修改的二維碼及用于產(chǎn)生此等碼的激光系統(tǒng)及方法
【專利摘要】二維碼內(nèi)的各數(shù)據(jù)點(diǎn)可由點(diǎn)散布(32)表示?？墒垢鼽c(diǎn)(32)足夠小以對(duì)人眼不可見，使得該二維碼在透明或非透明材料上或內(nèi)可能不可見。這些點(diǎn)(32)可以較大距離間隔以增加光碼讀取器的信噪比。激光(50)可用于產(chǎn)生這些點(diǎn)(32)。
【專利說明】
修改的二維碼及用于產(chǎn)生此等碼的激光系統(tǒng)及方法
[0001 ] 著作權(quán)聲明
[0002] @_2015伊雷克托科技工業(yè)股份有限公司（Electro Scientific Industries公 司）。本專利文件揭示內(nèi)容的一部分包含受著作權(quán)保護(hù)的材料。著作權(quán)所有人并不反對(duì)任何 人對(duì)如出現(xiàn)于專利及商標(biāo)局的專利檔案或記錄中的專利文件或?qū)＠沂緝?nèi)容的復(fù)制再現(xiàn)， 但除此之外任何情況下保留所有著作權(quán)。37CFR§1.71 (d)。
技術(shù)領(lǐng)域
[0003] 本申請(qǐng)案是關(guān)于二維碼，且特定言之，是關(guān)于用于產(chǎn)生此等碼的激光系統(tǒng)及方法。
【背景技術(shù)】
[0004] 二維識(shí)別（2DID)碼(諸如快速響應(yīng)(QR)碼及GSlDataMatrix(DM)碼)是廣泛地用于 產(chǎn)品追蹤及提供各種信息的一矩陣條形碼的類型。QR碼包含在一淺色背景下配置于一方格 內(nèi)的填充的深色正方形（黑色正方形)且適于通過一成像裝置(諸如一相機(jī)）的高速擷取。在 此等碼中，各正方形表示一數(shù)據(jù)點(diǎn)。典型方格圖案在從每列或每行11個(gè)正方形至177個(gè)正方 形的范圍中。獲取影像的水平及垂直分量中的圖案可顯露或啟動(dòng)(諸如）用于商業(yè)追蹤、娛 樂及交通票務(wù)、產(chǎn)品標(biāo)示、產(chǎn)品營(yíng)銷、移動(dòng)電話卷標(biāo)、優(yōu)惠券、顯示文字、添加電子卡聯(lián)系人 信息、打開一 URL或URI或撰寫電子郵件或文字信息的寫碼信息。QR碼由一 ISO標(biāo)準(zhǔn)涵蓋，且 其使用免授權(quán)。QR碼產(chǎn)生網(wǎng)站及應(yīng)用程序廣泛地可用，因而使用者可產(chǎn)生及打印其等自身 QR碼以供其他者掃描。（參閱http: //en .wikipedia.org/wiki/QR_code。）一例示性QR碼展 示于圖1中。
[0005] GSIDataMatrix碼還由若干ISO及IEC標(biāo)準(zhǔn)（15424及15459)涵蓋且對(duì)于許多應(yīng)用程 序免授權(quán)。參閱http: //en .wikipedia. org/wiki/Data+MatrixXSlDataMatrix 碼產(chǎn)生資源 也廣泛地可用。使用http: //datamatrix · kaywa · com產(chǎn)生的一例示性GSIDataMatrix碼展示 于圖2中。
[0006] 存在用于在多種材料上及以許多不同大小標(biāo)記此等DM或2DID碼的方法。例如，一 些2DID碼可使用傳統(tǒng)打印技術(shù)打印于標(biāo)示上，刻印于金屬中及雕刻于墓碑石中。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 提供本
【發(fā)明內(nèi)容】
以按簡(jiǎn)化形式引入例示性實(shí)施例的詳細(xì)描述中進(jìn)一步描述的概 念的選擇。本
【發(fā)明內(nèi)容】
并非易欲識(shí)別主張的標(biāo)的的關(guān)鍵或本質(zhì)發(fā)明概念，或并非易欲限制 或決定主張的標(biāo)的的概念。
[0008] 在一些實(shí)施例中，一二維碼由具有一對(duì)比背景的一基板上或內(nèi)的一點(diǎn)散布表示， 其中所述點(diǎn)散布包括多個(gè)群組的點(diǎn)，這些群組的點(diǎn)包含第一及第二群組的點(diǎn)，其中這些第 一及第二群組的點(diǎn)的各者代表一幾何形狀，使得所述點(diǎn)散布形成一數(shù)組的多列及多行幾何 區(qū)域，其中這些幾何區(qū)域的一些包含一群組的點(diǎn)且這些幾何區(qū)域的一些缺少點(diǎn)。
[0009] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，一種用于利用一二維標(biāo)識(shí)符標(biāo)記一基板的方 法包括產(chǎn)生激光脈沖且在所述基板處導(dǎo)向這些激光脈沖以在所述基板上或內(nèi)形成一點(diǎn)散 布，其中所述點(diǎn)散布表示所述二維碼且包括多個(gè)群組的點(diǎn)，這些群組的點(diǎn)包含第一及第二 群組的點(diǎn)，其中這些第一及第二群組的點(diǎn)的各者代表一幾何形狀，使得所述點(diǎn)散布形成一 數(shù)組的多列及多行幾何區(qū)域，其中這些幾何區(qū)域的一些包含一群組的點(diǎn)且這些幾何區(qū)域的 一些缺少點(diǎn)。
[0010] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，一種用于在一工件的一基板上或內(nèi)利用一二 維標(biāo)識(shí)符標(biāo)記一基板的激光微加工系統(tǒng)，其中所述二維碼包含一數(shù)組的幾何形狀區(qū)域，其 中指定這些幾何形狀區(qū)域的一些且未指定這些幾何形狀區(qū)域的一些，該激光微加工系統(tǒng)包 括:一激光，其用于沿著一束軸產(chǎn)生激光脈沖;一工件支撐系統(tǒng)，其用于移動(dòng)工件;一束定位 系統(tǒng)，其用于朝著所述工件導(dǎo)向所述束軸，使得一激光脈沖可操作以在所述基板上標(biāo)記一 點(diǎn);及一控制器，其用于協(xié)調(diào)所述工件支撐系統(tǒng)及所述束定位系統(tǒng)的相對(duì)移動(dòng)，且用于針對(duì) 表示這些指定幾何形狀區(qū)域的這些群組的點(diǎn)實(shí)施該二維碼的指定幾何形狀區(qū)域至所述基 板上的相對(duì)位置的轉(zhuǎn)換。
[0011] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，代表性幾何形狀是一矩形幾何形狀，且這些第 一及第二群組的點(diǎn)經(jīng)定位以表示所述矩形幾何形狀的隅角。
[0012] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，這些第一及第二群組的點(diǎn)各包含一偶數(shù)數(shù)量 的點(diǎn)。
[0013] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，這些第一及第二群組的點(diǎn)各包含一奇數(shù)數(shù)量 的點(diǎn)。
[0014] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，表示所述二維碼的所述點(diǎn)散布在離一人眼大 于或等于25_的一距離下對(duì)所述人眼不可見。
[0015]在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，所述數(shù)組具有大于50微米的一數(shù)組維數(shù)。
[0016]在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，所述數(shù)組具有大于500微米的一數(shù)組維數(shù)。 [0017]在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，所述數(shù)組具有小于或等于500微米的一數(shù)組維 數(shù)。
[0018] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，所述數(shù)組具有小于或等于50微米的一數(shù)組維 數(shù)。
[0019] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，所述數(shù)組具有小于或等于1_的一數(shù)組維數(shù)。
[0020] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，這些群組的點(diǎn)在離人眼大于或等于25mm的一 距離下對(duì)所述人眼不可見。
[0021] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，各點(diǎn)在離人眼大于或等于25mm的一距離下對(duì) 所述人眼不可見。
[0022]在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，各點(diǎn)具有小于35微米的一主空間軸的一維數(shù)。 [0023]在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，各點(diǎn)具有一主空間軸的一點(diǎn)維數(shù)，且其中大于 或等于所述主空間軸的所述點(diǎn)維數(shù)的四倍的一距離使這些點(diǎn)分離。
[0024]在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，這些幾何區(qū)域表示一 QR碼中的正方形。
[0025] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，這些幾何區(qū)域表示一Data Matrix碼中的正方 形。
