專利名稱：透鏡驅(qū)動裝置及其線圈襯底的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于在盤上記錄信息和/或從盤上讀取記錄信息的盤播放器的透鏡驅(qū)動裝置。尤其是，本發(fā)明涉及使用扁平線圈的透鏡驅(qū)動裝置。
日本專利申請公開文獻(JP-A)No.2001-229557公開了這樣一個透鏡驅(qū)動裝置的例子。該透鏡驅(qū)動裝置是一個印刷線圈類型的，它包括由構(gòu)圖及腐蝕一個聚焦線圈與跟蹤線圈形成的扁平線圈襯底，這些襯底借助粘劑或類似物被固定在保持物鏡的支架的兩個側(cè)面上。在該透鏡驅(qū)動裝置中，為了相對一個基本上以U形狀磁化的磁鐵的磁化邊界線將聚焦線圈及跟蹤線圈布置在合適位置上，聚焦線圈及跟蹤線圈必需在線圈襯底上彼此位移地形成。在上述透鏡驅(qū)動裝置的例子中聚焦線圈被布置在透鏡光軸方向上跟蹤線圈上方的一個位置上。因此線圈襯底需要在透鏡光軸方向上具有一定長度，及由此存在透鏡驅(qū)動裝置尺寸變大的問題。
相反地，日本專利申請公開文獻(JP-A)No.2001-118265公開了另一類型的透鏡驅(qū)動裝置。在該透鏡驅(qū)動裝置中同時用作聚焦線圈及跟蹤線圈的線圈被形成在線圈襯底上，以致線圈襯底的寬度在上下方向上(即在透鏡光軸方向上)變小。
但是，在該透鏡驅(qū)動裝置中，因為線圈同時用作聚焦線圈及跟蹤線圈，供給線圈的電流極性應(yīng)被轉(zhuǎn)換用于聚焦控制和跟蹤控制，及由此存在控制復(fù)雜的問題。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種用于透鏡驅(qū)動裝置的線圈襯底，它包括一個基本上矩形的襯底；一個設(shè)置在襯底上的跟蹤線圈；及一對聚焦線圈，它在襯底長邊的方向上被布置在跟蹤線圈的兩側(cè)。
上述用于透鏡驅(qū)動裝置的線圈襯底用于光盤等的驅(qū)動單元的傳感，及包括設(shè)置在基本矩形的襯底上的一個跟蹤線圈及一對聚焦線圈。這一對聚焦線圈在襯底長邊的方向上被布置在跟蹤線圈的兩側(cè)。因此，襯底短邊方向上的長度可制作得小些，及可減小線圈襯底的尺寸。
在上述用于透鏡驅(qū)動裝置的線圈襯底的一個優(yōu)選特征中，跟蹤線圈及聚焦線圈在襯底長邊的方向上基本對齊。在上述用于透鏡驅(qū)動裝置的線圈襯底的另一優(yōu)選特征中，跟蹤線圈及聚焦線圈在襯底的短邊方向上具有基本相等的長度。因此，線圈襯底短邊方向上的長度可被進一步減小。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種透鏡驅(qū)動裝置，它包括一個基座；固定在基座上的磁鐵；一個透鏡支架，它可在聚焦方向上及在跟蹤方向上可運動地被支承在磁鐵的附近；及安裝在透鏡支架上的線圈襯底，其中線圈襯底包括設(shè)置在襯底上的跟蹤線圈，及一對聚焦線圈，它在襯底長邊方向上被布置在襯底上跟蹤線圈的兩側(cè)。
在上述透鏡驅(qū)動裝置中，磁鐵被固定在基座上，透鏡支架可運動地被支承在磁鐵的附近。因為線圈襯底安裝在透鏡支架上，通過對在磁鐵產(chǎn)生的磁場內(nèi)的線圈襯底供給電流，透鏡支架可在聚焦方向及跟蹤方向上運動。該線圈襯底包括在基本矩形的襯底上的一個跟蹤線圈及一對聚焦線圈。這一對聚焦線圈在襯底長邊的方向上被布置在跟蹤線圈的兩側(cè)。因此，襯底短邊方向上的線圈襯底的長度可作得小些，及由此透鏡驅(qū)動裝置本身可作得小些。
