，并以成為基準的伺服特性，進行從光拾取器射出的激光的聚焦控制及跟蹤控制，同時測定得到的跟蹤錯誤信號及聚焦錯誤信號的殘留跟蹤誤差及殘留聚焦誤差。而且，通過將得到的值與基準值比較，判定光盤是否合格。圖5是表示本實施方式的光學信息媒體的檢查裝置的整體結構的框圖。圖5所示的檢查裝置進行BD—R的光盤101的檢查。光盤101的構造參照圖1如下進行說明。圖5所示的檢查裝置具備主軸電機102、光拾取器103、激光驅動部116、旋轉速度設定部117及RF放大器104、105、106。光盤101由主軸電機102驅動旋轉。主軸電機102的旋轉速度控制通過旋轉速度設定部117進行控制。激光驅動部116驅動光拾取器103內的半導體激光器103a，并利用再生功率將激光向光盤101照射。從光盤101反射的反射光透過檢測透鏡103c，由光檢測器103c接收，被變換成電信號。電信號向RF放大器104、105、106輸出。檢測裝置還具備再生信號處理107、跟蹤伺服放大器108及聚焦伺服放大器109。RF放大器104將光拾取器103的輸出放大，并將RF信號向再生信號處理部107輸出。RF放大器105根據(jù)光拾取器103的輸出生成跟蹤錯誤信號(TE)，并向跟蹤伺服放大器108輸出。RF放大器106根據(jù)光拾取器103的輸出生成聚焦錯誤信號(FE)，并向聚焦伺服放大器109輸出。檢查裝置還具備跟蹤促動器驅動IIO及聚焦促動器驅動111。跟蹤伺服放大器108根據(jù)跟蹤錯誤信號生成控制信號，并向跟蹤促動器驅動110輸出。同樣，聚焦伺服放大器109根據(jù)聚焦錯誤信號生成控制信號，并向聚焦促動器驅動111輸出。跟蹤促動器驅動IIO及聚焦促動器驅動111分別基于控制信號生成驅動信號，驅動信號驅動光拾取器103內的跟蹤及聚焦方向的驅動線圈。由此，構成包括光拾取器103、RF放大器105、跟蹤伺服放大器108、跟蹤促動器驅動110并使用跟蹤錯誤信號的跟蹤伺服控制的循環(huán)。同樣，構成包括光拾取器103、RF放大器106、聚焦伺服放大器109、聚焦促動器驅動111且使用聚焦錯誤信號的聚焦伺服控制的循環(huán)。圖6是表示跟蹤伺服控制及聚焦伺服控制的伺服濾波器的增益特性的示意圖。伺服濾波器的增益特性也被稱為基準伺服(參考伺服)。跟蹤伺服控制及聚焦伺服控制分別具有規(guī)定的基準即伺服特性。如圖6所示，伺服特性在低頻率側具有規(guī)定的增益電平，伴隨頻率提高，增益減小。將增益為0分貝的頻率fD稱作增益交點(crossoverfrequency)。伺服特性主要是通過該增益交點而具有特征。跟蹤伺服控制的伺服特性及聚焦伺服控制的伺服特性彼此不同，在檢查光盤過程中，即使如前所述使線速度變化，也可以使用同樣的伺服特性進行跟蹤伺服控制及聚焦伺服控制。檢查裝置還具備殘留跟蹤誤差測定部112、殘留聚焦誤差測定部113、存儲器114及判斷部115。從PF放大器105輸出的跟蹤錯誤信號的一部分從所述的跟蹤錯誤信號的控制循環(huán)分支，并向殘留跟蹤誤差測定部112輸入。如下詳細說明，殘留跟蹤誤差測定部112—邊進行跟蹤伺服控制，一邊從得到的跟蹤信號中提取殘留跟蹤誤差，向存儲器114輸出。同樣，從PF放大器106輸出的聚焦錯誤信號的一部分從所述的聚焦錯誤信號的控制循環(huán)分支，并向殘留聚焦誤差測定部113輸入。殘留聚焦誤差測定部113，一邊進行聚焦伺服控制，一邊從得到的聚焦信號中提取殘留聚焦誤差，向存儲器114輸出。這些殘留跟蹤誤差及殘留聚焦誤差的測定在光盤的各半徑位置進行測定。判斷部115分別對記錄在存儲器的殘留跟蹤誤差及殘留聚焦誤差、和預先設定的殘留跟蹤誤差的基準值及殘留聚焦誤差的基準值進行比較，進行合格、不合格的判定。例如，各半徑位置的殘留跟蹤誤差及殘留聚焦誤差都為基準值以下的情況下，判定被檢查的光盤為合格。圖7及圖8分別表示殘留跟蹤誤差測定部112及殘留聚焦誤差測定部113的結構。殘留跟蹤誤差測定部112包含緩存器201、LPF(低通濾波器)202、BPF(帶通濾波器)203、殘留誤差測定部204及rms噪聲測定部205。LPF202及BPF203是用于測定殘留誤差的測定濾波器。輸入到緩存器201的跟蹤錯誤信號(TE)被分成兩部分分別輸入LPF202及BPF203。殘留誤差測定部204測定通過了LPF202的跟蹤錯誤信號的殘留跟蹤誤差。rms噪聲測定部205測定通過BPF203的跟蹤錯誤信號的rms噪聲。圖9示意地表示LPF202及BPF203的頻率特性。殘留跟蹤誤差測定部112的LPF202具有截止頻率LPF—TcL，殘留跟蹤誤差測定部112的BPF203具有低通側的截止頻率BPFJTcL及高通側的截止頻率BPF一TcH。LPF202的截止頻率LPF—TcL與BPF203的低通側的截止頻率BPF—TcL相等。這些截止頻率可以根據(jù)殘留誤差的測定條件進行變化。LPF202為具有一60dB/dec的傾斜的巴特沃茲濾波器、BPF203也是具有低通側+60dB/dec、高通側一60dB/dec的傾斜的巴特沃茲濾波器。殘留誤差測定部204在檢查光盤101過程中，實時檢測通過了LPF202的跟蹤錯誤信號所包含的殘留跟蹤誤差。rms噪聲測定部205檢測通過了BPF203的跟蹤錯誤信號所包含的rms噪聲、相當于光盤旋轉--周期間得到的跟蹤錯誤信號的執(zhí)行噪聲成分。殘留聚焦誤差測定部113也與殘留跟蹤誤差測定部112同樣地構成。具體而言，如圖8所示，殘留聚焦誤差測定部113包含緩存器301、LPF302、BPF303、殘留誤差測定部304及rms噪聲測定部305。LPF302及BPF303是用于測定殘留誤差的測定濾波器。輸入到緩存器301的聚焦錯誤信號(FE)被分兩部分分別輸入LPF302及BPF303。殘留誤差測定部304測定通過了LPF302的聚焦錯誤信號的殘留聚焦誤差。rms噪聲測定部305測定通過了BPF303的聚焦錯誤信號的rms噪聲。LPF302及BPF303也具備與LPF202及BPF203同樣的頻率。如圖9所示，殘留聚焦誤差測定部113的LPF302具有截止頻率LPF—FcL，殘留聚焦誤差測定部113的BPF303具有低通側的截止頻率BPF—FcL及高通側的截止頻率BPF—FcH。LPF302的截止頻率LPF—FcL與BPF303的低通側的截止頻率BPF—FcL相等。這些截止頻率可以根據(jù)殘留誤差的測定條件進行變化。LPF302為具有一60dB/dec的傾斜的巴特沃茲濾波器、BPF303也是具有低通側+60dB/dec、高通側一60dB/dec的傾斜的巴特沃茲濾波器。此外，為了便于說明，參照圖9說明對殘留跟蹤誤差測定部112的LPF202及BPF203的頻率特性和殘留聚焦誤差測定部113的LPF302及BPF303的頻率特性進行說明，但LPF202及LPF302的截止頻率及LPFFcL也可以彼此不同。同樣，BPF203及BPF303也可以彼此不同，高通側的截止頻率BPF一TcH及BPF_FcH也可以彼此不同。殘留誤差測定部304在光盤101檢查中，實時檢測通過了LPF302的聚焦錯誤信號中包含的殘留聚焦誤差。rms噪聲測定部305檢測通過了BPF303的聚焦錯誤信號所包含的rms噪聲、在相當于光盤旋轉一周期間得到的聚焦錯誤信號的執(zhí)行噪聲成分。接著，對測定濾波器即LPF202、BPF203、LPF302及BPF303的截止頻率、和各自的殘留誤差測定的條件及步驟進行說明。表1表示4倍速(4x)用的BD—R盤和6倍速(6x)用的BD—R盤的殘留聚焦誤差的測定條件和其基準值的一例。表2表示4倍速(4x)用的BD—R盤和6倍速(6x)用的BD—R盤的殘留跟蹤誤差的測定條件和其基準值的一例。下面，有時將4倍速、6倍速等的線速度簡稱為4x、6x下面，為了易于理解，分為殘留聚焦誤差的測定條件、基準值及殘留聚焦誤差的檢查方法；和殘留跟蹤誤差的測定條件、基準值及殘留跟蹤誤差的檢查方法進行說明。但這兩種誤差測定可以同時進行，也可以先進行任一種測定，之后進行另一種測定。此外，本實施方式的檢査方法也可以進行殘留聚焦誤差的測定或殘留跟蹤誤差的測定的其中之一，也可以進行殘留聚焦誤差的測定及殘留跟蹤誤差的測定雙方。<table>tableseeoriginaldocumentpage22</column></row><table>[表2]<table>tableseeoriginaldocumentpage23</column></row><table>首先，對殘留聚焦誤差的測定條件和基準值及殘留聚焦誤差的檢查方法進行說明。在表1中，可記錄的最大速度表示向光盤記錄信息時的最大速度。4x盤可以以成為基準的線速度(lx)的4倍(4x)的線速度進行記錄，4倍(4x)的線速度為可記錄最大速度。如上所述，6x盤可以以在內周側成為基準的線速度(lx)的4倍(4x)的線速度進行記錄，在外周側，可以以6倍(6x)的線速度進行記錄。這種情況下，6倍(6x)的線速度為可記錄最大速度。因此，4x盤中，從盤的內周到外周的全周可以使用同一測定條件，但在6x盤的情況下，以半徑位置^36mm為界，在兩種條件下進行測定。內周側的線速度是第一線速度Lvl，外周側的線速度是第二線速度Lv2。第一線速度Lvl及第二線速度Lv2都是成為基準的線速度4.917m/sec的正實數(shù)倍，第二線速度Lv2比第一線速度Lvl大。光盤的可記錄及/或再生(讀出及/或寫入)的線速度預先在光盤的規(guī)定區(qū)域，具體而言在圖1所示的PIC區(qū)域1003內的盤管理區(qū)域被記錄。殘留聚焦誤差的測定以可記錄的最大速度的1/2的線速度進行。這時，由于實際上對用戶使用BD—R盤進行信息的記錄或再生的情況下產生的殘留聚焦誤差進行推斷，因此，檢查時使用的伺服濾波器的增益交點或測定濾波器(LPB、BPF)的截止頻率與線速度成比例地設為實際的記錄或再生時的1/2。圖10A及圖10B分別表示在相同光盤的相同軌道以4倍速(4x)及223倍速(2x)進行記錄或再生時的殘留聚焦誤差。其中，用于測定的伺服濾波器的增益交點分別為6.4kHz和3.2kHz。此外，殘留誤差測定時的LPF的截止頻率分別是3.2kHz和1.61(Hz。通過比較兩個信號可知，通過使截止頻率與線速度的比成比例，并設為1/2，可以得到相同大小的振幅的殘留誤差值。