[0026]在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，各點(diǎn)由一激光脈沖或由一群組的激光脈沖形 成。
[0027] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，各點(diǎn)由一激光脈沖或群組的激光脈沖形成，各 激光脈沖具有短于或等于50ps的一脈沖寬度。
[0028] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，這些點(diǎn)是黑色且所述基板是淺色。
[0029] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，這些點(diǎn)制成淺色標(biāo)記且所述基板是黑色。
[0030] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，這些點(diǎn)是黑色且其中所述基板大體上對(duì)可見 光透明。
[0031] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，所述基板對(duì)可見光不透明。
[0032] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，所述基板包括一結(jié)晶材料。
[0033] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，所述基板包括藍(lán)寶石。
[0034] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，所述基板包括一非結(jié)晶材料。
[0035] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，所述基板包括玻璃。
[0036] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，所述基板包括一塑料。
[0037] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，所述基板包括鋁。
[0038] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，這些激光脈沖經(jīng)導(dǎo)向以在形成一第二群組的 點(diǎn)之前循序形成一第一群組的點(diǎn)。
[0039] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，這些激光脈沖經(jīng)導(dǎo)向以在形成所述第一群組 中的一第二點(diǎn)之前形成第一及第二群組的各者中的一第一點(diǎn)。
[0040] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，一束定位系統(tǒng)及一工件支撐系統(tǒng)協(xié)作以相對(duì) 于所述基板上的位置定位這些激光脈沖的這些點(diǎn)，且其中這些點(diǎn)至位置的定位準(zhǔn)確性比10 微米更差。
[0041] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，其中一束定位系統(tǒng)及一基板支撐系統(tǒng)協(xié)作以 相對(duì)于所述基板上的位置定位這些激光束的這些點(diǎn)，且其中這些點(diǎn)至位置的定位準(zhǔn)確性比 5微米更差。
[0042] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，一束定位系統(tǒng)及一基板支撐系統(tǒng)協(xié)作以相對(duì) 于所述基板上的位置定位這些激光脈沖的這些點(diǎn)，且這些點(diǎn)至位置的定位準(zhǔn)確性比1微米 更差。
[0043] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，所述群組的點(diǎn)提供大于或等于5的一信噪比。
[0044] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，群組的點(diǎn)之間的間距或外部分離可表示信號(hào) 振幅，且協(xié)調(diào)的束定位及工件支撐系統(tǒng)的不確定性或最大不準(zhǔn)確性可表示噪聲。
[0045] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，增加這些群組的點(diǎn)之間的所述間距或外部分 離以增加所述信噪比。
[0046] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，采用一控制器以針對(duì)這些群組的點(diǎn)將所述二 維碼的黑色正方形轉(zhuǎn)換為所述基板上的各自位置。
[0047] 在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，采用一控制器以針對(duì)這些群組的點(diǎn)將所述二 維碼的黑色正方形轉(zhuǎn)換為所述基板上的各自位置。
[0048]在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，所述數(shù)組在一列或一行中包括至少50個(gè)幾何 區(qū)域。
[0049]在一些替代、額外或累積實(shí)施例中，所述二維標(biāo)識(shí)符易欲為機(jī)器可讀。
[0050]額外態(tài)樣及優(yōu)點(diǎn)將從參考附圖進(jìn)行的較佳實(shí)施例的以下詳細(xì)描述了解。
【附圖說明】
[0051 ]圖1是一習(xí)知QR碼的一實(shí)例。
[0052] 圖2是一習(xí)知一實(shí)例。
[0053]圖3展示一方格上迭加一 2DID碼的一部分的激光制成的較小"黑色正方形"。
[0054]圖4是用于替換一 2DID碼的一填充的深色正方形的激光點(diǎn)的一例示性圖案的一放 大表示。
[0055]圖5是圖2的一修改版的Data Matrix碼，其中用圖4的點(diǎn)的圖案替換各填充的深色 正方形。
[0056]圖5A是有利于內(nèi)部分離距離、外部分離距離與間距之間的區(qū)別的圖5的一放大部 分。
[0057]圖6是適于產(chǎn)生一修改的2DID碼的點(diǎn)的一例示性激光微加工系統(tǒng)的一些組件的簡(jiǎn) 化及部分示意性透視圖。
[0058] 圖7展示一激光脈沖焦點(diǎn)及其束腰部的一圖。
[0059] 圖8是具有由一涂層材料及一外罩覆蓋的一粗糙表面的一藍(lán)寶石晶圓的一截面?zhèn)?視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0060] 下文參考附圖描述實(shí)例實(shí)施例。在不偏離于本
【發(fā)明內(nèi)容】
的精神及教示下許多不同 形式及實(shí)施例是可行的且因而本
【發(fā)明內(nèi)容】
不應(yīng)視為限于本文提出的實(shí)例實(shí)施例。相反，提 供此等實(shí)例實(shí)施例，使得本揭示內(nèi)容將為徹底及完整的且將本
【發(fā)明內(nèi)容】
的范疇傳遞給熟悉 此項(xiàng)技術(shù)者。在圖中，為了清楚起見可擴(kuò)大組件的大小及相對(duì)大小。本文中使用的術(shù)語僅為 了描述特定實(shí)例實(shí)施例的目的且并不意欲限制。如本文所使用，除非上下文另有清楚指示， 否則單數(shù)形式"一"、"一個(gè)"及"所述"也意欲包含多個(gè)形式。將進(jìn)一步理解，當(dāng)在本說明書中 使用時(shí)，術(shù)語"包括(comprises和/或comprising)"指定所陳述的特征、整體、步驟、操作、組 件及/或組件的存在，但是并不排除一個(gè)或多個(gè)其他特征、整體、步驟、操作、組件、組件和/ 或其等群組的存在或添加。除非另有指定，否則陳述時(shí)的一范圍的值包含范圍上限及下限 兩者以及介于其中的任何子范圍。
[0061] 已（諸如）通過使用TRACKinsMe⑧技術(shù)（參閱h t t P : / / www. total brandsecurity. com/?page_id = 209#&pane 11-1)在玻璃內(nèi)部標(biāo)號(hào)一些 2DID碼。 裝備有在多種參數(shù)組合下操作的適當(dāng)激光，由美國(guó)俄勒閃州波特蘭的Electro Scientific Industries公司制造的許多激光微加工系統(tǒng)(諸如型號(hào)麗5330及麗5900)也適于在各種材 料(諸如陶瓷、玻璃、金屬或其等組合)上或內(nèi)制成2DID碼。
[0062]隨著在較小部件上標(biāo)記已為所期望，2DID碼的大小已變得更小。而且，"不可見" 2DID碼的可用性對(duì)于一些應(yīng)用(諸如對(duì)于用作無阻擋視角為所期望而通過的屏幕的透明材 料，或諸如對(duì)于可用于各種目的（諸如偵測(cè)真品與偽品）的專屬信息或隱秘制造商標(biāo)示)有 用。
[0063]用于使一 2DID碼不可見的一方法是縮小碼的大小直至黑色正方形的整個(gè)數(shù)組太 小而不可用人眼看見。人眼理論最大角分辨率是對(duì)應(yīng)于1.0米的一距離下的d = 0.35mm(350 微米)及2.0米的一距離下的d = 0.7mm的一點(diǎn)大小的1.2弧分。為了方便起見，此最大角分辨 率可表達(dá)為:d<0.35x mm，其中d是以毫米為單位的點(diǎn)大小且X是以米為單位的從眼睛至點(diǎn) 的距離。