在上述透鏡驅(qū)動裝置的一個優(yōu)選特征中，跟蹤線圈及聚焦線圈在襯底長邊的方向上基本對齊。在上述透鏡驅(qū)動裝置的另一優(yōu)選特征中，跟蹤線圈及聚焦線圈在襯底的短邊方向上具有基本相等的長度。因此，線圈襯底短邊方向上的長度可被進一步減小。
在透鏡驅(qū)動裝置的另一特征中，磁鐵具有多個由S極區(qū)域及N極區(qū)域彼此相鄰構(gòu)成的磁化邊界線，及與聚焦線圈對應(yīng)的磁化邊界線相對于與跟蹤線圈對應(yīng)的磁化邊界線是傾斜的。因此，與具有的對應(yīng)聚焦線圈的磁化邊界線及對應(yīng)跟蹤線圈的磁化邊界線彼此正交的情況相比，磁鐵本身可被作得小些。
在透鏡驅(qū)動裝置的另一特征中，磁鐵具有多個由S極區(qū)域及N極區(qū)域彼此相鄰構(gòu)成的磁化邊界線，及其中線圈襯底被布置在這樣的位置上，即每個跟蹤線圈及聚焦線圈跨在相應(yīng)的磁化邊界線上。
在一個專門的實施例中，磁鐵具有三個由S極區(qū)域及N極區(qū)域彼此相鄰構(gòu)成的磁化邊界線，及這三個磁化邊界線與三個直線相重合，這三個直線是將矩形磁鐵一個長邊的中點與磁鐵另一長邊的兩個端點及一個中點相連接形成的。在另一實施例中，磁鐵具有三個由S極區(qū)域及N極區(qū)域彼此相鄰構(gòu)成的磁化邊界線，及這三個磁化邊界線與三個直線相重合，這三個直線包括連接矩形磁鐵一個長邊的中點與該磁鐵另一長邊的中點形成的一個直線，及連接該磁鐵一個長邊的兩個端點與另一長邊的兩個中間點形成的兩個直線，相對另一長邊的中點來說這兩個中間點的位置更靠近另一長邊的各端部。由于這些布置，用于透鏡支架在聚焦方向及跟蹤方向上移動透鏡支架的力可被合適地產(chǎn)生。
根據(jù)另一特征的透鏡驅(qū)動裝置可包括一對彼此相對應(yīng)地布置的磁鐵及一對面向著每個磁鐵布置的線圈襯底。在該情況下，透鏡支架可根據(jù)這對磁鐵及線圈襯底穩(wěn)定地運動。
當結(jié)合以下簡要說明的附圖閱讀了下面對本發(fā)明的優(yōu)選實施例的詳細描述后，將會更加明白本發(fā)明的特點、實用性及其它的特征。
圖2是

圖1A及1B中所示透鏡驅(qū)動裝置基本部分的分解透視圖。
圖3是表示在圖1A及1B上所示的透鏡驅(qū)動裝置中所使用的線圈襯底的結(jié)構(gòu)的概要平面圖。
圖4A及4B是在圖1A及1B上所示的透鏡驅(qū)動裝置中所使用的磁鐵的平面圖。
圖5A及5B是表示聚焦線圈及跟蹤線圈工作在聚焦控制及跟蹤控制中的示意圖。
圖6A及6B是表示使用在圖1A及1B所示的透鏡驅(qū)動裝置中的一個磁鐵的變型實施例的平面圖。
圖7A及7B是表示使用在圖1A及1B所示的透鏡驅(qū)動裝置中另一線圈襯底的結(jié)構(gòu)的概要平面圖。
圖8A及8B是表示使用在圖1A及1B所示的透鏡驅(qū)動裝置中又一線圈襯底的結(jié)構(gòu)的概要平面圖。
優(yōu)選實施例的詳細描述現(xiàn)在將參照附圖來詳細描述本發(fā)明的優(yōu)選實施例。