從以上情況可知，以實際記錄時的記錄最大速度(即，記錄用戶數(shù)據(jù)時的線速度)的1/2的線速度測定伺服特性時，通過使伺服濾波器的增益交點、和測定濾波器的截止頻率分別與線速度比成比例地設為1/2，即使以不同的兩種線速度進行測定，也可以得到相同振幅的殘留誤差值。在以旋轉速度超過5000rpm的快的旋轉速度使盤旋轉時，主軸電機的機械振動、或光拾取器的促動器的共振等的影響成為顯著的問題。高速旋轉時，不能無視主軸電機或促動器等的檢查裝置所導致的機械的殘留誤差成分的影響，很難準確地對光盤自身所具有的本來要測定的盤的殘留誤差成分進行測定。因此，以達到實際的記錄或再生時的線速度的1/2的方式使旋轉速度降低，且在伺服濾波器的增益交點和測定濾波器的截止頻率也分別與線速度的比成比例地降低至1/2的狀態(tài)下，通過測定殘留聚焦誤差，可以抑制檢査裝置自身引起的振動或共振等的機械性地產生的殘留誤差成分，可以高精度地測定光盤自身所具有的殘留誤差成分。如表1所示，在6x盤中，半徑位置不足36mm的半徑，可記錄最大速度為4x，因此，以與4x盤相同的測定條件進行測定。即，即使是6x盤，在比半徑位置36mm更靠內周側，以與現(xiàn)有的4x盤用的檢查裝置的測定條件相同的條件進行殘留聚焦的測定。另一方面，在半徑位置為36mm以上的外周，可記錄的最大速度為6x。此外，4x和6x的線速度的比率為1.5倍。因此，將伺服濾波器的增益交點和測定濾波器(LPF、BPF)的截止頻率設為用于4x盤用的測定的值的1.5倍，來進行6x盤的檢查。但是，將伺服濾波器的增益交點設為1.5倍的4.8kHz的情況下，該條件相當于如下情況，即，在用戶實際使用的光盤裝置中，一邊以9.6kHz的增益交點進行聚焦伺服控制，一邊以6x的線速度進行記錄或再生。如通常的半高尺寸的光盤位置，在小型的光裝置中，為了在不引起促動器振蕩的情況下穩(wěn)定地進行伺服控制，需要將增益交點設為68kHz，以能夠確保相位余量。對于這種情況來說，在1/2的旋轉速度下，以3.2kHz的增益交點進行測定可以說幾乎是光盤裝置穩(wěn)定地進行動作的增益交點的極限。.因此，本檢查方法中，在對6x盤的半徑位置為36mm以上的外周的殘留聚焦誤差進行測定時，伺服濾波器的增益交點設為與4x用盤的檢査裝置的增益交點相同的值，即設定為3.2kHz。測定濾波器的LPF和BPF的截止頻率與4x盤和6x盤的最大速度比1.5成比例地變更。對該理由進行說明。關于殘留聚焦誤差必須考慮的觀點是RF信號的SER(SymbolErrorRate)的惡化。艮卩，為了防止記錄后的RF信號的包絡線的脫落而對殘留聚焦誤差設置基準。產生大的殘留聚焦誤差的狀態(tài)下，在超過了寫入時允許的盤的散焦余量的情況下，由于散焦，光盤的記錄膜層上的激光點的聚焦變弱。因此，聚光的激光的能量密度不足，實質上是在記錄能量不足的狀態(tài)下寫入標記。其結果，在形成于光盤的記錄層的標記上，根據(jù)殘留誤差在徑向的寬度上產生大小。圖11表示在殘留聚焦誤差大的狀態(tài)下在光盤進行信息的記錄，并將記錄的信息再生的情況的再生波形(RF信號)和聚焦錯誤信號。該聚焦錯誤信號通過測定用濾波器，因此振幅的大小表示殘留聚焦誤差。如圖11所示，在殘留聚焦誤差大的部分，RF信號的標記側的包絡線(下側的包絡線)發(fā)生脫落。產生這樣的殘留聚焦誤差的原因是光盤面內的厚度偏差。殘留聚焦誤差使光盤旋轉，并基于根據(jù)反射光生成的信號。因此，覆蓋記錄層的覆蓋層的厚度的空間分布變換為與激光掃描的線速度相對應的時間軸分布而進行觀察。其結果，覆蓋層的厚度的偏差導致的殘留聚焦誤差的頻率與旋轉的線速度成比例。例如，由于激光掃描的圓周上的覆蓋層的厚度偏差，從而在2x的線速度下觀察的殘留聚焦誤差的頻率是在3x的線速度下與線速度比1.5成比例的1.5倍的頻率。在此，使伺服濾波器和測定濾波器的頻率與線速度比成比例地進行變化時，如參照圖IOA及圖IOB進行了說明那樣，觀察到相同振幅的殘留聚焦誤差。但是，在將伺服濾波器的增益交點固定為3.21cHz的狀態(tài)下，為了提高旋轉速度，在3x的旋轉速度下，從增益交點附近的4kHz開始每5kHz的殘留聚焦誤差成分成為增益交點外，因此，不能利用聚焦伺服控制進行抑制，并作為更大的殘留聚焦誤差被觀測。對于這種情況下，如果不能抑制該頻帶的殘留聚焦誤差成分，那就意味著發(fā)生RF信號的包絡線脫落，使再生信號的SER惡化而產生讀取錯誤。因此，在使殘留聚焦誤差的測定濾波器的截止頻率根據(jù)旋轉速度變更為1.5倍的狀態(tài)下測定殘留聚焦誤差，可以不遺漏地檢測出殘留聚焦誤差成分，該殘留聚焦誤差成分作用于在4x用盤產生的RF信號的包絡線的脫落。BPF的殘留聚焦誤差成分與確保記錄再生信號的質量的目的不同，其為了抑制流入促動器的多余電流而進行檢査。因此，該殘留聚焦誤差成分被稱為rms噪聲成分。測定該rais噪聲的帶通濾波器的低通側及高通側的截止頻率也與線速度比成比例被設為1.5倍而進行光盤的檢查。由此，可以不遺漏地檢測出在4x盤中成為問題的頻帶的rms噪聲成分。因此，檢查6x盤時，伺服濾波器的增益交點在相當于由實際驅動器可實現(xiàn)的增益交點的3.2kHz的狀態(tài)下，通過在將測定濾波器的截止頻率變更為1.5倍的測定條件下進行光盤的檢查，可以正確地篩選出殘留聚焦誤差大的盤。此外，可以在比4x盤和6x盤、或6x盤的切換半徑更靠內周側和外周側不改變伺服濾波器的特性、尤其是增益交點地進行檢查，因此，可以將檢査裝置的伺服濾波器共用化為一個，從光盤的生產性的觀點考慮也是有利的。即，可以直接將4x盤的檢查裝置作為6x盤的檢査裝置使用。此外，不需要下述的切換步驟，即，為了根據(jù)線速度進行伺服濾波器的切換，而暫時停止跟蹤、聚焦動作，變更基準伺服的設定，再次進行聚焦、跟蹤動作，進行光盤的檢查，通過僅改變線速度就可以連續(xù)地進行不同的線速度間的殘留誤差測定，從而可以縮短檢查時間。由此，可縮短生產節(jié)拍時間，可以提高光盤的生產性。此外，由于能夠以與BD—R的4x盤的檢查裝置相同的基準伺服條件進行測定，因此，可以直接將BD—R的4x盤所使用的檢查裝置作為BD—R6x盤的檢查裝置使用。因此，可以使這兩種光盤的檢查線共用化，不需要導入新的檢查裝置，可以削減設備投資費。其結果，具有能夠降低光盤生產時的制造成本的大的效果。通過使用預先設定了上述那樣的測定條件的檢查裝置，從光盤的內周到外周遍及全周測定殘留聚焦誤差，當相對于LPF和BPF各自的殘留誤差值為基準值以下時，則為檢查合格，超過基準值時，則為檢查不合格。接著，對殘留聚焦誤差的基準值進行說明。如上所述，由于即使線速度變化，也與線速度比成比例地變更測定濾波器的截止頻率，因此，6x盤的半徑位置為不足36mm的半徑及36mm以上的外周的殘留聚焦誤差值能允許的振幅大致相等。因此，殘留聚焦誤差的基準值(BPF、LPF)可以與4x盤的檢查的基準值相同。其中，基準值優(yōu)選考慮在光盤上進行記錄的激光的功率余量。圖12表示兩種光盤的殘留聚焦誤差和此時的散焦余量的關系。散焦余量是指SEP《4.2E-3的聚焦的范圍。在此使用功率余量不同的盤A和盤B。盤A的功率余量為23。/。，盤B的功率余量為18。/。。盤A和盤B存在5%的功率余量的差。在此，功率余量是指如下所述范圍，即，相對于最合適的功率，提高功率或降低功率進行記錄時，設限均衡器抖動為規(guī)定范圍內的功率范圍。具體而言，降低功率10%的情況下，是指如下所述的功率范圍，即，例如，單層盤抖動為8.5。/。，雙層盤，在L0層(里面的層/距光入射面遠的層)為8.5%以下，在Ll(前面的層/靠近光入射面的層)為10.5%以下(此外，在L1層，在最短的標記或除去空間的標記(例如，在l-7調制方式中，由于標記長度被限制為2T8T，因此最短標記為2T)的抖動為8.5。/。以下)。此外，提高功率10%的情況下，是指如下所述的功率范圍，即，例如，單層盤抖動為10.5%以下，雙層盤中，L0層為10.5%以下，Ll層為12.5%以下，(此外，在L1層，在最短的標記或除去空間的標記的抖動為10.5%以下)。如圖12所示，即使在具有相同大小的殘留聚焦誤差的情況下，盤A的散焦余量即使在任一殘留聚焦誤差中都比盤B大30nm40nm程度。即，與盤B相比，盤A的功率余量大。由此，對于殘留聚焦誤差導致的記錄功率的降低的影響程度，盤A比盤B小。從圖12的結果來看，功率余量存在5%的差的情況下，可以說至少存在相對于約30nm40nm的散焦余量的容許差。因此，根據(jù)功率余量將殘留聚焦誤差的基準值例如從80nm放寬至110nm120nm，兩者盤的系統(tǒng)余量都相等。例如，預先將殘留聚焦誤差的基準值設為80nm，例如，在具有±10%的功率余量的情況下，可以將其基準值設為110nm等放寬基準值。艮口，如上所述，相對于功率余量比較寬的盤，即使將殘留聚焦誤差的容許值放寬散焦余量的量，也不會減少系統(tǒng)整體容許的余量。因此，在功率余量優(yōu)異的盤中，通過考慮對于殘留聚焦誤差的容許值而放寬基準值，不會由于過剩嚴重的殘留誤差基準值而降低媒體的生產性，可以實現(xiàn)媒體的成品率的提高。此外，具有下述效果，即，即使將記錄膜或反射膜最優(yōu)化或者研究寫入策略(，<卜7卜，亍-)等，從而設計功率余量大的光盤，通過放寬相對于高速化下成為問題的殘留誤差的容許度，也可以提高光盤的生產性。具體而言，在檢査具有規(guī)定的功率余量的6x盤時，將使用3x的線速度的36mm以上的外周的殘留聚焦誤差的檢查的基準值設為使用2x的線速度的不足36mm的半徑的殘留聚焦誤差的檢查的基準值以上(放寬基準值)。由此，檢查36mm以上的外周的殘留聚焦誤差時，通過過剩嚴重的殘留誤差基準值，防止盤的成品率下降，且，可以制造能夠保障規(guī)定的信號記錄質量的光盤。更具體而言，在6x盤的功率余量為士10。/。的情況下，如表1所示，可以將使用3x的線速度的36mm以上的外周的殘留聚焦誤差的檢查的基準值設為80nm，將使用2x的線速度的不足36mm的半徑的殘留聚焦誤差的檢查的基準值設為110nm。接著，對殘留跟蹤誤差的測定條件和基準值及殘留跟蹤誤差的檢查方法進行說明。與表1相同，圖2中，可記錄的最大速度表示向光盤記錄信息時的最大速度。4x盤可以用成為基準的線速度(lx)的4倍(4x)的線速度進行記錄。如上所述，6x盤可以在內周側以成為基準的線速度(lx)的4倍(4x)的線速度進行記錄，在外周側，可以以6倍(6x)的線速度進行記錄。