[0064] 但是，在較近距離(諸如用于閱讀一移動(dòng)電話屏幕的一典型距離（大約25cm))下， 2DID碼將必須更小以不可見(大約87.5微米），且個(gè)別正方形必須甚至更小。即使可采用一 激光以使個(gè)別正方形足夠小，但黑色正方形將最有可能經(jīng)大小調(diào)整以在一單個(gè)激光脈沖下 等于點(diǎn)大小。例如，一習(xí)知較小激光點(diǎn)大小(諸如大約5微米)將限制此不可見2DID碼以在一 列或一行上包含至多17個(gè)正方形。激光點(diǎn)大小的微小的實(shí)際限制一般接受為大約采用激光 波長(zhǎng)的兩倍，因而小于大約1微米或2微米的點(diǎn)大小可能采用起來較困難及昂貴。因此，對(duì)于 更明顯的2D ID碼縮小，存在大量成本及技術(shù)限制。
[0065]圖3展示迭加于一方格圖案10上的一 2DID碼的一部分的仿真激光制成的"黑色正 方形"。實(shí)際激光及材料可引起呈模糊、扭曲的形狀的激光標(biāo)記，這些形狀并非適當(dāng)?shù)貙?duì)準(zhǔn) 且并非完全黑色，而是灰色陰影。所有此等因素(模糊、形狀扭曲、未對(duì)準(zhǔn)及低對(duì)比度陰影） 導(dǎo)致關(guān)于一特定正方形應(yīng)分類為"黑色"還是"白色"的較少確定性。此等因素的一些可源自 不可預(yù)測(cè)的激光腔效應(yīng)、光學(xué)組件的瞬態(tài)或長(zhǎng)期未對(duì)準(zhǔn)或束定位組件及激光時(shí)序的瞬態(tài)或 長(zhǎng)期不協(xié)調(diào)。此等不確定性統(tǒng)稱為"噪聲"。
[0066]圖3中所示的此等激光制成的黑色正方形及網(wǎng)格圖案顯露此等問題可如何隨著一 2DID碼的縮小而增加噪聲。特定言之，圖3展示一縮小標(biāo)記12、一放大標(biāo)記14及由系統(tǒng)噪聲 引起的非均勻邊緣16。圖3還展示可由束定位或基板定位系統(tǒng)中的位置不準(zhǔn)確性或坐標(biāo)不 準(zhǔn)確性或關(guān)于此等系統(tǒng)及激光脈沖產(chǎn)生的時(shí)序不準(zhǔn)確性引起的一未對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記18。此等扭曲 標(biāo)記(特定言之，標(biāo)記14及18)可甚至在最精密光學(xué)器件及誤差校正軟件下對(duì)光碼讀取器解 釋產(chǎn)生困難。
[0067]標(biāo)記的2DID碼的信噪比（SNR)決定碼是否將足夠不扭曲的似然度以最小化讀取 2DID碼的誤差。2DID碼中的個(gè)別正方形的大小與信號(hào)強(qiáng)度成比例，但個(gè)別正方形的形狀及 大小的扭曲與噪聲成比例。而且，信號(hào)振幅可由表示各正方形的點(diǎn)的圖案之間的空間分離 決定且噪聲振幅可由用于標(biāo)記點(diǎn)的系統(tǒng)的準(zhǔn)確性決定。因此，隨著個(gè)別正方形的大小變得 更小，信號(hào)強(qiáng)度較低且碼更易受可在不盡完美的標(biāo)記機(jī)器中發(fā)生的扭曲（諸如模糊或線扭 曲）影響。
[0068] 然而，俄勒閃州波特蘭的Electro Scientific Industries公司使一激光微加工 系統(tǒng)通過精確地控制系統(tǒng)組件的對(duì)準(zhǔn)、時(shí)序及坐標(biāo)且通過限制激光系統(tǒng)參數(shù)的處理窗以將 小于10微米的激光點(diǎn)精確地傳遞至一工件46(圖6)上的所期望位置來成功地克服許多此等 問題。在一特定實(shí)施例中，制成一 126 X 126微米數(shù)組的正方形的一顯微2DID碼，其中各指定 黑色正方形由一4至5微米點(diǎn)表示。而且，用于制成此2DID碼的激光微加工系統(tǒng)非常大且采 用非常昂貴的組件。
[0069] 為了利用一激光降低用于產(chǎn)生不可見2DID碼的系統(tǒng)成本，申請(qǐng)者追求一完全不同 的范例。申請(qǐng)者決定2DID碼可由包含使人眼對(duì)2DID碼的各黑色正方形不可見的一群組的點(diǎn) 的一修改的2DID碼表示，而非對(duì)付與將一整個(gè)2DID碼縮小至足夠小而對(duì)人眼不可見關(guān)聯(lián)的 成本及問題。
[0070] 圖4是用于替換一習(xí)知2DID碼的一填充的深色正方形的激光標(biāo)記或點(diǎn)32的一例示 性圖案或群組30的一放大表示。如前所述，為了方便起見，人眼的最大角分辨率可表達(dá)為d <0.35x mm，其中d是以毫米為單位的激光點(diǎn)的一主軸且X是以米為單位的從眼睛至點(diǎn)的距 離。因而，對(duì)于大約125cm的一典型最小閱讀距離，2DID碼中的各點(diǎn)將必須具有擁有一點(diǎn)維 數(shù)的一主軸，所述點(diǎn)維數(shù)短于或等于大約44微米以對(duì)人眼不可見(放大時(shí)(諸如在顯微觀看 下)仍可見）。
[0071] 在用分組圖案實(shí)驗(yàn)期間，申請(qǐng)者指出當(dāng)不可見小點(diǎn)32緊密地分組在一起時(shí)，其等 可看似一較大大小的一單個(gè)點(diǎn)，因此使得點(diǎn)32的群組30變?yōu)榭梢?。但是，?dāng)點(diǎn)32的中心至中 心分離s如圖4中所示大于直徑的四倍（即，s彡4d)時(shí)，基于實(shí)驗(yàn)的經(jīng)驗(yàn)資料證實(shí)具有一直徑 d的圓形形狀點(diǎn)32看似個(gè)別點(diǎn)(相對(duì)于看似一單個(gè)點(diǎn)的點(diǎn)的一叢集）。
[0072]簡(jiǎn)單軟件可用于將一習(xí)知2DID碼轉(zhuǎn)換為一修改形式，其中各黑色正方形（或各數(shù) 據(jù)點(diǎn)）由小點(diǎn)32(子數(shù)據(jù)點(diǎn)）的一圖案表示，其中各個(gè)別點(diǎn)32經(jīng)選擇以具有足夠小以對(duì)人眼 不可見的一主空間軸d且任何兩個(gè)點(diǎn)32之間的中心至中心間距或距離大于個(gè)別點(diǎn)32的最大 截面維數(shù)(例如，主空間軸d)的四倍。因此，可選擇各點(diǎn)32的形狀以及點(diǎn)32的大小。圓形點(diǎn)32 通常最容易產(chǎn)生，但是例如，也可采用正方形或橢圓形點(diǎn)32。類似地，形成各點(diǎn)32的空間能 量分布不需要為均勻。
[0073] -般而言，各點(diǎn)32的主空間軸d介于大約0.5微米與大約90微米之間。（小于大約 87.5微米的一主空間軸d在25cm的一距離下對(duì)人眼不可見。）在一些實(shí)施例中，點(diǎn)32的主空 間軸d介于大約1微米與大約75微米之間，或點(diǎn)32的主空間軸d短于75微米。在一些實(shí)施例 中，點(diǎn)32的主空間軸d介于大約1微米與大約50微米之間，或點(diǎn)32的主空間軸d短于50微米。 (小于大約43.75微米的一主空間軸d在12.5cm的一距離下對(duì)人眼不可見。）在一些實(shí)施例 中，點(diǎn)32的主空間軸d介于大約1微米與大約25微米之間，或點(diǎn)32的主空間軸d短于25微米。 (小于大約22微米的一主空間軸d在6.25cm的一距離下對(duì)人眼不可見。一般而言，大約30微 米或更小的一點(diǎn)大小在任何距離下對(duì)大多數(shù)人眼不可見，此歸因于人眼的解剖局限及習(xí)知 眼鏡的光學(xué)局限。）在一些實(shí)施例中，點(diǎn)32的主空間軸d介于大約1微米與大約10微米之間， 或點(diǎn)32的主空間軸d短于10微米。在一些實(shí)施例中，點(diǎn)32的主空間軸d介于大約1.5微米與大 約5微米之間，或點(diǎn)32的主空間軸d短于5微米。
[0074] 一般而言，有利的是在不明顯增加激光微加工系統(tǒng)的成本或明顯增加光碼讀取器 的成本下使點(diǎn)32的主空間軸d實(shí)際盡可能小(且至少足夠小，以便不會(huì)不利地影響待標(biāo)記的 基板）。將明白點(diǎn)32的主空間軸d制成得越小，最小點(diǎn)分離距離s在不會(huì)使點(diǎn)32的群組30可見 下可制成得越小（且總體2DID碼的大小可制成得越?。５?，也將明白可存在使點(diǎn)32以分 離距離間隔的優(yōu)點(diǎn)，這些分離距離明顯大于最小分離距離s以甚至在最小化點(diǎn)32的主空間 軸d時(shí)增加信噪比。
[0075]為了簡(jiǎn)單起見，各點(diǎn)32可在形狀及大小上類似，且形成有一類似空間能量分布;但 是，若期望，對(duì)于特定點(diǎn)32,可刻意改變此等特性。而且，因?yàn)橛欣男旁氡?，不同點(diǎn)32之間 的特性上的非刻意差異并不引起光學(xué)讀取誤差。
[0076]在一些實(shí)施例中，基于大約1微米的一點(diǎn)大小及申請(qǐng)者的經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)，最小分離距離 s大于或等于4微米。在將以ImmX 1mm場(chǎng)標(biāo)記的一177 X 177 2DID碼的一例示性數(shù)組中，1微 米點(diǎn)32之間的分離距離s可大至大約5.6微米。當(dāng)然，修改的2DID碼的場(chǎng)不需要如此小，因而 最大分離距離S可由基板的大小除以2DID碼的一列或行中的幾何區(qū)域的數(shù)量決定。例如，一 177X177 2DID碼的一lOcmX 10cm場(chǎng)可在1微米點(diǎn)32之間提供大至一565微米分離距離s; - 57 X 57 2DID碼的一20cm X 20cm場(chǎng)可在1微米點(diǎn)32之間提提供大至3500微米分離距離s;或 一 21 X 21 2DID碼的一 ImmX 1mm場(chǎng)可在25微米點(diǎn)32之間提供大至大約40微米分離距離s。如 前所述，較大分離距離s提供較大信噪比。而且，激光微加工系統(tǒng)的性質(zhì)可影響點(diǎn)32之間的 分離距離s的選擇。例如，若一激光微加工系統(tǒng)具有大約+/-20微米的一點(diǎn)位置定位準(zhǔn)確性， 則40微米的一分離距離s可為有利。