圖1A及1B是表示根據(jù)本發(fā)明一個實施例的透鏡驅(qū)動裝置150的結(jié)構(gòu)的視圖。圖1A是該透鏡驅(qū)動裝置的平面圖，及圖1B是它的側(cè)視圖。圖2是表示磁鐵11及12與線圈襯底80及90的位置關(guān)系的概要透視圖，這些磁鐵及線圈襯底組合地構(gòu)成根據(jù)本發(fā)明實施例的透鏡驅(qū)動裝置150。以下將參照圖1A及1B來描述透鏡驅(qū)動裝置150的結(jié)構(gòu)。
在本發(fā)明該實施例的透鏡驅(qū)動裝置150中，一對L形的磁軛13通過多個螺絲14被固定在板狀致動器基座10上。用于形成磁場結(jié)構(gòu)的磁鐵11及12被固定在L形的磁軛13上，及L形的磁軛13彼此面對面地設(shè)置在致動器基部10上及在它們之間設(shè)有預(yù)定磁隙。此外一個支承基座20通過螺絲14被固定在致動器基部10上，及固定在支承基座20上的四個支承絲21支承著可運動部分100，該可運動部分可在磁鐵11及12之間在上下方向及左右方向上運動。
可運動部分100具有基本上方形的透鏡支架30，它將物鏡31保持在其內(nèi)部；線圈襯底80，它通過粘劑或類似物在面對磁鐵11的振動方向(圖1A中箭頭J)上被固定在透鏡支架30的側(cè)面；及線圈襯底90，它通過粘劑或類似物在面對磁鐵12的振動方向(圖1A中箭頭J)上被固定在透鏡支架30的側(cè)面。在透鏡支架30的跟蹤方向(圖1A中箭頭T)突出地構(gòu)成的四個支承部分32a，32b被四個支承絲21支承。由此，可運動部分100可運動地被支承在聚焦方向(圖1B中箭頭F)及跟蹤方向上。
支承絲21由導(dǎo)電的條狀或板狀彈性件構(gòu)成，它的一端被碾壓及增大，以提供引出線部分22a。支承絲21的一部分在支承基座20模制時通過外部(outset)模制等方式被整體地模制。支承絲21的另一端以相同方式被碾壓及增大以提供連接部分22b，及通過粘劑或類似物被固定到形成在透鏡支架30上的四個支承部分32a，32b上。
如圖2中所示，磁鐵11及12例如通過具有扁平的直角三角形形狀的四個磁鐵的S極面與N極面的組合而形成。圖4A是磁鐵11的平面圖，及圖4B是磁鐵12的平面圖。如這些圖中所示，磁鐵11及12通過基本相同形狀的直角三角形磁鐵以N極面與S極面彼此相鄰地連接構(gòu)成。作為其結(jié)果，磁鐵的邊界線形成磁化邊界線L1。
如圖1A及1B中所示，通過將磁鐵11及12彼此面對面地布置及在其之間設(shè)有預(yù)定間隔，在磁鐵11及12之間形成一個磁場。通過將電流供給到固定在該磁場內(nèi)的透鏡支架30上的線圈襯底80及90上的聚焦線圈及跟蹤線圈，可運動部分100可在聚焦方向及跟蹤方向上運動。
圖3是線圈襯底80及90的平面圖。如圖3中所示，每個線圈襯底80及90包括一對聚焦線圈40a及40b和一個跟蹤線圈60。線圈襯底80及90包括例如玻璃環(huán)氧樹脂材料的層疊印刷襯底，及聚焦線圈40a及40b和一個跟蹤線圈60以相同形狀形成在它的兩側(cè)上。