因此，4x盤中，從盤的內周到外周的全周上可以使用同一測定條件，但是6x盤的情況下，將半徑位置r-36mm作為界限，在兩種條件下進行測定。此外，內周側的線速度是第一線速度Lvl，外周側的線速度是第二線速度Lv2。第一線速度Lvl及第二線速度Lv2都是成為基準的線速度4.917m/sec的整數(shù)倍，第二線速度Lv2比第一線速度Lvl大。殘留跟蹤誤差的測定以可記錄最大速度的1/2的線速度進行。這時，由于實際上對用戶使用BD—R盤進行記錄或再生的情況下產生的殘留跟蹤誤差進行了推斷，因此，檢査時使用的伺服濾波器的增益交點或測定濾波器(LPB、BPF)的截止頻率與線速度成比例地設為實際的記錄或再生時的1/2。對此，可以使用與已敘述的聚焦誤差測定方法的伺服濾波器的增益交點或測定濾波器(LPB、BPF)的截止頻率的確定方法相同的方法。因此，以實際記錄時的記錄最大速度(即，記錄用戶數(shù)據(jù)時的線速度)的l/2的線速度測定伺服特性的時，通過使伺服濾波器的增益交點、和測定濾波器的截止頻率與各線速度比成比例地設為1/2，即使以不同的兩種線速度進行測定，也可以測定相同振幅的殘留誤差值。以旋轉速度超過5000rpm的快速的旋轉速度使盤旋轉時，主軸電機的機械振動、及拾取器的促動器的共振等的影響成為顯著的問題。高速旋轉時，不能無視主軸電機或促動器等的檢査裝置所導致的機械的殘留誤差成分的影響，很難準確地對光盤自身所具有的要測定的盤的殘留誤差成分進行測定。因此，以達到實際的記錄或再生時的線速度的1/2的方式使旋轉速度降低，且在伺服濾波器的增益交點和測定濾波器的截止頻率也分別與線速度的比成比例地降低至l/2的狀態(tài)下，測定殘留聚焦誤差，可以抑制檢查裝置自身引起的振動或共振等的機械性地產生的殘留誤差成分，可以高精度地測定光盤自身所具有的殘留誤差成分。如表2所示，在6x盤中，半徑位置不足36mm的半徑，可記錄最大速度為4x，因此，以與4x盤相同的測定條件進行測定。g卩，在比6x用盤的半徑位置36mm更靠內周側，以與目前的4x盤用的檢查裝置的測定條件相同的條件進行殘留誤差的測定。另一方面，在半徑位置為36mm以上的外周，可記錄的最大速度為6x。此外，4x和6x的線速度的比率為1.5倍。因此，將伺服濾波器的增益交點和測定濾波器(LPF、BPF)的截止頻率設為用于4x盤用的測定的值的1.5倍來進行6x盤的檢查。但是，將伺服濾波器的增益交點設為1.5倍的5.4kHz的情況下，該條件相當于如下情況，即，在用戶實際使用的光盤裝置中，以10.8kHz的增益交點進行聚焦伺服系統(tǒng)控制，同時以6X的線速度，進行記錄或再生。如---般的半高尺寸的光盤裝置那樣小型的光盤裝置中，為了在不引起促動器振動的情況下穩(wěn)定地進行伺服控制，為了能夠確保相位余量，需要將增益交點設為68kHz。對于這種情況來說，在1/2的旋轉速度下，以3.6kHz的增益交點進行測定可以說幾乎是光盤裝置穩(wěn)定地進行動作的增益交點的極限。因此，本檢查方法中，在對6x盤的半徑位置為36mm以上的外周上的殘留聚焦誤差進行測定時，伺服濾波器的增益交點設為與4x用盤的檢查裝置的增益交點相同的值，即設定為3.6kHz。產生殘留跟蹤誤差的原因是光盤的徑向的厚度偏差、槽的不均勻性、壓模(7夕y"的缺陷或成形中的劃痕、形成覆蓋層時的旋涂的不勻等，殘留跟蹤誤差是基于使光盤旋轉而由反射光生成的信號。因此，軌道方向的不均勻的軌道分布(空間分布)變換為與旋轉的線速度相對應的時間軸分布而進行觀察。其結果，殘留跟蹤誤差的頻率與旋轉的線速度成比例。例如，由于徑向的軌道的形狀偏差，在2x的線速度下觀察的殘留跟蹤誤差的頻率是在3x線速度下與線速度的比率1.5成比例的1.5倍的頻率。在此，使伺服濾波器和測定濾波器的頻率與線速度比成比例地進行變化時，觀察相同振幅的殘留跟蹤誤差。但是，在將伺服濾波器的增益交點固定為3.6kHz的狀態(tài)下，當為了提高旋轉速度，以3x的線速度使光盤旋轉時，從比增益交點高的頻率4kHz開始每5kHz的殘留跟蹤誤差成分比增益交點高，因此，不能利用跟蹤伺服控制進行抑制，并觀測出更大的殘留跟蹤誤差。即，若不能抑制該頻帶的殘留跟蹤誤差成分，則在跟蹤錯誤信號出現(xiàn)大的峰值，可能會使跟蹤控制的穩(wěn)定性下降。如上所述，在對6x盤的半徑位置為36mm以上的外周的殘留聚焦誤差進行測定時，測定濾波器(LPF和BPF)的截止頻率與4x盤和6x盤的最大速度比1.5成比例地變更為4x盤的檢査的截止頻率的1.5倍。這是為了防止SER變差，該SER變差是由于記錄時由殘留聚焦誤差所產生的RF信號的包絡線的脫落所導致的。但是，BD中，由于記錄信號的偏離軌道余量足夠大，因此，不會由于大的殘留跟蹤誤差而發(fā)生RF包絡線的脫落，且SER不會劣化。反而在殘留跟蹤誤差的測定條件下應考慮的觀點是跟蹤伺服的穩(wěn)定性。因此，如果對擾亂跟蹤伺服的穩(wěn)定性的頻帶的殘留跟蹤誤差成分進行檢查，則殘留跟蹤誤差的檢査是充分的。在此，比伺服濾波器的3.6kHz的增益交點高的頻率的殘留跟蹤誤差或干擾成分最初位于跟蹤伺服的控制頻帶外，因此，在實現(xiàn)穩(wěn)定的跟蹤伺服控制的基礎上，不會成為問題。因此，跟蹤信號的LPF的截止頻率只要按照能夠檢測出比伺服濾波器的增益交點附近低的頻帶的殘留跟蹤誤差或干擾的方式進行設定就足夠了。另一方面，如果抑制增益交點以下的頻帶中的光盤所引起的殘留跟蹤誤差成分，那么在記錄或再生中，跟蹤伺服突然由于干擾而偏離、或在記錄中引起軌道打滑而誤向附近的軌道記錄，導致誤將已寫入的數(shù)據(jù)擦掉。此外，由于提高測定濾波器的頻帶，會檢測出不需要的殘留跟蹤誤差成分，制造出具備沒有必要的高機械精度的光盤，從而也會導致光盤的制造成品率極端下降。因此，為了防止制造成本的上升，重要的一點是確定并檢查合適的LPF的截止頻率。從這些理由來看，在對6x盤的半徑位置為36mm以上的外周的殘留跟蹤誤差進行測定時，在殘留跟蹤誤差的測定濾波器中，LPF的截止頻率設定為與增益交點相同的3.6kHz，即，對于LPF的截止頻率，優(yōu)選下述情況，即，即使在測定6x盤的半徑位置為36mm以上的外周的殘留跟蹤誤差時，也使用與4x盤用的檢查裝置的測定條件相同的條件。由此，可以不遺漏地檢測出確保伺服穩(wěn)定性所需要的殘留跟蹤誤差成分，且在不降低伺服穩(wěn)定性的情況下防止媒體的成品率下降。與確保伺服穩(wěn)定性的目的不同，對于BPF的殘留跟蹤誤差成分來說，是為了抑制流入促動器的浪費電流而設置基準的。因此，高殘留聚焦誤差成分被稱為rms噪聲。測定該rms噪聲的BPF的高通側的截止頻率也與線速度成比例地設為1.5倍，而進行光盤的檢查。由此，可以不遺漏地檢測出在4x盤成為問題的頻帶的rms噪聲成分。圖13表示不同的干擾頻率的殘留跟蹤誤差和跟蹤導入失敗率的關系。圖13所示的結果如下得到。首先，在各個干擾頻率中，改變掃描的電壓，同時測定在跟蹤接通狀態(tài)下觀測的殘留跟蹤誤差量。接著，在各測定殘留跟蹤誤差量的干擾頻率及掃描電壓中，多次重復從跟蹤切斷狀態(tài)向跟蹤接通狀態(tài)進行跟蹤導入動作。通過導入動作，計數(shù)產生跟蹤偏差或導入失敗的次數(shù)、和跟蹤正常且穩(wěn)定地進行動作的次數(shù)。求出相對于導入動作次數(shù)的導入失敗的比率，將其匯總在表中。盤的旋轉速度為3x，伺服濾波器的增益交點以3.6kHz進行測定。圖13中，折線1101、1102、1103及1104分別表示干擾頻率為1.2kHz、1.8kHz、3.6kHz及5.4kHz時的結果。導入失敗率如折線1101、1102所示，在干擾頻率比伺服濾波器的增益交點低，且殘留跟蹤誤差超過25nm時急劇上升。但是，如折線1103、1104所示，可以得出下述結果，g卩，在干擾頻率為伺服濾波器的增益交點以上的情況下，即使殘留跟蹤誤差超過25nm，跟蹤導入失敗率也不會變差。從上述結果可知，比伺服濾波器的增益交點高的頻率的殘留跟蹤誤差成分不會對跟蹤伺服的穩(wěn)定性帶來不良影響。此外，還證實了即使是增益交點以下的頻率的殘留跟蹤誤差成分，如果是25nm以下的值，也不會阻礙伺服的導入時的穩(wěn)定性。因此，對6x盤的半徑位置為36mm以上的外周中殘留跟蹤誤差進行測定時，在殘留跟蹤誤差的測定濾波器中，LPF的截止頻率設定為與增益交點相同的3.6kHz或其以上，g卩，關于LPF的截止頻率，優(yōu)選下述情況，即，即使在測定6x盤的半徑位置為36mm以上的外周的殘留跟蹤誤差時，也設定為與4x盤用的檢査裝置的測定條件相同的條件、或其以上的頻率。此外，對于殘留跟蹤誤差的檢査，如己說明那樣，6x盤的半徑位置為不足36mm的半徑及為36mm以上的外周的殘留跟蹤誤差值的可容許的振幅大致相等。因此，殘留跟蹤誤差的基準值(BPF、LPF)可以與4x盤的檢査的基準值相同。如以上所說明，在對6^盤的殘留跟蹤誤差進行檢查時，伺服濾波器的增益交點在相當于通過實際驅動器能夠實現(xiàn)的增益交點的3.6kHz的狀態(tài)下，考慮到伺服的穩(wěn)定性和光盤的制造成品率而將測定濾波器的截止頻率設為與增益交點相等。其它的特定條件可以通過依據(jù)表2正確地對殘留跟蹤誤差大的盤進行篩選。通過排除這些光盤，可以防止跟蹤伺服由于干擾而突然偏離或引起軌道打滑，而錯誤地向附近的軌道記錄，導致誤將已寫入的數(shù)據(jù)擦掉。此外，4x盤和6x盤上，或比6x盤的切換半徑更靠內周側和外周側，可以不改變伺服濾波器的特性、尤其是增益交點進行檢查，因此，可以將檢査裝置的伺服濾波器共用化為一個，且從光盤的生產性的觀點來看也是有利的。即，可以將4x盤的檢查裝置直接作為6x盤的檢查裝置使用。此外，可以將各個檢查線共用化，不需要導入新的檢查裝置，從而可以削減設備投資費。其結果具有可以降低光盤生產時的制造成本這一大的效果。此外，為了根據(jù)線速度進行伺服濾波器的切換，而不需要使聚焦動作暫時停止，變更基準伺服的設定，再進行聚焦動作，進行光盤檢查這樣切換步驟，可以通過只改變線速度而連續(xù)地實施不同的線速度之間的殘留誤差測定，從而能夠縮短檢查時間。由此，能夠縮短檢查時間，能夠縮短生產的節(jié)拍時間，提高光盤的生產性，實現(xiàn)成本降低。通過使用預先設定了上述測定條件的檢查裝置，從光盤的內周到外周的全周，測定殘留跟蹤誤差，相對于LPF和BPF的各殘留誤差值在基準值以下的情況下，為檢查合格，超過基準值的情況下，為檢查不合格。