[0077] 一群組面積可由形成群組30中的點(diǎn)的散布的周界的點(diǎn)32界定。群組30中的各點(diǎn)32 具有如先前討論的一點(diǎn)大小或點(diǎn)面積。一累積點(diǎn)面積可表示一群組30內(nèi)的點(diǎn)32的點(diǎn)面積之 和。在一些實(shí)施例中，累積點(diǎn)面積小于或等于少于群組面積的10%。在一些實(shí)施例中，累積 點(diǎn)面積小于或等于少于群組面積的5%。在一些實(shí)施例中，累積點(diǎn)面積小于或等于少于群組 面積的1%。在一些實(shí)施例中，累積點(diǎn)面積小于或等于少于群組面積的0.5%。在一些實(shí)施例 中，累積點(diǎn)面積小于或等于少于群組面積的0.1 %。
[0078]圖5是圖2的一修改版的Data Matrix碼，其中用圖4的點(diǎn)32的圖案替換數(shù)組中的各 黑色（指定）正方形。點(diǎn)32的群組30展示為具有配置成一圖案的四個(gè)點(diǎn)32,使得各點(diǎn)32定位 成接近于一指定正方形或定位于一指定正方形的一隅角處。
[0079]修改的2D ID碼數(shù)組的場(chǎng)大小僅受待標(biāo)記的工件46 (圖6)上的基板44的大小限制。 在許多實(shí)施例中，場(chǎng)將小于20cmX20cm且大于50微米X50微米。在一些實(shí)施例中，場(chǎng)將小于 或等于500微米X 500微米(且大于1微米X 1微米）。
[0080]在一些實(shí)施例中，場(chǎng)將小于或等于250微米X 250微米(且大于1微米X 1微米）。在 一些實(shí)施例中，場(chǎng)將小于或等于100微米X 100微米(且大于1微米X 1微米）。在一些實(shí)施例 中，修改2DID碼的大小將大于或等于600微米X600微米。在一些實(shí)施例中，修改的2DID碼的 大小將小于或等于1mm X 1mm。在一些實(shí)施例中，修改的2D ID碼的大小將大于或等于1mm X 1mm且小于或等于10mm X 10mm。在一些實(shí)施例中，修改的2DID碼的大小將大于或等于lcm X lcm且小于或等于10cm X 10cm。如先前提及，所選激光微加工的性質(zhì)可影響點(diǎn)大小且限制定 位場(chǎng)。因?yàn)榭纱嬖谟糜谧畲蠡恍┎牧现械姆蛛x距離s的結(jié)構(gòu)完整性或優(yōu)點(diǎn)，所以基板的性 質(zhì)也可影響數(shù)組的場(chǎng)大小。此外，光碼讀取器的大小及成本與其等能力及碼偵測(cè)的處理能 力也可為決定2DID碼數(shù)組的一適當(dāng)場(chǎng)大小的因素。最后，修改的2DIDI碼的目的可影響為其 數(shù)組所選的場(chǎng)大小。
[0081] 將明白，數(shù)組中的幾何區(qū)域不需要為正方形。例如，其等可為三角形或六角形。而 且，點(diǎn)32的數(shù)量及表示各幾何區(qū)域的一群組30中的點(diǎn)32的圖案可在某種程度上為任意或可 經(jīng)特定選擇。例如，五個(gè)點(diǎn)可表示各指定幾何區(qū)域(諸如一正方形），其中四個(gè)點(diǎn)32定位于隅 角且一點(diǎn)32定位于中間。因此，各指定幾何區(qū)域可由一偶數(shù)數(shù)量的點(diǎn)或由一奇數(shù)數(shù)量的點(diǎn) 表示。在此實(shí)施例中，點(diǎn)32的四者與中間點(diǎn)32分離達(dá)所選距離s，此是因?yàn)樵摼嚯xs是群組30 中的任何兩個(gè)點(diǎn)32之間的最短距離。因此，隅角（或周界）點(diǎn)分離達(dá)大于s的一距離。因此，一 群組30中的點(diǎn)32(或最近鄰近點(diǎn)32)可分離達(dá)不等距離。
[0082] 如先前提及，數(shù)組中的指定幾何區(qū)域不需要由類似于幾何區(qū)域的一幾何圖案表 示。例如，一指定正方形幾何區(qū)域可由其他幾何圖案表示，這些幾何圖案包含(但不限于)矩 形圖案、餅圖案、六角形圖案、八角形圖案或三角形圖案。為了方便及簡(jiǎn)單起見，各指定幾何 區(qū)域可提供有點(diǎn)32的相同幾何圖案。但是，所選指定幾何區(qū)域可用一不同數(shù)量的點(diǎn)32、點(diǎn)32 的圖案的一不同大小或點(diǎn)的一不同圖案標(biāo)示。例如，一 QR碼的位置正方形和/或?qū)?zhǔn)正方形 可由不同圖案或由不同大小的圖案表示。
[0083]參考圖3,相鄰標(biāo)記的正方形之間不存在刻意分離，且標(biāo)記的正方形之間的間距具 有相同于標(biāo)記的正方形的側(cè)維數(shù)。因此，在圖3中所示的實(shí)施例中，噪聲可相當(dāng)于信號(hào)。但 是，再次參考圖5,在許多實(shí)施例中，點(diǎn)32的鄰近群組30可分離達(dá)一外部分離距離e(從不同 群組的相鄰點(diǎn)之間的最小分離距離)及一間距P(相鄰幾何區(qū)域或其等代表性群組之間的中 心至中心間隔）。圖5A是有利于內(nèi)部分離距離s、外部分離距離e與間距p之間的區(qū)別的圖5的 一放大部分。
[0084] 在許多實(shí)施例中，間距p將不同于及大于外部分離距離e，且間距p及外部分離距離 e兩者將不同于且一般大于一群組30中的點(diǎn)32之間的所選最小分離距離s。
[0085]而且，在一些實(shí)施例中，數(shù)組中的列或行之間的外部分離距離e可大于或等于Is以 維持一所期望信噪比。將明白列之間的外部分離距離e可不同于行之間的外部分離距離e。 也將明白，對(duì)于列出點(diǎn)大小、場(chǎng)大小及一列或行中的群組30的數(shù)量的早先實(shí)例，列與行之間 的外部分離距離e可使分離s減少了大于一半。
[0086]類似地，在一些實(shí)施例中，數(shù)組中的列或行之間的間距p可大于或等于Is以維持一 所期望信噪比。吾也將明白列之間的間距P可不同于行之間的間距P。還將明白，對(duì)于列出點(diǎn) 大小、場(chǎng)大小及一列或行中的群組30的數(shù)量的早先實(shí)例，列與行之間的間距p可使分離距離 s減少了大于一半。
[0087]因此，也可通過使得幾何區(qū)域(諸如正方形）的整體大小比由點(diǎn)32的圖案（若圖案 分組于幾何區(qū)域的中心附近)界定的周界大得多來改進(jìn)信噪比。
[0088] 在一些實(shí)施例中，信號(hào)振幅可由外部分離距離e或間距p表示。噪聲振幅可由點(diǎn)位 置相對(duì)于基板上的一特定位置的不確定性或不準(zhǔn)確性表示。例如，若標(biāo)記點(diǎn)的激光微加工 系統(tǒng)具有+/-20微米的一標(biāo)記不準(zhǔn)確性，則此不準(zhǔn)確性將表示噪聲。所以，信噪比將為外部 分離距離e或間距P對(duì)標(biāo)記不準(zhǔn)確性的比率。若一激光系統(tǒng)中固有的標(biāo)記不準(zhǔn)確性允許為較 大或隨著時(shí)間推移變差，則可增加外部分離距離e或間距P以維持一適當(dāng)信噪比?；蛘?，若知 道不準(zhǔn)確性為一固定數(shù)字，則信噪比可通過增加外部分離距離e或間距P而增加至一任意較 大數(shù)字。
[0089] 鑒于上述，信噪比可易于建立為大于5,該值根據(jù)羅斯準(zhǔn)則為能夠在100%確定下 區(qū)分影像特征的最小信噪比。但是，應(yīng)明白，可采用小于5的信噪比值。而且，本文描述的修 改的二維碼可提供任意較大信噪比值，諸如大于或等于10,大于或等于1〇〇或大于或等于 1000ο
[0090] 在一些替代實(shí)施例中，不使用數(shù)組中的列或行之間的間隔，使得相鄰指定幾何區(qū) 域中的圖案可共享點(diǎn)32。例如，鄰近指定正方形幾何區(qū)域的兩個(gè)隅角圖案可沿著兩個(gè)正方 形幾何區(qū)域的邊界共享兩個(gè)點(diǎn)32。光碼讀取器將必須經(jīng)調(diào)適以辨識(shí)(例如)三對(duì)均勻間隔的 點(diǎn)32表示兩個(gè)指定正方形。
[0091]無論數(shù)組的大小，點(diǎn)32之間的分離距離s，外部分離距離e(若有的話)或列之間及 行之間的間距距離P，群組30的所選圖案及幾何區(qū)域的大小及形狀如何，點(diǎn)32可轉(zhuǎn)換回指定 幾何區(qū)域(諸如黑色正方形）。
[0092]如先前提及，如本文描述般修改2DID碼的優(yōu)點(diǎn)包含用于使2DID碼在各種基板材料 (透明材料或不透明材料）中對(duì)人眼不可見的方法。例示性材料包含陶瓷、玻璃、塑料及金屬 或其等組合。例示性材料可為結(jié)晶或非結(jié)晶。例示性材料可為天然或合成。例如，激光微加 工系統(tǒng)可在半導(dǎo)體晶圓材料(此氧化鋁或藍(lán)寶石)上或內(nèi)制成適當(dāng)大小的標(biāo)記。激光微加工 系統(tǒng)也可在玻璃、強(qiáng)化玻璃及Corning Gorilla GlassTM上或內(nèi)制成適當(dāng)大小的標(biāo)記。激光 微加工系統(tǒng)也可在聚碳酸酯及丙烯酸酯上或內(nèi)制成適當(dāng)大小的標(biāo)記。激光微加工系統(tǒng)也可 在鋁、鋼及鈦上或內(nèi)制成適當(dāng)大小的標(biāo)記。
[0093]修改的2DID碼的不可見標(biāo)記不僅提供在不使透明材料模糊下放置碼的一方法，而 且提供將專屬信息隱藏于修改的碼內(nèi)的一方法。例如，多個(gè)圖案可提供于一修改的2DID碼 內(nèi)，其中僅圖案的一些包含專屬信息。此外，小型及展開點(diǎn)32可經(jīng)配置以在基板材料中看似 不完整，因而使一競(jìng)爭(zhēng)者或潛在復(fù)制者甚至難以知道存在修改的2DID碼。最后，可使修改的 2DID碼比標(biāo)準(zhǔn)2DID碼更復(fù)雜，因而修改的2DID碼可更難以通過一偽造者識(shí)別及復(fù)制。