根據(jù)本發(fā)明，如圖3所示，跟蹤線圈60被布置在一對聚焦線圈40a及40b之間。更具體地，跟蹤線圈60在線圈襯底80或90的上下方向上縱向垂直地形成，及聚焦線圈40a及40b形成在跟蹤線圈60的兩側(cè)上，及使得聚焦線圈40a及40b的縱向相對跟蹤線圈60的縱向傾斜。這就是，跟蹤線圈60被布置成跨在圖4A及4B所示的磁鐵11及12中心的磁化邊界線L1上。聚焦線圈40a及40b被布置成分別跨在圖4A及4B所示的磁鐵的右側(cè)及左側(cè)的磁化邊界線L1上。這里“線圈被布置成跨在磁化邊界線上”意味著不僅是磁化邊界線L1位于線圈寬度方向的中心的情況，而且也是磁化邊界線L1位于稍微偏離線圈中心的位置上的情況。換言之，只要磁化邊界線L1位于線圈中間區(qū)域(不是被線圈環(huán)繞的區(qū)域)，它不一定要位于線圈的中心。這是因為，透鏡支架驅(qū)動力可由供給線圈的電流及由磁化邊界線確定的磁場來適當?shù)孬@得-只要線圈由磁化邊界線基本對稱狀態(tài)地分成兩個區(qū)域，甚至當磁化邊界線不一定位于線圈中心的情況下也行。
根據(jù)該布置，由于跟蹤線圈60實際在垂直方向(即線圈襯底80或90的短邊的方向)上被布置在一對聚焦線圈40a及40b的長度范圍內(nèi)，整個線圈襯底在垂直方向上的長度可被作得小些。因此，與聚焦線圈及跟蹤線圈彼此在線圈襯底上在垂直方向上布置相比，線圈襯底的長度在垂直方向上可顯著地減小。此外，由于線圈可在垂直方向沿線圈襯底的基本上整個長度上形成，線圈尺寸可被作得大些。其結(jié)果是，由于增大線圈的磁通交鏈，靈敏度可增高，及作為磁路的使用效率可被改善。
此外，由于聚焦線圈及跟蹤線圈分別地構(gòu)成，與設(shè)置共用的聚焦線圈及跟蹤線圈相比，可消除轉(zhuǎn)換控制的需要及使控制系統(tǒng)簡化。
根據(jù)上述具有磁鐵11及12的磁路，由于用于聚焦線圈的磁化邊界線被設(shè)置在用于跟蹤線圈的磁化邊界線的兩側(cè)，及用于聚焦線圈的磁化邊界線相對于用于跟蹤線圈的磁化邊界線傾斜地布置，磁路的高度可變小。通常，如果跟蹤線圈被布置在聚焦線圈的兩側(cè)，磁路則需要基本上U形的磁化邊界線，它包括延伸在水平方向上用于聚焦線圈的磁化邊界線及延伸在垂直方向上用于跟蹤線圈的磁化邊界線。因此，難以減小磁路在高度方向上的尺寸。相反地，根據(jù)本發(fā)明將一對聚焦線圈布置在跟蹤線圈的兩側(cè)，如圖4A及4B所示，磁路這樣形成，即用于跟蹤線圈的磁化邊界線延伸在垂直方向上及用于聚焦線圈的磁化邊界線相對用于跟蹤線圈的磁化邊界線傾斜地延伸(即，非正交)。因此，在相對每個磁化邊界線布置跟蹤線圈及聚焦線圈時，它們在高度方向上的位置不需要很大的位移。這就是，跟蹤線圈及聚焦線圈可通過它們被放置在高度方向基本相同的位置上或彼此在高度方向稍微偏移的位置上，即可相對磁化邊界線正確地布置。因此，不僅線圈襯底的尺寸而且磁鐵的尺寸可被減小。
以下，將參照圖5A及5B來討論根據(jù)本發(fā)明的透鏡驅(qū)動裝置在聚焦控制及跟蹤控制時的操作。首先，參照圖5A來描述聚焦控制。圖5A是表示在聚焦控制時操作的概示圖，它表示在磁鐵11或12及線圈襯底80或90之間的位置關(guān)系。圖中的標號100及101表示磁鐵四個區(qū)域中的每個中的磁通方向。標號100表示從圖紙的后表面?zhèn)戎赶蚱淝氨砻鎮(zhèn)鹊拇磐?，及標?01表示從圖紙的前表面?zhèn)戎赶蚱浜蟊砻鎮(zhèn)鹊拇磐ā?br> 在圖5A中，當電流在箭頭Ia1及Ia2的方向上供給到聚焦線圈40a上時，根據(jù)該電流及由標號100及101所示的磁通方向，將產(chǎn)生力Fa1及Fa2。類似地，當電流在箭頭Ib1及Ib2的方向上供給到另一聚焦線圈40b上時，根據(jù)該電流及磁通方向，將產(chǎn)生力Fb1及Fb2。