本實施方式的光盤的檢查方法根據(jù)將上述檢查順序指令給檢查裝置的程序適宜地進行實施。這樣的程序可以通過內置于檢查裝置的專用LSI進行實施，也可以通過外部的PC進行實施。此外，可以通過專用的硬件進行實施。此外，殘留誤差測定的LPF和BPF的截止頻率的替換與光盤的控制循環(huán)相獨立地進行，因此，很明顯，即使在正在進行聚焦控制、跟蹤控制時切換LPF和BPF，也不會給伺服動作帶來影響。因此，不會由于濾波器的切換作業(yè)而產生檢查時間的延長。接著，對上述的檢査結果是殘留聚焦誤差和殘留跟蹤誤差都超過基準值的光盤的處理進行說明?？紤]了下述情況，即，使用本實施方式的光盤的檢查方法進行6x盤的檢查的結果是，存在殘留聚焦誤差及殘留跟蹤誤差至少一個超過基準值的殘留誤差。如圖5所示，對114存儲器內進行檢索，從殘留聚焦誤差或殘留跟蹤誤差超過基準值的一個或多個半徑位置信息中檢索最內側的半徑位置信息。將在最內周超過基準值的半徑位置信息設為Rx。Rx位于切換半徑位置的內側的情況下，判斷為該光盤不合格。另一方面，Rx位于切換半徑位置的外側時，在距Rx的位置的外周側，使用4x盤的檢查條件對其光盤再次進行檢查。在4x盤的檢查條件下合格的情況下，該光盤整體上滿足4x盤的殘留誤差的條件。因此，該光盤可以不作為6x盤而作為4x盤使用。下面，對將這樣的光盤作為4x盤使用的方法進行說明。首先，第一，該光盤是作為6x盤制作的，因此，在盤管理區(qū)域內的PIC區(qū)域，預先記錄有可以以lx、2x、4x、6x進行記錄的條件，具體地說預先記錄有最大線速度及全部的線速度的功率及寫入策略信息。這種情況下，光盤裝置通常會被識別為6x盤，以最大6x進行記錄。PIC區(qū)域是再生專用區(qū)域，因此不能追記信息。因此，在6x盤中，根據(jù)物理格式設置有在檢查后限制最大線速度或寫入指定信息的記錄區(qū)域。在該記錄區(qū)域記錄檢查的結果、可記錄的最大線速度(Sx)。這種情況下，光盤裝置按照下述方式規(guī)定，g卩，與預先記錄于盤管理區(qū)域的最高線速信息相比優(yōu)先使用追記區(qū)域中記錄的最大線速度信息。光盤裝置首先確認有無追記的最大線速度(Sx)。記錄有Sx的情況下，根據(jù)其Sx的值，將Sx作為最大線速度在光盤上進行記錄。Sx被追記于光盤內的盤管理區(qū)域即BCA或讀入?yún)^(qū)域或讀出區(qū)域內的一次寫入的區(qū)域。例如在讀入?yún)^(qū)域或讀出區(qū)域內的PAC或DMA、或OPC測試區(qū)域或Drive區(qū)域、DCZ(DriveCalibrationZone)的任一個或多個區(qū)域追記最大線速度信息(Sx)。如前所述，用于追記最大線速度信息區(qū)域優(yōu)選為根據(jù)物理格式規(guī)格確保的專用的區(qū)域。由此，根據(jù)光盤的機械特性的質量，可以通過檢査結果確定記錄速度的上限，能夠大幅改善光盤生產的成品率，實現(xiàn)生產性提高和成本降低。接著，在通過檢査明白利用上述的方法可以將作為6x盤制作的盤當做4x盤使用的情況下，對將利用上述的檢查得到的半徑位置信息Rx與Sx—樣追記至光盤的管理區(qū)域的方法進行說明。如上所述，盤管理區(qū)域的PIC區(qū)域是再生專用的，不能追記。因此，在6x盤中設置下述追記區(qū)域，即，用于根據(jù)物理格式，在檢查后限制可以以最大線速度記錄的半徑位置的上限或寫入指定信息的追記區(qū)域。該追記區(qū)域被追記檢査的結果中殘留聚焦誤差或殘留殘留跟蹤誤差超過基準值的-個或多個半徑位置中最內周側的半徑位置信息(Rx)?？梢蕴娲霃轿恢眯畔?，或在上述半徑位置信息的基礎上追記物理地址信息(PAA，PhysicalADPIAddress)。由此，對于從切換半徑位置到Rx之間的半徑位置，以最大線速度(6x)進行記錄，對于殘留誤差大的Rx更外側的半徑位置，可以使最大速度降低至4x，可以根據(jù)光盤的機械精度盡量快地進行記錄，能夠縮短記錄時間。光盤裝置首先確認有無追記的最大線速度信息(Sx)。記錄有Sx的情況下，從切換半徑位置(36mm)到外周側，根據(jù)其最大線速度信息以最大線速度以下在光盤進行記錄。但是，同時記錄有Rx的情況下，從切換半徑位置(36mm)到Rx的半徑位置之間的區(qū)域，以最大線速度6x進行記錄，在比Rx更外側的半徑值，以4x進行記錄。Rx被追記于光盤內的盤管理區(qū)域即BCA或讀入?yún)^(qū)域或讀出區(qū)域內的可追記的區(qū)域。例如在讀入?yún)^(qū)域或讀出區(qū)域內的PAC或DMA、或OPC試驗區(qū)域或Drive區(qū)域、DCZ(DriveCalibrationZone)的任一個或多個區(qū)域追記半徑位置信息(Rx)?？梢蕴娲鶵x，或在上述半徑位置的基礎上記錄物理地址信息。如上所述，用于追記半徑位置信息的區(qū)域優(yōu)選為通過物理格式被確保的專用區(qū)域。由此，產生如下所述的優(yōu)點，即，根據(jù)光盤的機械特性的質量，可以根據(jù)檢查結果確定半徑位置的上限，可以根據(jù)盤的機械精度盡可能快地進行記錄，可以縮短記錄時間?？梢栽诠獗P上追記最大線速度信息(Sx)及半徑位置信息(Rx)這兩個信息，也可以只追記任何一個。將Sx和Rx組合使用時，如以下表3所示。<table>tableseeoriginaldocumentpage36</column></row><table>如表3所示，如果Sx=6x、Rx=57mm，則設為從24mm到36mm以4x進行記錄，從36mm到57mm以6x進行記錄，從57mm到58mm以4x進行記錄。如果Sx=6x、Rx無記錄，則設為從24mm到36mm以4x進行記錄，從36mm到58mm以6x進行記錄。如果Sx=4x、Rx=57mm，則設為從24mm至'J57mm以4x進行記錄，從57mm至U58mm以2x進行記錄。如果Sx=4x、Rx無記錄，則設為從24mm到58mm以4x進行記錄。如果Sx無記錄、Rx=57mm，則設為從24mm至U36mm以4x進行記錄，從36mm到57mm以6x進行記錄，從57mm到58mm以4x進行記錄。如果Sx無記錄、Rx無記錄，則設為從24mm到36mm以4x進行記錄，從36mm到58mm以6x進行記錄。這樣，沒有Sx的記錄的情況下，以PIC信息中記錄的最大記錄速度為優(yōu)先。此外，沒有Rx的記錄的情況下在切換半徑位置更外側以6x的線速度進行記錄，或在光盤整體上以4x以下進行記錄。通過追記Sx及Rx,如上所述，可以改善光盤的制造成品率，實現(xiàn)生產性提高及成本降低。此外，根據(jù)光盤的機械特性的質量，可以通過檢査結果確定半徑位置的上限，能夠根據(jù)光盤的機械精度盡可能快速地進行記錄，能夠縮短記錄時間。此外，在上述實施方式中，追記殘留聚焦誤差或殘留跟蹤誤差超過基準值的一個或多個的半徑位置信息中最內周側的半徑位置信息(Rx)，在其半徑位置更外周側，通過確認在4X盤的檢査條件下合格，而在其半徑位置更外側上作為4X盤使用。但是，殘留聚焦誤差或殘留跟蹤誤差超過基準時的一個或多個半徑位置信息中最外周側的半徑位置信息(Ry)，在比該半徑位置信息(Ry)的位置更外周側，具有在6x盤的檢査條件下殘留的檢查合格的區(qū)域的情況下，可以將比半徑位置信息(Ry)的位置更外周側的區(qū)域作為6x盤使用。這種情況下，例如，可以將與半徑位置信息(Ry)及/或半徑位置信息(Ry)相對應的物理地址作為其光盤所固有的信息Ry，記錄于上述的盤管理區(qū)域即BCA及讀入?yún)^(qū)域或獨處區(qū)域內追記式的區(qū)域。這種情況下，光盤裝置通過參照該信息，可以在比Ry的位置更外周側的區(qū)域上，以6x的線速度進行記錄或再生。即，盤中從最內周側到切換半徑位置(36mm)的區(qū)域，以4x的線速度進行記錄或再生，從切換位置(36mm)到R的位置的區(qū)域，以6x的線速度進行記錄或再生。此外，在從Rx的位置到Ry的位置的區(qū)域，以4x的線速度進行記錄或再生，在比Ry的位置更外周側的區(qū)域，再以6x的線速度進行記錄或再生。由此，能夠以6x的線速度進行記錄或再生的區(qū)域增加，因此，可以縮短記錄或再生所需要的時間。此外，在殘留聚焦誤差或殘留跟蹤誤差超過基準值的半徑位置不多的情況下，可以將超過基準值的所有半徑位置信息(Rz)及/或與半徑位置相對應的物理地址作為該光盤固有的信息Rz，記錄于上述的盤管理區(qū)域即BCA或讀入?yún)^(qū)域或讀出區(qū)域內可記錄的區(qū)域。這種情況下，光盤裝置通過參照該信息，可以在比切換半徑位置(36mm)更靠外周側的區(qū)域，在Rz的位置以外以6x的線速度進行記錄或再生，在Rz的位置以4x的線速度進行記錄或再生。由此，能夠以6x的線速度進行記錄或再生的區(qū)域進一步增加，因此，能夠縮短記錄或再生所需要的時間。此外，即使是作為6x盤檢查合格的情況下，也可以追記Rx及Sx?；蛘撸词故亲鳛?x盤檢查合格的情況下，也可以設S^4x進行追記，作為4x盤進行生產。這種情況下，不需要切換6x及4x這兩種光盤進行生產。因此，可以根據(jù)需要和供給的平衡，不更換生產設備地生產6x盤及4x盤。此外，在4x盤和6x盤中可以使用共用壓模，因此，不需要制作多個壓模。從以上所述來看，能夠大幅削減設備費用，實現(xiàn)成本降低。此外，在6x盤中，不僅是切換半徑位置(36mm)，也可以根據(jù)6x應該滿足的殘留聚焦誤差及殘留跟蹤誤差的檢查結果，確定其光盤所固有的切換半徑位置，將其半徑位置信息(Rw)記錄于盤。具體而言，不僅是切換半徑位置，對盤的整個區(qū)域進行6x應該滿足的殘留聚焦誤差及殘留跟蹤誤差的檢查，從殘留聚焦誤差或殘留跟蹤誤差超過基準值的一個或多個半徑位置信息中確定最外周側的半徑位置信息(Rw)，并將Rw記錄于盤管理區(qū)域即BCA或讀入?yún)^(qū)域或讀出區(qū)域內追記式的區(qū)域。光盤裝置通過參考該信息，不僅是切換位置(36mm)，在Rw的位置及其更外周側以6=<的線速度進行記錄或再生，在比Rw的位置更內周側，以4x的線速度進行記錄或再生。由此，可以根據(jù)盤的機械的特性在最短的時間內進行記錄或再生。