[0094]無論是否使2DID碼不可見，修改的2DID碼通過一任意較大區(qū)域上的修改的碼的擴(kuò) 展實(shí)現(xiàn)較于習(xí)知2DID碼的信噪比（SNR)方面的較大改進(jìn)。而且，無論點(diǎn)32是否不可見，修改 的2DID碼減少誤差且減少誤差校正的成本及時(shí)間（處理能力）。
[0095]在一較大區(qū)域上擴(kuò)展2DID碼的另一優(yōu)點(diǎn)實(shí)現(xiàn)較便宜及較低精確度激光標(biāo)記系統(tǒng) 的使用，同時(shí)維持不可見性(若期望）。
[0096]如先前提及，點(diǎn)32可標(biāo)記于工件46(圖6)的基板材料上或內(nèi)。對(duì)于許多應(yīng)用，內(nèi)部 標(biāo)號(hào)點(diǎn)32可為有利。不可見點(diǎn)32非常小且更可能使一些材料磨損或易于被磨耗。但是，內(nèi)部 標(biāo)號(hào)不那么容易正常磨損或磨耗。內(nèi)部標(biāo)號(hào)也容許表面相對(duì)于灰塵或流體保持其等不透性 且較不可能折衷結(jié)構(gòu)完整性或促進(jìn)表面裂縫伸展或其他表面缺陷。
[0097] -般而言，內(nèi)部標(biāo)號(hào)可包含一基板的表面之間的核心材料的裂解、密度修改、孔洞 產(chǎn)生、應(yīng)力場(chǎng)或再結(jié)晶的一者或多者。
[0098] 可經(jīng)選擇以改進(jìn)基板的激光標(biāo)記的可靠性及可重復(fù)性的例示性激光脈沖參數(shù)包 含激光類型、波長(zhǎng)、脈沖持續(xù)時(shí)間、脈沖重復(fù)速率、脈沖的數(shù)量、脈沖能量、脈沖時(shí)間形狀、脈 沖空間形狀及焦點(diǎn)大小及形狀。額外激光脈沖參數(shù)包含指定焦點(diǎn)相對(duì)于對(duì)象的表面的位置 且相對(duì)于面向?qū)ο蠹す饷}沖的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。
[0099]圖6是適于產(chǎn)生一修改的2DID碼的點(diǎn)的一例示性激光微加工系統(tǒng)40的一些組件的 簡(jiǎn)化及部分示意性透視圖。參考圖6,可操作用于在一工件46的基板44的一表面42上或下面 標(biāo)記點(diǎn)32的一些例示性激光處理系統(tǒng)是ESI MM5330微加工系統(tǒng)、ESI ML5900微加工系統(tǒng)及 ESI 5955微加工系統(tǒng)，上述所有者由俄勒岡州波特蘭97229的Electro Scientific Indus tries公司制造。
[0100] 此等系統(tǒng)通常采用一固態(tài)二極管栗送的激光，其可經(jīng)組態(tài)以在多達(dá)5MHz的脈沖重 復(fù)速率下發(fā)射從大約266nm(UV)至大約1320nm(IR)的波長(zhǎng)。但是，此等系統(tǒng)可由適當(dāng)激光、 激光光學(xué)器件、部件處置設(shè)備及控制軟件的代替或添加調(diào)適以如先前所描述般在基板44上 或內(nèi)可靠地及可重復(fù)地產(chǎn)生所選點(diǎn)32。此等修改允許激光處理系統(tǒng)在所期望速率及激光點(diǎn) 或脈沖之間的間距下將具有適當(dāng)激光參數(shù)的激光脈沖導(dǎo)向至一適當(dāng)定位及保持工件46上 的所期望位置以產(chǎn)生具有所期望色彩、對(duì)比度及/或光學(xué)密度的所期望點(diǎn)32。
[0101] 在一些實(shí)施例中，激光微加工系統(tǒng)40采用在1064nm波長(zhǎng)下操作的一二極管栗送的 Nd: YV04固態(tài)激光50，諸如由德國(guó)凱澤斯勞滕的Lumera Laser GmbH制造的一型號(hào)Rap i d。可 視情況使用一固態(tài)諧波頻率產(chǎn)生器使此激光頻率加倍以將波長(zhǎng)減少至532nm，借此產(chǎn)生可 見(綠色)激光脈沖，或頻率增至三倍至大約355nm或頻率增至四倍至大約266nm，借此產(chǎn)生 紫外線(UV)激光脈沖。此激光50為額定以產(chǎn)生6瓦特的連續(xù)功率且具有ΙΟΟΟΚΗζ的一最大脈 沖重復(fù)速率。此激光50在與控制器54協(xié)作下產(chǎn)生具有1微微秒至1,000奈秒的持續(xù)時(shí)間的激 光脈沖52(圖7)。
[0102] 在一些實(shí)施例中，激光微加工系統(tǒng)40采用具有大約1030nm至1550nm的范圍內(nèi)的一 基波長(zhǎng)的一二極管栗送的摻鉺光纖激光?？梢暻闆r使用一固態(tài)諧波頻率產(chǎn)生器使此等激光 頻率加倍以將波長(zhǎng)減少至大約515nm，借此產(chǎn)生可見(綠色)激光脈沖或減少至大約775nm， 借此產(chǎn)生（例如）可見(深紅色)激光脈沖或頻率增至三倍至大約343nm或大約517nm或頻率 增至四倍至大約257nm或大約387.5nm，借此產(chǎn)生紫外線(UV)激光脈沖。
[0103] 此等激光脈沖52可為高斯函數(shù)或由激光光學(xué)器件62特別塑形或定制，該激光光學(xué) 器件62通常包括沿著一光學(xué)路徑60定位以允許點(diǎn)32的所期望特性的一個(gè)或多個(gè)光學(xué)組件。 例如，可使用一"頂帽"空間分布，其傳遞在整個(gè)點(diǎn)32上具有撞擊基板44的一均勻劑量的輻 射的一激光脈沖12?？墒褂美@射光學(xué)組件或其他光束塑形組件產(chǎn)生諸如此類的特別塑形的 空間分布?？稍贑orey Dunsky等人的美國(guó)專利案第6,433,301號(hào)中發(fā)現(xiàn)修改激光點(diǎn)32的空 間輻照分布的一詳細(xì)描述，該案受讓給本申請(qǐng)案的受讓人且以引用的方式并入本文中。 [0104] 激光脈沖52沿著一光學(xué)路徑60傳播，該光學(xué)路徑60也可包含折迭鏡64、衰減器或 脈沖拾取器(諸如聲光或電光裝置)66及回饋傳感器(諸如用于能量、時(shí)序或位置)68。
[0105] 沿著光學(xué)路徑60的激光光學(xué)器件62及其他組件與由控制器54導(dǎo)向的一激光束定 位系統(tǒng)70協(xié)作來導(dǎo)向沿著光學(xué)路徑60傳播的激光脈沖52的一束軸72以在一激光點(diǎn)位置于 接近于基板44的表面42處形成一激光焦點(diǎn)80。激光束定位系統(tǒng)70可包含:一激光臺(tái)82,其可 操作以沿著一行進(jìn)軸(諸如X軸)移動(dòng)激光50;及一迅速定位器臺(tái)84,其沿著一行進(jìn)軸(諸如Z 軸)移動(dòng)一迅速定位器(未展示）。一典型迅速定位器采用一對(duì)電流計(jì)受控鏡，其等能夠在基 板44上的一較大場(chǎng)上快速改變束軸72的方向。此場(chǎng)如稍后所描述般通常小于由工件臺(tái)86提 供的移動(dòng)場(chǎng)。一聲光裝置或一可變形鏡也可用作迅速定位器，即使此等裝置趨向于比電流 計(jì)鏡更小的束偏轉(zhuǎn)范圍?；蛘?，一聲光裝置或一可變形鏡可用作除了電流計(jì)鏡之外的一高 速定位裝置。
[0106] 此外，工件46可由一工件臺(tái)86支撐，該工件臺(tái)86具有可操作以相對(duì)于束軸72定位 基板44的運(yùn)動(dòng)控制組件。工件臺(tái)86可操作以沿著一單個(gè)軸（諸如Y軸）行進(jìn)或工件臺(tái)86可操 作以沿著橫向軸(諸如X軸及Y軸)行進(jìn)?；蛘?，工件臺(tái)86可操作以（諸如）圍繞一 Z軸使工件46 旋轉(zhuǎn)(單獨(dú)或以及沿著X軸及Y軸移動(dòng)工件46)。
[0107] 控制器54可協(xié)調(diào)激光束定位系統(tǒng)70及工件臺(tái)86的操作以提供復(fù)合束定位能力，其 有利于在基板42上或內(nèi)標(biāo)記點(diǎn)32,同時(shí)工件46可相對(duì)于束軸72呈連續(xù)相對(duì)運(yùn)動(dòng)。此能力并 非為在基板42上標(biāo)記點(diǎn)32所必需，但此能力可為增加的處理能力所期望。在Donald R.Cutler等人的美國(guó)專利案第5,751，585號(hào)中描述此能力，該案受讓給本發(fā)明的受讓人且 以引用的方式并入本文中?？刹捎檬ㄎ坏念~外或替代方法。在Spencer Barrett等人的美 國(guó)專利案第6，706，999號(hào)及Jay Johnson的第7，019，891號(hào)中描述束定位的一些額外或替代 方法，這些案兩者受讓給本發(fā)明的受讓人且以引用的方式并入本文中。
[0108] 本文描述的多種束定位系統(tǒng)可經(jīng)控制以在基板44上的一點(diǎn)32的所期望位置的若 干微米內(nèi)提供激光點(diǎn)位置的束定位準(zhǔn)確性。但是，應(yīng)注意，可利用較高成本組件、較大回饋 控制及較慢系統(tǒng)處理能力實(shí)施高準(zhǔn)確性。一般而言，歸因于由本文描述的修改的2DID碼供 應(yīng)的明顯增加的信噪比，束定位誤差可大至分離距離的一半。對(duì)于非常大的場(chǎng)，此可容許誤 差可相當(dāng)大，諸如1_。但是，即使非常低成本的激光微加工系統(tǒng)可達(dá)成較大準(zhǔn)確性。申請(qǐng)者 已決定針對(duì)許多實(shí)施例，甚至對(duì)于較小場(chǎng)，激光點(diǎn)位置的誤差可大至基板44上的一點(diǎn)32的 所期望位置的+/-20微米。針對(duì)具有非常小的場(chǎng)的許多實(shí)施例，激光點(diǎn)位置的誤差可大至基 板44上的一點(diǎn)32的所期望位置的+/-10微米。但是，對(duì)于最小化的場(chǎng)大小，激光點(diǎn)位置的誤 差可大至基板44上的一點(diǎn)32的所期望位置的+/-1微米。