因為聚焦線圈40a及40b具有相同尺寸及圈數(shù)(卷繞數(shù))及相同的磁通交鏈著聚焦線圈40a及40b，力Fa1，F(xiàn)a2，F(xiàn)b1及Fb2的跟蹤方向分量(即圖5A中的水平方向分量)彼此相抵消，及在跟蹤方向的總力變?yōu)榱恪Ｒ虼?，可運動部分100通過力Fa1，F(xiàn)a2，F(xiàn)b1及Fb2的聚焦方向分量(即垂直方向分量)的總和在向圖5A的上方向(即接近盤的方向)上運動。另一方面，通過供給聚焦線圈40a及40b的電流極性的反向，使在聚焦線圈40a及40b中流過的電流的方向變成相反。其結(jié)果是，可運動部分100在向圖5A的下方向(即離開盤的方向)上運動。因此，通過改變供給聚焦線圈40a及40b的控制電流的極性及大小，可運動部分100可在聚焦方向上運動。
接著，將參照圖5B來描述跟蹤控制。在圖5B中由磁鐵11或12的每個區(qū)域產(chǎn)生的磁通方向與圖5A中的情況相同。當電流在箭頭Ia3及Ib3的方向上供給到跟蹤線圈60上時，將產(chǎn)生力T1及T2。因此，可運動部分100在跟蹤方向(即圖5B中的向右方向)上運動。相反地，通過供給跟蹤線圈60的電流極性的反向，使在相反方向(即圖5B中的向左方向)上產(chǎn)生出力。因此，通過改變供給跟蹤線圈60的電流的極性及大小，可運動部分100可在跟蹤方向上運動。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的透鏡驅(qū)動裝置，因為對于聚焦線圈40a及40b和跟蹤線圈60可獨立地執(zhí)行驅(qū)動控制，與設(shè)置共用的聚焦線圈及跟蹤線圈的情況相比，聚焦控制及跟蹤控制可被簡化。[磁鐵的變型]接著，將描述磁鐵的一個變型實施例。圖6A及6B表示磁鐵11及12的變型實施例11a及12a。如通過與圖4A及4B中所示的磁鐵11及12的比較所理解的，圖6A及6B所示的磁鐵11a及12a具有下移的右及左的磁化邊界線L2。這是為了防止當線圈襯底通過聚焦控制或跟蹤控制運動時聚焦線圈或跟蹤線圈進入反向磁場引起的控制失誤。這就是，磁化邊界線L2被布置在這樣的位置上，即在整個線圈襯底通過聚焦控制向下運動的情況下或在整個線圈襯底通過跟蹤控制向跟蹤方向運動的情況下，聚焦線圈不進入超出磁化邊界線的相反磁場區(qū)域。磁化邊界線L2的位移量可參考聚焦控制或跟蹤控制中聚焦線圈的運動范圍來確定。這就是，磁鐵被這樣地構(gòu)型，使得當根據(jù)線圈襯底的運動聚焦線圈運動了最大運動量時聚焦線圈也不進入超出磁化邊界線L2的相反磁場區(qū)域。
圖4及6所示的磁鐵可通過具有直角三角形形狀的各個磁鐵的N極面與S極面相鄰地組合而形成，及可替換地，它們也可通過磁化裝置磁化磁襯底來產(chǎn)生。在使用磁化裝置對磁性材料磁化產(chǎn)生磁鐵的情況下，難以精確地形成如圖4A及4B所示的磁鐵11及12的底部中心部分的集中的磁化邊界線。在這方面，由于圖6A及6B中所示的磁鐵11a及12a不具有磁化邊界線被集中的部分，它們可相對容易地通過使用磁化裝置對磁性材料磁化來產(chǎn)生。[線圈襯底的變型]圖7A及7B表示線圈襯底的變型實施例。這些線圈襯底使用了圓形線圈來取代基本矩形的線圈。即為，圖7A的線圈襯底200包括聚焦線圈201a及201b，以及跟蹤線圈202。圖7B的線圈襯底210包括聚焦線圈211a及211b，以及跟蹤線圈212。應(yīng)指出，圖7A表示與圖4A及4B所示的磁鐵一起使用的線圈襯底，及圖7B表示與圖6A及6B所示的磁鐵一起使用的線圈襯底。