但是，這種情況下，實現(xiàn)半徑位置信息(Rw)的位置的6x上的線速度的旋轉速度，優(yōu)選例如按照不超過10000rmp的方式確定半徑位置信息(Rw)。接著，對滿足不管是4x盤還是6x盤的殘留聚焦誤差及殘留跟蹤誤差的檢查的盤的處理進行說明。對于4x盤，對應滿足4x盤及6x盤的殘留聚焦誤差及殘留跟蹤誤差進行檢查，在4x盤中確認了具有6x盤的機械精度的情況下，具備可將4x盤作為6x盤使用的機械精度，在性能上可以作為6x盤使用。但是，4x盤的盤管理區(qū)域內的PIC區(qū)域，在可以用lx、2x、4x進行記錄的條件下，具體而言，預先記錄最大線速度及全部的線速度下的功率或寫入策略信息。這種情況下，光盤裝置通常被識別為4x盤，并以最大4x進行記錄。PIC區(qū)域為再生專用區(qū)域，不能進行信息的追記，因此，如上所述，在4x盤根據(jù)物理格式設置有在檢查后寫入寫入最大線速度(Sx)的追記區(qū)域。在該追記區(qū)域，根據(jù)檢查的結果記錄最大線速度(6x)。光盤裝置確認4x盤有無追記最大線速度(Sx)，如果記錄有Sx時，則根據(jù)其最大線速度、即6x的信息，以最大Sx在光盤進行記錄。Sx被追記至光盤內的盤管理區(qū)域即BCA或讀入?yún)^(qū)域或讀出區(qū)域內可追記的區(qū)域。例如，在讀入?yún)^(qū)域或讀出區(qū)域內的PAC或DMA、或OPC測試區(qū)域或Drive區(qū)域、DCZ(DriveCalibrationZone)的任一個或多個區(qū)域記錄最大線速度信息(Sx)。由此，根據(jù)光盤的機械特性的質量，可以通過檢查結果確定記錄速度的上限，可以大幅改善光盤的生產成品率，實現(xiàn)生產性提高和成本降低。這樣，在4x盤中將殘留誤差的檢查結果良好的盤作為6x盤，g卩，可以進行超速驅動記錄。因此，與在通常的4x光盤中沒有將殘留誤差結果追記為管理信息的光盤相比，利用光盤驅動器寫入時，可靠性高，并可在高速下進行超速驅動。如上所述，通過追記Rx或Sx，從生產性的觀點來看，能夠得到可以以一條生產線檢査4x盤和6x盤這一優(yōu)點。此外，在只生產6x盤，且殘留誤差檢查的結果的成品率低的情況下，能夠降低不得不廢棄大量盤的風險，可以提高盤的生產性，實現(xiàn)成本降低。此外，對于可通過一個壓模成形的盤的數(shù)量，生產數(shù)量增加的同定時械特性惡化，有時會招致成品率的下降。這種情況下，由于可以作為殘留誤差基準比較緩和的4x盤使用，因此，在壓模為新的初始的狀態(tài)下，生產6x盤。即使在壓模劣化至殘留誤差基準不滿足6x盤的基準但滿足4x盤的基準的程度時，也可以繼續(xù)生產4x盤。因此，能夠在不降低制造成品率的情況下增加可以用一個壓模進行生產的數(shù)量，能夠延長壓模壽命，并實現(xiàn)成本降低。此外，如上所述，根據(jù)殘留誤差檢查的結果，追記Sx、Rx，并基于記錄的信息，作為4x或6x使用的情況下，對于是否滿足殘留誤差以外的機械特性項目或記錄再生特性等的必要特性，優(yōu)選在各自規(guī)定的條件下分別進行檢査。此外，進行殘留聚焦誤差及殘留跟蹤誤差的檢査時，向光盤照射的激光的再生功率不管線速度的切換前后，都以一定的再生功率進行檢查。通過這樣在線速度的切換前后以相同的再生功率進行檢查，可以不需要再生功率變化所產生的檢査裝置的電路偏置調整，縮短檢查時間。此外，以不同的兩種線速度使光盤旋轉，并使照射的激光的再生功率在各線速度下相同時，條件是再生光導致的對光盤的損傷以兩種線速度中緩慢的線速度進行旋轉。因此，在以緩慢的線速度使光盤旋轉的狀態(tài)下，可以直接進行再生持久性的檢査。通過以相同的再生功率進行檢查，可以不在多個線速度下實施再生耐久性。因此，可以實現(xiàn)光盤的生產性的提高。本發(fā)明的檢查方法中，在BD—R中可以為HTL(HighToLow)及LTH(LowToHigh)中的任一種。此外，本發(fā)明的檢査方法適用于單層盤及雙層盤的任一種類的光盤。此外，以BD—R為例對本發(fā)明的檢查方法進行了說明，但是本發(fā)明的檢查方法也可以適用于可擦寫型的BD—R及讀取專用型的BD—ROM。此外，以6x盤的檢查為例對本發(fā)明的光盤的檢查方法進行了說明，但明顯的是，本發(fā)明的光盤的檢查方法也可以適用于以8x盤或其以上的速度進行寫入的光盤的殘留誤差檢查。在8x盤的情況下，如圖4所示，設定兩處的切換半徑位置，可以按照比36mm更內周以4x記錄、36mm48mm以6x記錄、48mm以后以8x記錄的方式，根據(jù)半徑位置，以4x、6x、8x的線速度利用CLV進行記錄。圖4表示在8x盤中，根據(jù)半徑位置以4x的CLV、6x的CLV、8x的CLV進行記錄及再生的情況下的半徑位置和旋轉速度的關系。各線速度的上限旋轉速度由成為4x的最內周的基準的半徑位置的旋轉速度來確定。第一切換半徑位置為33mm至36mm，第二切換半徑位置為約44mm至48mm的范圍內。比第一切換半徑位置更內側以4x的線速度進行記錄，第--和第二的切換半徑位置之間以6x的線速度進行記錄，比第二半徑更外周側以8x的線速度進行記錄。這種情況下，與具有4x和8x的一個切換半徑位置的情況相比，可以在第一和第二切換半徑位置之間不是以4x的線速度而是以6x的線速度進行記錄。因此，可以提高整體的傳送速率，縮短寫入時間。關于8x盤，也以與上述相同的方法進行殘留聚焦誤差及殘留跟蹤誤差的檢查。此外，在6x盤的檢查中，也可以考慮如下所述的方法，即，如圖14所示，以4x和6x切換線速度時，在比第一切換半徑位置更內周側，在最內周部以相當于4x的旋轉速度(例如如果r=24mm則約為8000rpm)，并通過旋轉速度恒定控制(CAV)方式進行記錄，在切換半徑位置為約33mm36mm之間切換為6x的線速度的CLV。這種情況下記錄速率最快，具有可以在短時間內向一張盤記錄信息的效果。在以CAV方式進行記錄的部分進行殘留誤差檢查的情況下，以CAV的旋轉速度的1/2的旋轉速度進行殘留誤差檢查，伴隨半徑位置線速度緩緩上升，因此，在到切換半徑位置之間，使測定濾波器(殘留聚焦誤差檢查時為測定濾波器的LPF及BPF，殘留跟蹤誤差檢查時為測定濾波器的BPF)的截止頻率與半徑位置成比例地變化，同時進行殘留誤差測定，切換半徑位置以后可以用上述的檢查方法進行檢查。此外，在上述的實施方式中，為了確定切換半徑位置，確定了提供比切換半徑位置更內周側的記錄或再生的線速度的最大旋轉速度的半徑位置，但是，如上所述，6x盤的切換半徑位置位于約33mm36mm之間。因此，也可以不確定提供最大旋轉速度的半徑位置，在該范圍內，可以確定切換半徑位置。此外，不管是否確定了提供最大旋轉速度的半徑位置并確定了切換半徑位置，也可以在提供最大旋轉速度的半徑位置不進行殘留誤差的測定。這是由于有時提供比切換半徑位置更靠內周側的記錄或再生的線速度的最大旋轉速度的半徑位置不是用戶數(shù)據(jù)區(qū)域。因此，在6x盤中，在比切換半徑位置更內周側，以與4x相同的條件測定6x盤的殘留誤差，也可以在切換半徑位置及其外周側，以上述的條件進行殘留誤差的測定。此外，在上述實施方式中，將以6x盤(至少在盤的任一半徑位置可以進行6倍速的線速度的再生及/或記錄的盤)的測定速度為切換基準的切換半徑位置設定于36mm，在不足36mm的半徑位置(atradiiupto36mm/smallerthan36mmintheradiusposition)中，與4x盤相同，以2倍速的線速度進行測定，在36mm以上的半徑位置(atradii36mmandhigher/greaterthanorequalto36mmintheradiusposition)中，以3倍速的線速度進行殘留誤差的測定。但是，切換半徑位置是切換線速度的極限，因此，可以用2x的線速度或3x的線速度的任一個測定殘留誤差。即，可以在36mm以下的半徑位置(atradii36mmandlower/smallerthanorequalto36mmintheradiusposition)中，與4倍速對應盤相同，以2倍速的線速度進行測定，在比36mm大的半徑位置(/greaterthan36mmintheradiusposition)中，以3倍速的線速度進行測定。這樣做的目的如下，即，提供在各旋轉速度的最大旋轉速度相同的半徑位置進行第一線速度Lvl和第二線速度Lv2(Lvl<Lv2)的旋轉速度的切換的光盤；和以上述光盤的記錄速度的1/2的旋轉速度檢査殘留誤差且在兩個旋轉速度的伺服濾波特性(增益交點)相等的測定條件下根據(jù)聚焦錯誤信號和上述跟蹤錯誤信號測定殘留誤差(殘留誤差)，并判斷是否滿足基準值的光盤的殘留誤差檢測方法，尤其是可以用6倍速以上的高速進行記錄的追記式型(或也包含可擦寫型盤)光盤，并且，提供在對這樣的光盤記錄信號時，按照得到良好的記錄信號質量及伺服穩(wěn)定性的方式高精度地檢査上述光盤的檢査方法、以及檢查裝置及用于在那樣的光盤記錄良好的信號的記錄方法。此外，作為計測來自光學信息記錄媒體的再生信號的質量的指標之一，可以例舉檢測位或記錄標記與空間的比(非對稱性)的非對稱法。也可以在檢查上述抖動的基礎上或代替檢査抖動而檢查該非對稱。這種情況下，例如，計算出最短標記(1—7調制的情況下為2T)的振幅中心、和最長標記(1—7調制的情況下為8T)的振幅中心，據(jù)此，通過將非對稱限制在規(guī)定的范圍內，可以保證信號質量。具體而言，將最長標記的振幅中心和最短標記的振幅中心的差、和最長標記的全振幅的"比率"控制在規(guī)定范圍內。更詳細地說，最長標記為8T的情況下，將最長標記的最大振幅設為I(8H)，將最長標記的最小振幅設為I(8L)，將最長標記的全振幅設為I(8pp)，最短標記為2T的情況下，將最短標記的最大振幅設為I(2H)，將最短標記的最小振幅設為I(2L)時，最長標記的振幅中心成為"(I(8H)—I(8L))/2"，最短標記的振幅中心成為"(I(2H)—I(2L))/2"，最長標記的全振幅I(8pp)成為"I(8H)—I(8L)，，。因此，上述"比率"成為"((I(8H)—I(8L))/2—(I(2H)—I(2L))/2)/1(8pp)"。該值如果在規(guī)定的范圍內(例如，滿足"一0.10以上"及域"+0.15以下")，則可判斷為再生信號的質量適當。此外，光學信息記錄媒體可以是具有下述的突起部的記錄媒體。