[0109] 用于產(chǎn)生一 126X126微米示范的+/-0.5微米準(zhǔn)確性激光微加工系統(tǒng)的成本可大 大超過一百萬美元。用于+/-20微米準(zhǔn)確性激光微加工系統(tǒng)的成本可為大約更準(zhǔn)確機(jī)器的 成本的十分之一（即，大約$1〇〇,〇〇〇)。而且，其他更準(zhǔn)確機(jī)器大得多且要求一嚴(yán)格受控的溫 度環(huán)境(及受控振動(dòng)），但是+/-20微米準(zhǔn)確性機(jī)器明顯更小且可在不具有特殊局限的一典 型工廠環(huán)境中工作。
[0110] 圖7展示焦點(diǎn)80及其束腰部90的一圖。參考圖7,激光脈沖52的焦點(diǎn)80將具有大部 分由激光光學(xué)器件62決定的一束腰部90 (截面)及激光能量散布。點(diǎn)32的主空間軸d通常是 束腰部的主軸的一函數(shù)且兩者可為相同或類似。但是，點(diǎn)32的主空間軸d可大于或小于束腰 部的主軸。
[0111] 激光光學(xué)器件62可用于控制束腰部的焦深及因此基板44內(nèi)的點(diǎn)32的深度。通過控 制焦深，控制器54可導(dǎo)向激光光學(xué)器件62及迅速定位器Z臺(tái)84以在高精確度下在基板44的 表面處或附近可重復(fù)地定位點(diǎn)32。通過在基板44的表面42上方或下方定位焦點(diǎn)制成標(biāo)記容 許激光束散焦一指定量且借此增加由激光脈沖照亮的區(qū)域且減少表面42處的激光通量(減 少至小于表面處的材料的損壞臨限值的一量）。因?yàn)橹朗康膸缀危栽诨宓膶?shí)際 表面42上方或下方或內(nèi)精確地定位焦點(diǎn)80將對(duì)主空間軸d及通量提供額外精確度控制。
[0112] 在(諸如）用于標(biāo)記透明材料(諸如藍(lán)寶石）的一些實(shí)施例中，可通過從基板44的表 面42上調(diào)整激光點(diǎn)的位置以位于基板44內(nèi)的一精確距離而在基板44的核心處精確地控制 激光通量。參考圖7，束腰部90表示為由FWHM方法量測(cè)的沿著束軸72的一激光脈沖52的一空 間能量散布88。若激光微加工系統(tǒng)40在表面42上方的一距離96處使激光脈沖52聚焦，則主 軸92表示表面42上的激光脈沖點(diǎn)大小。若激光處理系統(tǒng)在表面下方的一距離98處使激光脈 沖聚焦，則主軸94表示表面42上的激光脈沖點(diǎn)大小。針對(duì)點(diǎn)32的內(nèi)部標(biāo)號(hào)為所期望的大多 數(shù)實(shí)施例，焦點(diǎn)80經(jīng)導(dǎo)向以定位于基板44內(nèi)，而非其表面42上方或下方?？稍诔私裹c(diǎn)80之 外以低于基板材料的燒蝕臨限值的一量采用通量或輻照，在該焦點(diǎn)80處通量或輻照集中于 超過基板材料的燒蝕臨限值。
[0113] 在一些實(shí)施例中，可采用激光脈沖的群組以產(chǎn)生一單個(gè)點(diǎn)32。特定言之，激光參數(shù) 可經(jīng)選擇以使得各激光脈沖影響小于用于一點(diǎn)32的所期望大小的一區(qū)域。在此等案例中， 多個(gè)激光脈沖可導(dǎo)向于一單個(gè)位置直至點(diǎn)32達(dá)到一所期望大小(該大小仍可能未能由人眼 偵測(cè)）。激光脈沖的群組可在相對(duì)運(yùn)動(dòng)中或在大體上相對(duì)靜止位置中傳遞。
[0114] 可針對(duì)一些實(shí)施例有利地采用的激光參數(shù)包含使用具有在從IR至UV，或更特定言 之，從大約10.6微米下至大約266nm的范圍中的波長(zhǎng)的激光50。激光50可在1W至100W，或更 佳地，1W至12W的范圍中的2W下操作。脈沖持續(xù)時(shí)間在從1微微秒至1000ns，或更佳地從大約 1微微秒至200ns的范圍中。激光重復(fù)速率可在從ΙΚΗζ至100MHz，或更佳地，從ΙΟΚΗζ至1MHz 的一范圍中。激光通量可在從大約0.1 X 10-6J/cm2至100.0J/cm2,或更特定言之，從1.0X 10-2J/cm2至10.0J/cm2的范圍中。束軸72相對(duì)于正被標(biāo)記的基板44移動(dòng)的速度在從lmm/s 至1 Om/s，或更佳地，從100mm/s至lm/s的范圍中。基板44上的相鄰列的點(diǎn)32之間的間距或間 隔可在從1微米至1000微米，或更佳地，從10微米至100微米的范圍中?；?4的表面42處量 測(cè)的激光脈沖52的主空間軸d可在從10微米至1000微米或從50微米至500微米的范圍中。當(dāng) 然，若點(diǎn)32易欲為不可見，則主空間軸d較佳地小于大約50微米。激光脈沖52的焦點(diǎn)80相對(duì) 于基板44的表面42的升高可在從-10mm至+10mm或從-5mm至+5mm的范圍中。在用于表面標(biāo)記 的許多實(shí)施例中，焦點(diǎn)80定位于基板44的表面42處。針對(duì)內(nèi)部標(biāo)號(hào)的許多實(shí)施例，焦點(diǎn)80定 位于基板44的表面42下面(基板的表面之間）。針對(duì)內(nèi)部標(biāo)號(hào)的一些實(shí)施例，焦點(diǎn)80定位于 基板44的表面42下面的至少10微米處。針對(duì)內(nèi)部標(biāo)號(hào)的一些實(shí)施例，焦點(diǎn)80定位于基板44 的表面42下面的至少50微米處。針對(duì)內(nèi)部標(biāo)號(hào)的一些實(shí)施例，焦點(diǎn)80定位于基板44的表面 42下面的至少100微米處。
[0115] 申請(qǐng)者發(fā)現(xiàn)一次表面焦點(diǎn)80的使用與產(chǎn)生在從1微微秒至1，000微微秒的范圍中 的激光脈沖寬度的微微秒激光的使用可提供在一些透明半導(dǎo)體基板(諸如藍(lán)寶石）內(nèi)可靠 地及可重復(fù)地產(chǎn)生標(biāo)記的一較好方法。在一些實(shí)施例中，可采用在從lps至100ps的范圍中 的脈沖寬度。在一些實(shí)施例中，可采用在從5ps至75ps的范圍中的脈沖寬度。在一些實(shí)施例 中，可采用在從l〇ps至50ps的范圍中的脈沖寬度?？赏茰y(cè)產(chǎn)生10毫微微秒至1000毫微微秒 范圍中的波長(zhǎng)的毫微微秒激光可替代地提供較好結(jié)果。但是，使用微微秒激光的一優(yōu)點(diǎn)在 于其等便宜得多，要求少得多的維護(hù)且通常具有比現(xiàn)有毫微微秒激光長(zhǎng)得多的操作壽命。
[0116] 雖然可如先前討論在各種波長(zhǎng)下完成標(biāo)記，但申請(qǐng)者發(fā)現(xiàn)在微微秒范圍中操作的 IR激光特定提供可重復(fù)的較好結(jié)果。在l〇64nm下或1064nm附近的波長(zhǎng)特別有利。一例示性 激光50是一Lumera 6W激光。將明白可采用光纖激光或其他類型的激光。
[0117] 類似參數(shù)也可用于在金屬或涂覆金屬(諸如陽極化鋁）中制成不可見次表面標(biāo)記。 為陽極化鋁基板44定制標(biāo)記詳細(xì)描述于美國(guó)專利案第8,379,679號(hào)中及美國(guó)專利公開案第 2013-0208074號(hào)中，這些案兩者為Haibin Zhang等人所有且這些案兩者受讓給本發(fā)明的受 讓人且這些案兩者以引用的方式并入本文中。
[0118] 如先前討論，可通過在基板材料處選擇性導(dǎo)向激光輸出來內(nèi)部標(biāo)號(hào)透明半導(dǎo)體基 板材料?；?4的內(nèi)部標(biāo)號(hào)保持表面42的完整性，諸如其防水及防塵。內(nèi)部標(biāo)號(hào)也減少由表 面標(biāo)記產(chǎn)生的裂縫伸展及其他不利效果。
[0119] 參考圖8,申請(qǐng)者也已指出從單晶塊切割的晶圓100或其他半導(dǎo)體基板材料趨向于 具有擁有粗糙表面紋理的表面104及106。在其等自然態(tài)中的此等表面104及106的表面紋理 可不利地影響基板100處導(dǎo)向的激光脈沖52的光學(xué)性質(zhì)。
[0120] 申請(qǐng)者也決定具有擁有粗糙紋理的一粗糙表面104或106(諸如一未拋光表面）的 基板100可能難以在不會(huì)對(duì)表面104或106引起損壞下內(nèi)部標(biāo)號(hào)。
[0121] 可通過采用有效地提供一平坦表面140或142以接收激光輸出110的一涂層材料 130來減輕粗糙表面的不利光學(xué)效果。平坦表面140表示涂層材料130的上表面。平坦表面 142是用于涂層材料130的一外罩150的平坦表面。涂層材料130具有與基板折射率光學(xué)兼容 的一涂層折射率。
[0122] 涂層折射率可在基板折射率的折射率的2內(nèi)（諸如在攝氏25度下）。涂層折射率可 在基板折射率的折射率的1內(nèi)。涂層折射率可在基板折射率的折射率的0.5內(nèi)。涂層折射率 可在基板折射率的折射率的〇. 2內(nèi)。涂層折射率可在1.2與2.5之間。涂層折射率可在1.5與 2.2之間。涂層折射率可在1.7與2.0之間。涂層折射率可在1.75與1.85之間。外罩也可具有 此等范圍中的匹配折射率。
[0123] 涂層材料130可包括流體、膠體或油。涂層材料130可具有大于攝氏180度的一沸點(diǎn) (諸如在760mm Hg下）。涂層材料可具有2g/cc與5g/cc之間的一密度(諸如在攝氏25度下）。 涂層材料可具有2.5g/cc與4g/cc之間的一密度。涂層材料130可具有3g/cc與3.5g/cc之間 的一密度。