圖8A及8B表示線圈襯底的另一變型實施例。這些線圈襯底使用了三角形線圈來取代基本矩形的線圈。即為，圖8A的線圈襯底300包括聚焦線圈301a及301b，以及跟蹤線圈302。圖8B的線圈襯底310包括聚焦線圈311a及311b，以及跟蹤線圈312。應(yīng)指出，圖8A表示與圖4A及4B所示的磁鐵一起使用的線圈襯底，及圖8B表示與圖6A及6B所示的磁鐵一起使用的線圈襯底。
如上所述，跟蹤線圈及聚焦線圈的形狀不被限制在基本的矩形線圈上，它們可為圓形或其它形狀。這就是，只要三角形形狀、基本矩形形狀、圓形形狀或其它形狀的線圈的范圍被布置成跨在由磁鐵形成的磁化邊界線上，該線圈可作為聚焦線圈及跟蹤線圈工作。
此外，如圖7A，7B，8A及8B所示，即使在跟蹤線圈及聚焦線圈的位置在線圈襯底的高度方向上稍微偏移時，通過將聚焦線圈布置在跟蹤線圈的兩側(cè)，也可獲得降低磁路高度的效果。實際上，與用于跟蹤線圈的磁化邊界線及用于聚焦線圈的磁化邊界線彼此正交地設(shè)置的情況相比，該位移極其小。因此，根據(jù)本發(fā)明的、聚焦線圈被布置在跟蹤線圈兩側(cè)的結(jié)構(gòu)，甚至當三個線圈在線圈襯底的縱向上不精確對齊、但在高度方向稍微偏移的情況下，也可獲得減小磁路及線圈襯底的作用。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的線圈襯底，一對聚焦線圈被布置在其長邊方向上跟蹤線圈的兩側(cè)上并使得它們可布置在基本相同的高度上，或基本上在長邊方向上對齊。此外，對應(yīng)聚焦線圈的磁化邊界線相對于對應(yīng)跟蹤線圈的磁化邊界線傾斜地布置。因此，包括磁鐵及線圈襯底的磁路的尺寸可被減小，及透鏡驅(qū)動裝置本身也可變小。
本發(fā)明可在不偏離其精神或必要特征的情況下以另外具體的方式實施。因此當前的實施例可在所有方面被考慮為說明性的而非限制性的，本發(fā)明的范圍應(yīng)由所附權(quán)利要求書限定而非由以上說明確定，及所有落在該權(quán)利要求書等效范圍意義內(nèi)的變化應(yīng)被包含在本發(fā)明的范圍中。
2002年5月27日提交的日本專利申請2002-152054的全部公開內(nèi)容，包括說明書、權(quán)利要求書、附圖及摘要全部結(jié)合于此作為參考。
權(quán)利要求
1.用于透鏡驅(qū)動裝置(150)的線圈襯底(80，90)，包括一個基本上矩形的襯底；一個設(shè)置在襯底上的跟蹤線圈(60)；及一對聚焦線圈(40)，它在襯底長邊的方向上被布置在跟蹤線圈的兩側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于透鏡驅(qū)動裝置(150)的線圈襯底(80，90)，其中跟蹤線圈及聚焦線圈在襯底長邊的方向上基本對齊。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于透鏡驅(qū)動裝置(150)的線圈襯底(80，90)，其中跟蹤線圈及聚焦線圈在襯底的短邊方向上具有基本相等的長度。