例如，藍光光盤的情況下，保護層的厚度在單層盤中為100(im，在雙層盤中為75,。為了防止對這樣薄的保護膜的損傷，可以在保護區(qū)域(ClampArea)的外側或內側設置突起部。尤其是在保持區(qū)域的內側設置的情況下，在防止損傷保護層的基礎上，由于在盤的中心孔附近部分具有突起部，因此可以減輕由突起部的重量平衡引起對旋轉軸(電機)的負荷或避免與光頭的碰撞(光頭在位于保持區(qū)域的外側的信息記錄區(qū)域進行存取，因此通過在保持區(qū)域內側設置突起部，避免突起部與光頭的碰撞。)在將保持區(qū)域設置于內側的情況下，例如外徑120mm的盤的保持區(qū)域的具體位置可以如下進行設置。假設中心孔的直徑為15mm，保持區(qū)域的直徑設為從23mm至33mm范圍內時，在中心孔和保持區(qū)域之間，即在直徑15mm至23mm的范圍內設置突起部。這時，可以在距離中心孔一定距離設置(例如可以距離中心孔的緣端0.1mm以上(或/及0.125mm以下))，此外，可以距離保持區(qū)域一定距離設置(例如可以距離保持區(qū)域的內端0.1mm以上(或/及0.2mm以下))。此外，也可以從中心孔的緣端和保持區(qū)域的內端的雙方隔開--定距離設置(作為具體的位置，例如可以在從直徑17.5mm至21.0mm的范圍內設置突起部)。此外，突起部的高度只要考慮不易損傷保護層或容易拿起的平衡確定就可以，但是即使過高也可能會發(fā)生其它的問題，因此，例如可以設為距離保持區(qū)域0.12mm以下的咼度。此外，對光學信息記錄媒體為多層的情況下的結構進行簡單敘述。例如，當采用從保護層側入射激光并再生/或記錄信息的單面盤時，將記錄層設為兩層以上的情況下，在基板和保護層之間設置多個記錄層?？梢园慈缦滤鲈O置這種情況下的多層構造。即，在從光入射面隔開規(guī)定的距離的最內側的位置設置基準層(L0)，按照從基準層向光入射面?zhèn)仍黾訉拥姆绞竭M行層疊(Ll、L2.....Ln)，此外，使從光入射面至基準層的距離與單層盤的從光入射面到記錄層的距離相等(例如0.1mm左右)等。通過這樣不管層的數(shù)量而將至最內層的距離設為-一定，可以保持對基準層的存取的兼容性，此外，可以抑制伴隨層數(shù)的增加的傾斜的影響(原因在于最內層受到傾斜的影響最大，但是伴隨層數(shù)的增加，至最內層的距離不會增加)。此外，關于光學信息記錄媒體為多層的情況下的再生方向或光點的行進方向，例如，即使在所有的層中是一樣的，即，在所有的層中都是從內周方向向外周方向或在所有的層中從外周方向向內周方向這樣的平行路徑，在將相反路徑(基準層(LO))設為從內周側向外周側的方向的情況下，在L1中從外周側向內周側的方向、在L2中從內周側向外周側的方向........即，也可以在Lm(m是0及偶數(shù))中從內周側向外周側的方向，在Lm+l中從外周側向內周側的方向(或，Lm(m是0及偶數(shù))中從外周側向內周側的方向，Lm+1中從內周側向外周側的方向這樣的方式，每當切換層時逆轉再生方向)。此外，對在本發(fā)明中測定抖動時用于記錄的調制方式進行簡單敘述。將數(shù)據(jù)(原始的源數(shù)據(jù)或調制前的二進制數(shù)據(jù))記錄于記錄媒體的情況下，分割成規(guī)定尺寸，并進一步將被分割成規(guī)定尺寸的數(shù)據(jù)分割成規(guī)定長度的幀，每幀都插入同步碼/同步編碼序列(幀同步區(qū)域)。被分割成幀的數(shù)據(jù)作為遵循與記錄媒體的記錄再生信號特性相符合的規(guī)定的調制法則進行調制的數(shù)據(jù)編碼序列被記錄(幀數(shù)據(jù)區(qū)域)。在此，作為調制法則，可以是限制標記長度的RLL(RunLengthLimited)編碼化方式等，在標記為RLL(d，k)的情況下，意思是1和1之間出現(xiàn)的0是最少d個、最多k個(d及k是滿足cKk的自然數(shù))。例如，d=l、1(=7的情況下，將T設為調制的基準周期時，成為最短是2T、最長是8T的記錄標記和空間。此外，可以設為在RLL(1，7)調制進一步附加下面的[1]、[2]的特征的1一7PP調制。1一7PP的"PP"是Paritypreserve/ProhibitRepeatedMinimumTransitionLength的省略，[l]最初的P艮卩Paritypreserve意思是調制前的源數(shù)據(jù)位的'T'的數(shù)量的奇偶(即Parity)、和與此相對應的調制后的位組合的"l"的數(shù)量的奇偶是一致的。[2]之后的P即ProhibitRepeatedMinimumTransitionLength意思是限制調制后的記錄波形上的最短標記及空間的重復次數(shù)(具體而言，2T的重復次數(shù)限制至最大6次)的構造。此外，對在本發(fā)明中測定抖動時用于記錄的幀同步模式進行說明。在插入幀之間的同步碼/同步編碼序列中不適用上述規(guī)定的調制法則，因此，可以包含根據(jù)該調制法則而被限制的編碼長以外的模式。該同步碼洞步編碼序列確定再生被記錄的數(shù)據(jù)時的再生處理定時，因此也可以包含如下的模式。從容易進行與數(shù)據(jù)編碼序列的識別的觀點來看，可以包含數(shù)據(jù)編碼序列中不出現(xiàn)的模式。例如，為比數(shù)據(jù)編碼序列中包含的最長標記/空間長的標記或空間或該標記和空間的重復。調制方式為l一7調制的情況下，標記或空間的長度限制在2T8T，因此，是比8T長的9T以上的標記或空間(9TMand/or9TS)或9T標記/空間的重復(9T/9T)等。從容易進行同步引入等處理的觀點來看，可以包含多發(fā)生零交叉點的模式。例如，在包含于數(shù)據(jù)編碼序列的標記/空間內、比較短的標記或空間或該標記和空間的重復。調制方式為l一7調制方式的情況下，作為最短的2T的標記或空間(2TMand/or2TS)或2T標記/空間的重復(2T/2T)、作為最短的3T的標記或空間(3TMand/or3TS)或3T標記/空間的重復(3T/3T)等。假設將包含上述的同步編碼序列和數(shù)據(jù)編碼序列的區(qū)域稱為幀區(qū)域，假設將包含多個(例如31個)該幀區(qū)域的單位稱為區(qū)段時，在某一個區(qū)段中，可以將該區(qū)段的任意幀區(qū)域包含的同步編碼序列、和該任意幀區(qū)域以外的幀區(qū)域包含的同步編碼序列的編碼間距離設為2以上。其中，編碼間距離意思是將兩個編碼序列進行比較時，編碼序列中的不同位的數(shù)量。通過這樣將編碼間距離設為2以上，即使由于再生時的噪聲的影響等，-方的讀出序列發(fā)生l位的位移錯誤，也不會誤識別為另一方。此外，尤其是可以將位于該區(qū)段的前頭的幀區(qū)域中包含的同步編碼序列、和位于前頭以外的幀區(qū)域中包含的同步編碼序列的編碼間距離設為2以上，這樣，能夠容易地識別是否是前頭部位/是否為區(qū)段的分隔部位。此外，編碼間距離包括在NRZ記錄時將編碼序列標記為NRZ的情況、在NRZI記錄時將編碼序列標記為NRZI的情況的編碼間距離的意思。因此，如果是采用RLL調制的記錄的情況，該RLL是指限制在NRZI的記錄波形上高電平或低電平的信號連續(xù)的數(shù)量，因此，意味著NRZI標記中的編碼間距離為2以上。此外，在光學信息記錄媒體上，通過形成槽而形成槽部及槽和槽之間的槽間部。因此，根據(jù)在槽和槽間部的任一方記錄數(shù)據(jù)而記錄方式不同。具體而言，具有向槽部的記錄、向槽間部的記錄、向槽部及槽間部兩方記錄等各種方式。在此，在槽部及槽間部中，將在從光入射面看成為凸部的一側進行記錄的方式稱為On—Groove方式，將在從光入射面看成為凹部的一側進行記錄的方式稱為In—Groove方式。在本發(fā)明中，作為記錄方式，不特別限制采用On—Groove方式或采用In—Groove方式、或允許兩種方式的其中一種的方式。此外，在允許兩種方式的其中一種的方式的情況下，為了使該媒體能夠容易地識別是哪種記錄方式，可以將表示是On—Groove方式還是In—Groove方式的記錄方式識別信息記錄于媒體。對于多層媒體，可以記錄關于各層的記錄方式識別信息。這種情況下，可將針對各層的記錄方式識別信息集中記錄于基準層(從光入射面看最遠側的層(L0)或最近層、或按照啟動時最先存取的方式確定的層等)，也可以在各層僅記錄關于該層的記錄方式識別信息，也可以在各層記錄關于所有層的記錄方法識別信息。此外，作為對記錄方式識別信息進行記錄的區(qū)域，有BCA(BurstCuttingArea)或盤信息區(qū)域(位于比數(shù)據(jù)記錄區(qū)域更內周側或/及更外周側，主要為存儲控制信息的區(qū)域，此外在再生專用區(qū)域，與數(shù)據(jù)記錄區(qū)域相比，有時軌距寬)、或擺動溝槽(々才7W)(在擺動溝槽重疊記錄)等，也可以在其中任一區(qū)域或任意的多個區(qū)域或全部區(qū)域進行記錄。此外，關于擺動溝槽的開始方向，可以在On—Groove方式和In—Groove方式中彼此相反。g卩，如果在On—Groove方式中，擺動溝槽的開始方向從盤的內周側開始的情況下，可以在In—Groove方式中將擺動溝槽的開始方向設為從盤的外周側開始(或，如果在On—Groove方式中，擺動溝槽的開始方向從盤的外周側開始的情況下，可以在In—Groove方式中將擺動溝槽的開始方向設為從盤的內周側開始)。這樣，通過在On—Groove方式和In—Groove方式中擺動的開始方向相反，不管是哪種方式都可以使跟蹤的極性相同。這是因為在On—Groove方式中，從光入射面向成為凸部的一側進行記錄，而與此相對，在In—Groove方式中，從光入射面向成為凹部的一側進行記錄，因此，假設兩者中槽的深度相同的情況下，跟蹤極性成為相反的關系。因此，通過在兩者中使擺動溝槽的開始方向彼此相反，可以使跟蹤極性相同。上述的In/On—Groove方式是關于在媒體形成槽的記錄型的媒體，但是，關于再生專用型的媒體，也可以適用相同的考慮方法。即，再生專用型的媒體的情況下，信息以凸起/凹凸位的形式被記錄，但是即使作為該位的形成方法，將從光入射面看形成凸部的位的方式稱為On—Pit方式，將從光入射面看形成凹部的位的方式稱為In—Pit方式，在本發(fā)明中，作為位的形成方式，不限制于設為On—Pit方式、In—Pit方式、或允許兩種方式的其中一種的方式。