[0124] 在一些實(shí)施例中，涂層材料可包括二碘甲烷。涂層材料可包括一寶石折射計(jì)液體。 涂層材料可在激光處理期間維持流體性質(zhì)。涂層材料可包括一水平測(cè)量組合物。較佳的是， 在激光處理之后涂層材料130易于從粗糙表面移除?？赏ㄟ^丙酮、四氯化碳、乙醚、二氯甲 烷、甲苯、二甲苯或其等組合從粗糙表面清洗涂層材料130，或可通過水從粗糙表面清洗涂 層材料130，或可通過乙醇從粗糙表面清洗涂層材料130。
[0125] 外罩150可對(duì)激光波長(zhǎng)透明。外罩150可包括基板材料。外罩150可包括在該波長(zhǎng)下 不具反射性的一光滑外罩表面。外罩150可包括一玻璃。外罩150可包括一藍(lán)寶石、金剛石、 硅或塑料。
[0126] 此等粗糙表面減輕技術(shù)描述于Haibin Zhang等人的美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)案第61/ 912，192號(hào)中，該案以引用的方式并入本文中。
[0127] 雖然在本文中已通過實(shí)例對(duì)2DID碼進(jìn)行以上描述，但熟練人員可明白通過利用深 度控制以用于標(biāo)記透明基板44,可建構(gòu)采用點(diǎn)32的3D碼。
[0128] 上述繪示本發(fā)明的實(shí)施例且并非解釋為限制本發(fā)明。雖然已描述若干特定實(shí)例實(shí) 施例，但是熟悉此項(xiàng)技術(shù)者將易于明白在不實(shí)質(zhì)上脫離于本發(fā)明的新穎教示及優(yōu)點(diǎn)下對(duì)揭 示的例示性實(shí)施例以及其他實(shí)施例的許多修改是可行的。
[0129] 因此，所有此等修改易欲包含于如權(quán)利要求書中定義的本發(fā)明的范疇內(nèi)。例如，熟 練人員將明白，任何句子或段落的標(biāo)的可與其他句子或段落的一些或所有的標(biāo)的組合，除 非此等組合互斥。
[0130]對(duì)于熟悉此項(xiàng)技術(shù)者顯而易見的是可在不脫離于本發(fā)明的基本原理下對(duì)上文描 述的實(shí)施例的細(xì)節(jié)作出許多改變。因此，本發(fā)明的范疇?wèi)?yīng)由以下權(quán)利要求書決定，其中權(quán)利 要求書的等效例將包含于其中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種用于利用二維標(biāo)識(shí)符標(biāo)記基板的方法，其包括： 產(chǎn)生激光脈沖;及 在基板處導(dǎo)向這些激光脈沖以在所述基板上或內(nèi)形成點(diǎn)散布，其中所述點(diǎn)散布表示二 維碼且包括多個(gè)群組的點(diǎn)，這些群組的點(diǎn)包含第一群組及第二群組的點(diǎn)，其中這些第一群 組及所述第二群組的點(diǎn)的各者代表一幾何形狀，使得所述點(diǎn)散布形成一數(shù)組的多列及多行 幾何區(qū)域，其中這些幾何區(qū)域的一些包含一群組的點(diǎn)且這些幾何區(qū)域的一些缺少點(diǎn)。2. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，代表性幾何形狀為一矩形幾何形狀，且其中 這些第一群組及所述第二群組的點(diǎn)經(jīng)定位以表示所述矩形幾何形狀的隅角。3. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中這些第一群組及所述第二群組的點(diǎn)各包含奇數(shù)數(shù)量 的點(diǎn)。4. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中表示所述二維碼的所述點(diǎn)散布在離人眼大于或等于 25mm的距離下對(duì)人眼不可見。5. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述數(shù)組具有大于50微米的數(shù)組維數(shù)。6. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述數(shù)組具有大于500微米的數(shù)組維數(shù)。7. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述數(shù)組具有小于或等于1_的數(shù)組維數(shù)。8. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中這些第一群組及所述第二群組的點(diǎn)在離人眼大于或 等于25mm的距離下對(duì)所述人眼不可見。9. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中這些第一群組及所述第二群組的各點(diǎn)在離人眼大于 或等于25_的距離下對(duì)所述人眼不可見。10. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中這些第一群組及所述第二群組的這些點(diǎn)各具有小于 35微米的主空間軸的維數(shù)。11. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中這些點(diǎn)各具有主空間軸的維數(shù)，且其中這些點(diǎn)分離 達(dá)大于或等于所述主空間軸的維數(shù)的四倍的距離。12. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中這些幾何區(qū)域表示QR碼中的正方形。13. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中各點(diǎn)由激光脈沖形成。14. 如權(quán)利要求13所述的方法，其中所述激光脈沖具有短于50ps的脈沖寬度。15. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中這些點(diǎn)為黑色且所述基板為淺色。16. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中這些點(diǎn)為黑色且其中所述基板大體上對(duì)可見光透 明。17. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述基板包括藍(lán)寶石。18. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述基板包括玻璃。19. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述基板包括塑料。20. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述基板包括鋁。21. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中這些激光脈沖經(jīng)導(dǎo)向以在形成所述第二群組的點(diǎn)之 前循序形成所述第一群組的點(diǎn)。22. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中這些激光脈沖經(jīng)導(dǎo)向以在形成所述第一群組中的第 二點(diǎn)之前形成這些第一群組及所述第二群組的各者中的第一點(diǎn)。23. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中束定位系統(tǒng)及基板支撐系統(tǒng)協(xié)作以相對(duì)于所述基板 上的位置定位這些激光脈沖的這些點(diǎn)，且其中這些點(diǎn)至位置的定位準(zhǔn)確性比5微米更差。24. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中束定位系統(tǒng)及基板支撐系統(tǒng)協(xié)作以相對(duì)于所述基板 上的位置定位這些激光脈沖的這些點(diǎn)，且其中這些點(diǎn)至位置的定位準(zhǔn)確性比10微米更差。25. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述群組的點(diǎn)提供大于或等于5的信噪比。26. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中采用控制器以針對(duì)這些群組的點(diǎn)將所述二維碼的黑 色正方形轉(zhuǎn)換為所述基板上的各自位置。27. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述數(shù)組在一列或一行中包括至少50個(gè)幾何區(qū)域。28. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中二維標(biāo)識(shí)符在放大下可見。29. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述群組的點(diǎn)提供大于或等于10的信噪比。30. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述群組的點(diǎn)提供大于或等于100的信噪比。31. -種用于在工件的基板上或內(nèi)利用二維標(biāo)識(shí)符標(biāo)記基板的激光微加工系統(tǒng)，其中 二維碼包含一數(shù)組的幾何形狀區(qū)域，其中指定這些幾何形狀區(qū)域的一些且未指定這些幾何 形狀區(qū)域的一些，所述激光微加工系統(tǒng)包括： 激光，其用于沿著束軸產(chǎn)生激光脈沖； 工件支撐系統(tǒng)，其用于移動(dòng)工件； 束定位系統(tǒng)，其用于朝著所述工件導(dǎo)向所述束軸，使得激光脈沖可操作以在基板上標(biāo) 記點(diǎn);及 控制器，其用于協(xié)調(diào)所述工件支撐系統(tǒng)及所述束定位系統(tǒng)的相對(duì)移動(dòng)，且用于針對(duì)表 示這些指定幾何形狀區(qū)域的這些群組的點(diǎn)實(shí)施所述二維碼的指定幾何形狀區(qū)域至所述基 板上的各自位置的轉(zhuǎn)換。