4.透鏡驅(qū)動裝置(150)，包括一個基座(10)；固定在基座上的磁鐵(11，12)；一個透鏡支架(30)，它可在聚焦方向(F)上及在跟蹤方向(T)上可運動地被支承在磁鐵的附近；及線圈襯底(80，90)，它安裝在透鏡支架上，其中線圈襯底包括設(shè)置在襯底上的跟蹤線圈(60)，及一對聚焦線圈(40)，它在襯底長邊方向上被布置在跟蹤線圈的兩側(cè)襯底上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的透鏡驅(qū)動裝置(150)，其中跟蹤線圈及聚焦線圈在襯底長邊的方向上基本對齊。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的透鏡驅(qū)動裝置(150)，其中跟蹤線圈及聚焦線圈在襯底的短邊方向上具有基本相等的長度。
7.根據(jù)權(quán)利要求4-6中任意一項所述的透鏡驅(qū)動裝置(150)，其中磁鐵具有多個由S極區(qū)域及N極區(qū)域彼此相鄰構(gòu)成的磁化邊界線(L)，及其中與聚焦線圈對應(yīng)的磁化邊界線相對于與跟蹤線圈對應(yīng)的磁化邊界線是傾斜的。
8.根據(jù)權(quán)利要求4-7中任意一項所述的透鏡驅(qū)動裝置(150)，其中磁鐵具有多個由S極區(qū)域及N極區(qū)域彼此相鄰構(gòu)成的磁化邊界線(L)，及其中線圈襯底被布置在這樣的位置上，即每個跟蹤線圈及聚焦線圈跨在相應(yīng)的磁化邊界線上。
9.根據(jù)權(quán)利要求4-7中任意一項所述的透鏡驅(qū)動裝置(150)，其中磁鐵具有三個由S極區(qū)域及N極區(qū)域彼此相鄰構(gòu)成的磁化邊界線(L)，及其中三個磁化邊界線與三個直線(L1)相重合，這三個直線是將矩形磁鐵一個長邊的中點與該磁鐵另一長邊的兩個端點及一個中點相連接形成的。
10.根據(jù)權(quán)利要求4-7中任意一項所述的透鏡驅(qū)動裝置(150)，其中磁鐵具有多個由S極區(qū)域及N極區(qū)域彼此相鄰構(gòu)成的磁化邊界線(L)，及其中多個磁化邊界線與三個直線相重合，這三個直線包括連接矩形磁鐵一個長邊的中點與該磁鐵另一長邊的中點形成的一個直線(L1)，及連接該磁鐵一個長邊的兩個端點與另一長邊的兩個中間點形成的兩個直線(L2)，這兩個中間點的位置比另一長邊的中點更靠近另一長邊的端部。
11.根據(jù)權(quán)利要求4-10中任意一項所述的透鏡驅(qū)動裝置(150)，包括一對彼此相對應(yīng)地布置的磁鐵(11，12)及一對面向著每個磁鐵布置的線圈襯底(80，90)。
全文摘要
用于透鏡驅(qū)動裝置(150)的線圈襯底(80，90)被設(shè)置在光盤驅(qū)動裝置中。該線圈襯底包括設(shè)置在基本矩形的襯底上的一個跟蹤線圈(60)及一對聚焦線圈(40)。這一對聚焦線圈在襯底長邊的方向上被布置在跟蹤線圈的兩側(cè)。跟蹤線圈及聚焦線圈在襯底長邊的方向上基本對齊，或在襯底的短邊方向上具有基本相等的長度。因此，線圈襯底短邊方向上線圈的長度可作得小些。由此可減小線圈襯底及磁鐵的尺寸，及可獲得整個透鏡驅(qū)動裝置的小型化。
文檔編號G11B7/09GK1462034SQ03138158
公開日2003年12月17日 申請日期2003年5月27日 優(yōu)先權(quán)日2002年5月27日
發(fā)明者鈴木純, 黑木英治 申請人:日本先鋒公司