此外，為允許兩種方式的其中一種的方式的情況下，為了使該媒體能夠容易地識別是哪種記錄方式，可以將表示是On—pit方式還是In—pit方式的位形成方式識別信息記錄于媒體。關于多層媒體，可以記錄關于各層的位形成方式識別信息。這種情況下，可將關于各層的位形成方式識別信息整理并記錄于基準層(從光入射面看最遠側的層(L0)或最近層，及按照啟動時最先被存取的方式確定的層等)，也可以在各層僅記錄關于該層的位形成方式識別信息，也可以在各層記錄關于所有層的位形成方式識別信息。此外，作為記錄位形成方式識別信息的區(qū)域，有BCA(BurstCuttingArea)或盤信息區(qū)域(位于比數(shù)據(jù)記錄區(qū)域更內周側或/及更外周側，主要為存儲控制信息的區(qū)域，此外，與數(shù)據(jù)記錄區(qū)域相比，有時軌距寬)等、也可以在其中任一區(qū)域或雙方的區(qū)域進行記錄。此外，關于光學信息記錄媒體的記錄膜的特性，由于記錄部分和未記錄部分的反射率的關系，而具有以下所述的兩個特性。即，未記錄部分與記錄完成部分相比具有高反射率(High—to—Low)的HtoL特性、和未記錄部分與記錄完成部分相比具有低反射率(Low—to—High)的LtoH特性。本發(fā)明中，作為媒體的記錄膜特性，不限制為HtoL特性、LtoH特性、或允許其中任一個的特性。此外，在允許其中任一個的特性的情況下，為了能夠容易地識別是哪種記錄膜特性，可以將表示是HtoL還是LtoH的記錄膜特性識別信息記錄于媒體。關于多層媒體，可以記錄關于各層的記錄膜特性識別信息。這種情況下，可將針對各層的記錄膜特性識別信息集中記錄于基準層(從光入射面看最遠側的層(L0)或最近層，及按照啟動時最先被存取的方式確定的層等)，也可以在各層僅記錄關于該層的記錄膜特性識別信息，也可以在各層記錄關于所有層的記錄膜特性識別信息。此外，作為對記錄膜特性識別信息進行記錄的區(qū)域，有BCA(BurstCuttingArea)或盤信息區(qū)域(位于比數(shù)據(jù)記錄區(qū)域更內周側或/及更外周側，主要為存儲控制信息的區(qū)域，此外在再生專用區(qū)域，與數(shù)據(jù)記錄區(qū)域相比，有時軌距寬)、或擺動溝槽(在擺動溝槽重疊記錄)等，也可以在其中任--區(qū)域或任意的多個區(qū)域或全部區(qū)域進行記錄。以上，具體地參照實施方式對本發(fā)明進行了詳細的說明，但本發(fā)明也可以如下規(guī)定。即，本發(fā)明提供一種光學信息記錄媒體的檢查方法，是檢查光學信息記錄媒體的聚焦錯誤信號和跟蹤錯誤信號的殘留誤差的檢查方法，其中，向所述光學信息記錄媒體照射激光，根據(jù)激光照射的半徑位置以線速度恒定控制(CLV)使所述光學信息記錄媒體旋轉，根據(jù)所述光學信息記錄媒體的半徑位置將旋轉速度切換為至少兩種線速度的第一線速度Lvl和比所述第一線速度Lvl大的第二線速度Lv2(Lvl<Lv2)，對所述光學信息記錄媒體進行聚焦控制和跟蹤控制，根據(jù)來自所述光學信息記錄媒體的反射光生成聚焦錯誤信號及/或跟蹤錯誤信號，使上述聚焦錯誤信號和上述跟蹤錯誤信號的輸出分別通過規(guī)定的聚焦錯誤信號用頻帶限制濾波器和跟蹤錯誤信號用頻帶限制濾波器而得到聚焦錯誤信號的殘留誤差(殘留誤差)和跟蹤錯誤信號的殘留誤差(殘留誤差)，并將得到的聚焦錯誤信號的殘留誤差(殘留誤差)和跟蹤錯誤信號的殘留誤差(殘留誤差)與預先確定的規(guī)定基準值進行比較，判斷是否滿足基準值。在一種實施方式中，.從上述光學信息記錄媒體的第一半徑位置Rl到第二半徑位置R2(RKR2)的區(qū)域以所述第一線速度Lvl旋轉來進行上述檢查，上述光學信息記錄媒體的上述第二半徑位置R2的外周側的區(qū)域，以上述第二線速度Lv2旋轉來進行上述檢査。此外，在一種實施方式中，上述第一線速度和上述第二線速度的比率為Lv2/Lvl=1.5或Lv2/Lvl=2。此外，在--種實施方式中，上述第一線速度為Lvl=9.834m/sec。此外，在一種實施方式中，上述第二半徑位置R2在Lv2/Lv14.5的情況下，處于33mm《R2《36mm的范圍，在Lv2/Lvl=2.0的情況下，處于44mm《R2《48mm的范圍。此外，在一種實施方式中，其特征在于，上述兩個半徑位置R1及R2與上述兩種線速度Lvl及Lv2滿足R2/Rl=Lv2/Lvl的關系。此外，在一種實施方式中，以上述第一線速度進行檢查時的最大旋轉速度、和以上述第二線速度進行檢查時的最大旋轉速度為大約相同的最大旋轉速度。此外，在一種實施方式中，上述第一線速度和上述第二線速度以在光學信息記錄媒體的盤管理區(qū)域(PIC區(qū)域)預先記錄的寫入時的線速度的1/2以下的線速度進行檢查。此外，在一種實施方式中，以相同的增益交點的伺服特性檢査以上述第一線速度旋轉時的上述聚焦控制的伺服特性的增益交點、和以上述第二線速度旋轉時的上述聚焦控制的伺服特性的增益交點，以相同的增益交點的伺服特性檢查以上述第一線速度旋轉時的上述跟蹤控制的伺服特性的增益交點、和以上述第二線速度旋轉時的上述跟蹤控制的伺服特性的增益交點。此外，在一種實施方式中，分別向上述聚焦錯誤信號用的頻帶限制濾波器內的截止頻率FcL的低通濾波器(LPF)、低通側截止頻率FcL和高通側截止頻率FcH的帶通濾波器(BPF)兩個不同濾波器輸入聚焦錯誤信號，根據(jù)第一線速度和第二線速度的線速度比率，可擴展上述FcL和FcH的頻率。此外，在一種實施方式中，分別向上述跟蹤錯誤信號用的頻帶限制濾波器內的截止頻率TcL的低通濾波器(LPF)、低通側截止頻率FcL和高通側截止頻率FcH的帶通濾波器(BPF)兩個不同濾波器輸入跟蹤錯誤信號，上述TcL與第一線速度和第二線速度的比率無關是一定的，根據(jù)上述第一線速度和上述第二線速度的線速度的比率，可擴展上述TcH。此外，在一種實施方式中，將上述聚焦錯誤信號的上述LPF通過后的輸出(F—LPF)、和上述聚焦錯誤信號的上述BPF通過后的輸出(F—BPF)兩個頻帶的輸出；和上述跟蹤錯誤信號的上述LPF通過后的輸出(T一LPF)、和上述跟蹤錯誤信號的上述BPF通過后的輸出(T—BPF)兩個頻帶的輸出與預先規(guī)定的各自的規(guī)定基準值進行比較，判斷是否滿足基準值。此外，在一種實施方式中，在每個半徑位置將上述F一LPF、F一BPF、TJLPF、T—BPF四個輸出與上述規(guī)定基準值進行比較時，將上述四個輸出與分別和第一線速度和第二線速度對應的基準值進行比較。此外，在一種實施方式中，上述第二線速度的上述F一LPF的基準值與上述第一線速度的上述F一LPF基準值相比為相等或該值以上。此外，在一種實施方式中，在檢査上述殘留聚焦誤差和上述殘留跟蹤誤差時，無論線速度是多少，向上述光學信息記錄媒體照射激光的再生功率都以相同的再生功率進行檢查。此外，本發(fā)明提供一種檢查裝置，是檢査光學信息記錄媒體的聚焦錯誤信號和跟蹤錯誤信號的殘留誤差的檢查裝置，其具備向上述光學信息記錄媒體照射激光的光拾取器；使上述光學信息記錄媒體旋轉的主軸電機；旋轉速度設定部，其根據(jù)向上述光學信息記錄媒體照射的激光的半徑位置，進行線速度恒定控制(CLV)，并根據(jù)上述光學信息記錄媒體的半徑位置設定至少兩種線速度即第一線速度Lvl和第二線速度Lv2(Lvl<Lv2);聚焦信號殘留誤差測定部，其進行聚焦控制和跟蹤控制，并根據(jù)來自上述光學信息記錄媒體的反射光生成聚焦錯誤信號和跟蹤錯誤信號，根據(jù)上述聚焦錯誤信號的輸出，測定聚焦誤差的殘留誤差(殘留誤差)；跟蹤信號殘留誤差測定部，其根據(jù)來自上述跟蹤錯誤信號的輸出測定跟蹤信號的殘留誤差(殘留誤差)；存儲器，其保存與在上述聚焦信號殘留誤差測定部和上述跟蹤信號殘留誤差測定部中測定的各半徑位置相對應的殘留誤差測定結果；判斷部，其對上述殘留誤差測定結果和預先確定的規(guī)定殘留聚焦誤差的基準值及殘留跟蹤誤差的基準值進行比較，判斷是否滿足上述各自的基準值。在一種實施方式中，上述聚焦錯誤信號的殘留誤差(殘留誤差)是通過使上述聚焦錯誤信號的輸出從上述聚焦信號殘留誤差測定部內的規(guī)定聚焦錯誤信號用頻帶限制濾波器通過而生成，上述跟蹤錯誤信號的殘留誤差(殘留誤差)是通過使上述跟蹤錯誤信號的輸出從上述跟蹤信號殘留誤差測定部內的規(guī)定跟蹤錯誤信號用頻帶限制濾波器通過而生成。此外，在一種實施方式中，向光學信息記錄媒體照射激光，并根據(jù)照射的半徑位置，以線速度恒定控制(CLV)使光學信息記錄媒體旋轉，從第--半徑位置Rl到第二半徑R2(RKR2)的區(qū)域以第三線速度Lv3旋轉來記錄數(shù)據(jù)，第二半徑位置R2的外周側的區(qū)域，以第四線速度Lv4(Lv3〈Lv4)旋轉來記錄數(shù)據(jù)，按照上述R1的上述第三線速度的最大旋轉速度和上述R2的上述第四線速度的最大旋轉速度相同的方式確定切換半徑位置R2。此外，在一種實施方式中，上述第三線速度為Lv3=19.7m/sec，上述第四線速度Lv4=29.5m/sec或39.4m/sec，上述第二半徑位置R2在Lv4/Lv3=1.5的情況下，處于33mm《R2《36mm的范圍，在Lv4/Lv3=2.0的情況下，處于44mm《R2《48mm的范圍。此外，本發(fā)明的光學信息記錄媒體的信息記錄方法，利用上述檢査裝置從上述存儲器中檢索出殘留聚焦誤差和殘留跟蹤誤差的檢查結果，在殘留聚焦誤差及殘留跟蹤誤差超過預先確定的各自的基準值的情況下，在超過一個或多個基準值的半徑位置信息中檢索出最內周的半徑位置信息(Rx),并在上述光學信息記錄媒體的BCA或/及可追記的讀入?yún)^(qū)域或/及讀出區(qū)域內的規(guī)定區(qū)域記錄上述半徑位置信息(Rx)。也可以代替上述半徑位置信息或在上述半徑位置信息的基礎上追記物理地址信息。此外，本發(fā)明的光學信息記錄媒體的信息記錄方法，利用上述檢査裝置從上述存儲器檢索出殘留聚焦誤差和殘留跟蹤誤差的檢査結果，判斷殘留聚焦誤差或殘留跟蹤誤差是否滿足各線速度的基準值，并基于上述判斷結果，在上述光學信息記錄媒體的BCA或/及可追記的讀入?yún)^(qū)域或/及讀出區(qū)域內的規(guī)定區(qū)域追記最大可記錄線速度(Sx)。