32. 如權(quán)利要求31所述的激光微加工系統(tǒng)，其中這些幾何形狀區(qū)域具有矩形幾何形狀， 且其中各群組的點(diǎn)經(jīng)定位以表示矩形幾何形狀的隅角。33. 如權(quán)利要求31所述的激光微加工系統(tǒng)，其中這些群組的點(diǎn)各包含奇數(shù)數(shù)量的點(diǎn)。34. 如權(quán)利要求31至33中任一項(xiàng)所述的激光微加工系統(tǒng)，其中表示所述二維碼的點(diǎn)散 布在與人眼大于或等于25_的距離下對(duì)所述人眼不可見。35. 如權(quán)利要求31至34中任一項(xiàng)所述的激光微加工系統(tǒng)，其中所述數(shù)組具有大于50微 米的數(shù)組維數(shù)。36. 如權(quán)利要求31至35中任一項(xiàng)所述的激光微加工系統(tǒng)，其中所述數(shù)組具有大于500微 米的數(shù)組維數(shù)。37. 如權(quán)利要求31至36中任一項(xiàng)所述的激光微加工系統(tǒng)，其中所述數(shù)組具有小于或等 于1mm的數(shù)組維數(shù)。38. 如權(quán)利要求31至37中任一項(xiàng)所述的激光微加工系統(tǒng)，其中這些群組的點(diǎn)在與人眼 大于或等于25_的距離下所述人眼不可見。39. 如權(quán)利要求31至38中任一項(xiàng)所述的激光微加工系統(tǒng)，其中各點(diǎn)在離人眼大于或等 于25mm的距離下對(duì)所述人眼不可見。40. 如權(quán)利要求31至39中任一項(xiàng)所述的激光微加工系統(tǒng)，其中這些第一群組及第二群 組的這些點(diǎn)各具有擁有小于35微米的維數(shù)的主空間軸。41. 如權(quán)利要求31至40中任一項(xiàng)所述的激光微加工系統(tǒng)，其中這些點(diǎn)各具有主空間軸 的維數(shù)，且其中這些點(diǎn)分離達(dá)大于或等于所述主空間軸的所述維數(shù)的四倍的距離。42. 如權(quán)利要求31至41中任一項(xiàng)所述的激光微加工系統(tǒng)，其中這些指定幾何形狀區(qū)域 表示QR碼中的黑色正方形。43. 如權(quán)利要求31至42中任一項(xiàng)所述的激光微加工系統(tǒng)，其中各點(diǎn)由激光脈沖形成。44. 如權(quán)利要求43所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中所述激光脈沖具有短于50ps的脈沖寬度。45. 如權(quán)利要求31至44中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中這些點(diǎn)為黑色且所述基板為 淺色。46. 如權(quán)利要求31至44中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中這些點(diǎn)為黑色且其中所述基 板大體上對(duì)可見光透明。47. 如權(quán)利要求31至44和權(quán)利要求46中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中所述基板包括 藍(lán)寶石。48. 如權(quán)利要求31至44和權(quán)利要求46中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中所述基板包括 玻璃。49. 如權(quán)利要求31至46中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中所述基板包括塑料。50. 如權(quán)利要求31至46中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中所述基板包括鋁。51. -種二維標(biāo)識(shí)符，其包括： 點(diǎn)散布，其在具有對(duì)比背景的基板上或內(nèi)，其中所述點(diǎn)散布包括多個(gè)群組的點(diǎn)，這些群 組的點(diǎn)包含第一群組及第二群組的點(diǎn)，其中這些第一群組及所述第二群組的點(diǎn)的各者代表 一幾何形狀，使得所述點(diǎn)散布形成一數(shù)組的多列及多行幾何區(qū)域，其中這些幾何區(qū)域的一 些包含一群組的點(diǎn)且這些幾何區(qū)域的一些缺少點(diǎn)。52. 如權(quán)利要求51所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中代表性幾何形狀為矩形幾何形狀，且其中這 些第一群組及所述第二群組的點(diǎn)經(jīng)定位以表示所述矩形幾何形狀的隅角。53. 如權(quán)利要求51所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中這些第一群組及所述第二群組的點(diǎn)各包含 奇數(shù)數(shù)量的點(diǎn)。54. 如權(quán)利要求51至53中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中二維標(biāo)識(shí)符在離人眼大于或 等于25mm的距離下對(duì)所述人眼不可見。55. 如權(quán)利要求51至54中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中所述數(shù)組具有大于50微米的 數(shù)組維數(shù)。56. 如權(quán)利要求51至55中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中所述數(shù)組具有大于500um的數(shù) 組維數(shù)。57. 如權(quán)利要求51至56中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中所述數(shù)組具有小于或等于1_ 的數(shù)組維數(shù)。58. 如權(quán)利要求51至57中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中這些第一群組及所述第二群 組的點(diǎn)在與人眼大于或等于25_的距離下對(duì)所述人眼不可見。59. 如權(quán)利要求51至58中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中這些點(diǎn)在與人眼大于或等于 25mm的距離下對(duì)所述人眼不可見。60. 如權(quán)利要求51至59中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中這些第一群組及所述第二群 組的這些點(diǎn)各具有擁有小于35微米的維數(shù)的主空間軸。61. 如權(quán)利要求51至60中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中這些點(diǎn)各具有主空間軸的維 數(shù)，且其中這些點(diǎn)分離達(dá)大于或等于所述主空間軸的所述維數(shù)的四倍的距離。62. 如權(quán)利要求51至61中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中這些幾何區(qū)域表示QR碼中的 正方形。63. 如權(quán)利要求51至62中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中各點(diǎn)由激光脈沖形成。64. 如權(quán)利要求53所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中所述激光脈沖具有短于50ps的脈沖寬度。65. 如權(quán)利要求51至64中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中這些點(diǎn)為黑色且所述基板為 淺色。66. 如權(quán)利要求51至64中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中這些點(diǎn)為黑色且其中所述基 板大體上對(duì)可見光透明。67. 如權(quán)利要求第51至64和權(quán)利要求66中任一項(xiàng)述的二維標(biāo)識(shí)符，其中所述基板包括 藍(lán)寶石。68. 如權(quán)利要求51至64和權(quán)利要求66中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中所述基板包括 玻璃。69. 如權(quán)利要求51至66中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中所述基板包括塑料。70. 如權(quán)利要求51至66中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中所述基板包括鋁。71. 如權(quán)利要求51至70中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中所述數(shù)組在一列或一行中包 括至少50個(gè)幾何區(qū)域。72. 如權(quán)利要求51至71中任一項(xiàng)所述的二維標(biāo)識(shí)符，其中所述二維標(biāo)識(shí)符在放大下可 見。
【文檔編號(hào)】G06K19/06GK106030617SQ201580009897
【公開日】2016年10月12日
【申請(qǐng)日】2015年2月24日
【發(fā)明人】賈斯汀·D·雷德
【申請(qǐng)人】伊雷克托科學(xué)工業(yè)股份有限公司