在一種實施方式中，在上述讀入?yún)^(qū)域或/及讀出區(qū)域內的PAC或DMA或OPC測試區(qū)域或Drive區(qū)域或DCZ(DriveCalibrationZone)的任一個或多個追記上述最高記錄線速度(Sx)或/及上述半徑位置信息(Rx)。也可以代替上述半徑位置信息或在上述半徑信息的基礎上追記物理地址信息。此外，在一種實施方式中，在預先記錄的再生專用的管理區(qū)域(PIC區(qū)域)記載的最大線速度信息為19.7m/sec以下。此外，本發(fā)明的光學信息記錄媒體使用向上述光學信息記錄媒體的記錄方法進行記錄。在一種實施方式中，上述光學信息記錄媒體是能夠以6倍速以上寫入的藍光光盤(BD—R或BD—RE)。此外，在一種實施方式中，在上述光學信息記錄媒體設置有對BCA、或讀入?yún)^(qū)域或/及讀出區(qū)域內的可擦寫區(qū)域或可追記的區(qū)域追記上述最高記錄線速度信息(Sx)或/且上述半徑位置信息(Rx)的區(qū)域。也可以代替上述半徑位置信息或在上述半徑位置信息的基礎上追記物理地址信息。此外，上述光學信息記錄媒體在上述半徑位置信息/物理地址信息不同的位置，例如在上述半徑位置/物理地址的外側的位置或區(qū)域滿足上述基準值的情況下，可以作為上述光學信息記錄媒體所固有的信息，記錄其不同的位置或區(qū)域。工業(yè)上的可利用性本發(fā)明可以適于可高密度且高速記錄或再生的光學信息記錄媒體的檢查方法、檢查裝置、光學信息記錄媒體及信息記錄方法。這樣的可高密度且高速度記錄或再生的光學信息記錄媒體及與其對應的記錄再生裝置適于數(shù)字家電設備、信息處理裝置。權利要求1、一種光學信息記錄媒體的檢查方法，是檢查光學信息記錄媒體的檢查方法，其中，向所述光學信息記錄媒體照射激光，根據(jù)激光照射的半徑位置以線速度恒定控制使所述光學信息記錄媒體旋轉，根據(jù)所述光學信息記錄媒體的半徑位置將旋轉速度切換為至少兩種線速度即第一線速度Lv1和比所述第一線速度Lv1大的第二線速度Lv2，根據(jù)來自所述光學信息記錄媒體的反射光生成聚焦錯誤信號及/或跟蹤錯誤信號，根據(jù)所述聚焦錯誤信號及/或所述跟蹤錯誤信號，進行照射所述光學信息記錄媒體的激光的聚焦控制及/或跟蹤控制，將通過使從所述聚焦錯誤信號及/或所述跟蹤錯誤信號的控制循環(huán)分支出的輸出從規(guī)定的聚焦錯誤信號用頻帶限制濾波器及/或跟蹤錯誤信號用頻帶限制濾波器通過而得到的聚焦錯誤信號的殘留誤差及/或跟蹤錯誤信號的殘留誤差、與預先確定的規(guī)定基準值進行比較。2、如權利要求1所述的光學信息記錄媒體的檢查方法，其中，在所述光學信息記錄媒體的直到規(guī)定半徑位置R為止的內周側的區(qū)域，通過以所述第一線速度Lvl使所述光學信息記錄媒體旋轉來進行所述比較，在所述光學信息記錄媒體的所述規(guī)定半徑位置R的外周側的區(qū)域，通過以所述第二線速度Lv2使所述光學信息記錄媒體旋轉來進行所述比較。3、如權利要求1所述的光學信息記錄媒體的檢查方法，其中，所述第一線速度和所述第二線速度的比率Lv2/Lvl為1.5或2。4、如權利要求1所述的光學信息記錄媒體的檢查方法，其中，所述第一線速度Lvl為9.834m/sec或4.917m/sec的正實數(shù)倍、以及/或者、所述第二線速度Lv2是14.751m/sec或4.917m/sec的正實數(shù)倍。5、如權利要求1所述的光學信息記錄媒體的檢查方法，其中，所述規(guī)定半徑位置R，在Lv2/Lvl=1.5時為33mm《R《36mm的范圍，在Lv2/Lvl=2.0時為44mm《R《48mm的范圍。6、如權利要求1所述的光學信息記錄媒體的檢査方法，其中，所述第一線速度和所述第二線速度是在預先記錄于所述光學信息記錄媒體的規(guī)定區(qū)域的讀出及/或寫入時的線速度中的各最大線速度的1/2以下。7、如權利要求1所述的光學信息記錄媒體的檢查方法，其中，以所述第一線速度使所述光學信息記錄媒體旋轉、進行所述聚焦控制而進行與所述規(guī)定基準值的比較時的所述聚焦控制的伺服特性的增益交點；與以所述第二線速度使所述光學信息記錄媒體旋轉、進行所述聚焦控制而進行與所述規(guī)定基準值的比較時的所述聚焦控制的伺服特性的增益交點相等，以所述第一線速度使所述光學信息記錄媒體旋轉、進行所述跟蹤控制而進行與所述規(guī)定基準值的比較時的所述跟蹤控制的伺服特性的增益交點；與以所述第二線速度使所述光學信息記錄媒體旋轉、進行所述跟蹤控制而進行與所述規(guī)定基準值的比較時的所述跟蹤控制的伺服特性的增益交點相等。8、如權利要求1所述的光學信息記錄媒體的檢查方法，其中，所述聚焦錯誤信號用頻帶限制濾波器包括截止頻率為LPF一FcL的低通濾波器LPF;和低通側截止頻率為BPF—FcL、高通側截止頻率為BPF_FcH的帶通濾波器BPF，從所述聚焦錯誤信號的控制循環(huán)分支出的輸出被輸入到所述低通濾波器LPF及所述帶通濾波器BPF，在以所述第一線速度及所述第二線速度使所述光學信息記錄媒體旋轉、進行所述聚焦控制而與所述規(guī)定基準值進行比較的情況下，根據(jù)所述第一線速度和所述第二線速度的線速度的比率來切換所述LPF一FcL、所述BPF一FcL及所述BPF_FcH。9、如權利要求8所述的光學信息記錄媒體的檢査方法，其中，所述跟蹤錯誤信號用頻帶限制濾波器包括截止頻率為LPF一TcL的低通濾波器LPF;和低通側截止頻率為BPF—TcL、高通側截止頻率為BPF—TcH的帶通濾波器BPF，從所述跟蹤錯誤信號的控制循環(huán)分支出的輸出被輸入到所述低通濾波器LPF及所述帶通濾波器BPF，所述LPF—TcL及所述BPFJTcL與所述第一線速度及所述第二線速度無關，是一定的，根據(jù)所述第一線速度和所述第二線速度的線速度的比率來切換所述BPF—FcHo10、如權利要求9所述的光學信息記錄媒體的檢查方法，其中，將所述聚焦錯誤信號的所述LPF通過后的輸出F—LPF、所述聚焦錯誤信號的所述BPF通過后的輸出F一BPF、所述跟蹤錯誤信號的所述LPF通過后的輸出T_LPF、以及所述跟蹤錯誤信號的所述BPF通過后的輸出T一BPF、分別與預先確定的規(guī)定基準值進行比較。11、如權利要求IO所述的光學信息記錄媒體的檢查方法，其中，在每個所述半徑位置將所述輸出F—LPF、F一BPF、T—LPF、以及T_BPF與所述規(guī)定基準值進行比較時，將所述四個輸出與分別對應于所述第一線速度及所述第二線速度的基準值進行比較。12、如權利要求ll所述的光學信息記錄媒體的檢査方法，其中，所述第二線速度的所述FJLPF的基準值為所述第一線速度的所述F—LPF基準值的基準值以上。13、如權利要求112中任一項所述的光學信息記錄媒體的檢查方法，其中，所述激光的強度與所述線速度無關，是相同的。14、一種光學信息記錄媒體，是光學性地再生及/或記錄信息的光學信息記錄媒體，其中，在將相對于對所述光學信息記錄媒體進行再生及/或記錄的基準速度為k倍(k是正實數(shù))的速度作為速度信息記錄于所述光學信息記錄媒體的規(guī)定區(qū)域、并對所述光學信息記錄媒體進行規(guī)定的檢查時，在所述光學信息記錄媒體的第一半徑位置的范圍，使用第一測定速度進行所述檢查，在與所述第一半徑位置的范圍相比位于外周側的第二半徑位置的范圍，使用第二測定速度進行所述檢查。15、如權利要求14所述的光學信息記錄媒體，其中，所述第二測定速度為比所述基準速度的k倍低的速度，所述第一測定速度為比所述第二測定速度低的速度。16、如權利要求14所述的光學信息記錄媒體，其中，所述k是6以上的正實數(shù)。17、一種光學信息記錄媒體，是光學性地再生及/或記錄信息的光學信息記錄媒體，其中，在將相對于對所述光學信息記錄媒體進行再生及/或記錄的基準速度為m倍(m是正實數(shù))的速度作為速度信息記錄于所述光學信息記錄媒體的規(guī)定區(qū)域的第一光學信息記錄媒體的情況下，所述第一光學信息記錄媒體使用規(guī)定的測定速度進行所述檢查，在將相對于對所述光學信息記錄媒體進行再生及/或記錄的基準速度為n倍(n是比m大的正實數(shù))的速度記錄于所述光學信息記錄媒體的規(guī)定區(qū)域的第二光學信息記錄媒體的情況下，所述第二光學信息記錄媒體根據(jù)所述第二光學信息記錄媒體的半徑位置使用不同的測定速度進行所述檢査。18、如權利要求17所述的光學信息記錄媒體，其中，對于所述第二光學信息記錄媒體的測定速度的一方比對于所述第--光學信息記錄媒體的測定速度大，對于所述第二光學信息記錄媒體的測定速度的另一方為對于所述第一光學信息記錄媒體的測定速度以上。19、如權利要求17所述的光學信息記錄媒體，其中，m是4以上的正實數(shù)、以及/或者、n是6以上的正實數(shù)。20、一種再生方法，是對權利要求1719中任一項所規(guī)定的光學信息記錄媒體進行再生的方法，其中，包括向所述光學信息記錄媒體照射光的步驟、以及從所述光學信息記錄媒體的規(guī)定區(qū)域對速度信息進行再生的步驟。全文摘要一種光學信息記錄媒體的檢查方法，是檢查光學信息記錄媒體的檢查方法，其中，向所述光學信息記錄媒體照射激光，根據(jù)激光照射的半徑位置以線速度恒定控制使所述光學信息記錄媒體旋轉，根據(jù)所述光學信息記錄媒體的半徑位置將旋轉速度切換為至少兩種線速度的第一線速度Lv1和比所述第一線速度Lv1大的第二線速度Lv2，根據(jù)來自所述光學信息記錄媒體的反射光生成聚焦錯誤信號及/或跟蹤錯誤信號，根據(jù)所述聚焦錯誤信號及/或所述跟蹤錯誤信號，進行照射所述光學信息記錄媒體的激光的聚焦控制及/或跟蹤控制，將通過使從所述聚焦錯誤信號及/或所述跟蹤錯誤信號的控制循環(huán)分支出的輸出從規(guī)定的聚焦錯誤信號用頻帶限制濾波器及/或跟蹤錯誤信號用頻帶限制濾波器通過而得到的聚焦錯誤信號的殘留誤差及/或跟蹤錯誤信號的殘留誤差、與預先確定的規(guī)定基準值進行比較。文檔編號G11B7/004GK101589431SQ20088000259公開日2009年11月25日申請日期2008年11月18日優(yōu)先權日2007年11月19日發(fā)明者中村敦史,日野泰守,藤畝健司申請人:松下電器產業(yè)株式會社