材的另一個面上制作厚度為5μπι的第2硬涂層。
[0104] 在第1硬涂層上通過DC磁控濺射依次形成第1金屬氧化物層、金屬層以及第2金屬 氧化物層。第1金屬氧化物層以及第2金屬氧化物層使用具有表1所示的組成的Zn〇-In 2〇3-Ti02靶來形成。各個實施例中的第1金屬氧化物層以及第2金屬氧化物層使用具有相同組成 的靶來形成。各實施例中的第1金屬氧化物層以及第2金屬氧化物層的組成如表1所示。各實 施例中的第1金屬氧化物層以及第2金屬氧化物層的厚度為50nm。
[0105] 在表1所示的全部的實施例中，金屬層使用AgPdCu(Ag:Pd:Cu = 99.0:0.5:0.5(質(zhì) 量％))祀來形成。金屬層16的厚度為5nm〇
[0106] (透明導(dǎo)電體101的評價）
[0107] 按照以下的順序評價蝕刻特性。首先，準備含有磷酸、乙酸、硝酸的PAN系蝕刻液。 在該蝕刻液中在室溫下浸漬各實施例的透明導(dǎo)電體1分鐘，進行蝕刻。其后，進行總透光率 測定，判定第1金屬氧化物層、金屬層以及第2金屬氧化物層是否溶解。具體來說，將蝕刻后 的樣品的總透光率僅與透明樹脂基材的總透光率一致的情況判定為"A"，將不一致的情況 判定為"B"。總透光率(透過率)使用霧度計（商品名：NDH-7000，日本電色工業(yè)公司制造)來 測定。評價結(jié)果如表1所示。
[0108] 另外，按照以下的順序評價耐堿性。準備濃度為3wt %的Κ0Η溶液。在該堿溶液中在 室溫下將各實施例的透明導(dǎo)電體浸漬2分鐘。其后，進行總透光率測定，判定第1金屬氧化物 層、金屬層以及第2金屬氧化物層是否溶解。具體來說，將堿溶液浸漬后的樣品的總透光率 與浸漬前的總透光率一致的情況判定為"A"，將不一致的情況判定為"B"。總透光率(透過 率)使用霧度計(商品名:NDH-7000,日本電色工業(yè)公司制造)來測定。評價結(jié)果如表1所示。
[0109] 使用4端子電阻率計(商品名:Loresta GP，三菱化學(xué)株式會社制造)測定各實施例 的表面電阻。將結(jié)果不于表1中。在表1中，"表面電阻（1)"是將透明導(dǎo)電體在85°C、85%RH (相對濕度85%)的環(huán)境下保存50小時前的表面電阻值，"表面電阻（2)"是在上述環(huán)境下保 存后的表面電阻值。
[0110] 將各實施例的透明導(dǎo)電體在85°C、85%RH的環(huán)境下保存之后，通過目視進行保存 穩(wěn)定性的評價。將在透明導(dǎo)電體中看到白濁的情況判定為"B"，將沒有看到的情況判定為 "八"。結(jié)果如表1所示。
[0111] [表 1]
[0112]
[0113] 如表1所示，在全部的實施例中蝕刻特性以及耐堿性的評價為"A"。由此確認了，實 施例1~13的透明導(dǎo)電體中的金屬氧化物層和金屬層可以容易地除去，并且具有優(yōu)異的耐 堿性。實施例12、13的透明導(dǎo)電體總透光率稍低，這是由于In 2〇3的含有率高，因此，吸收率增 加的緣故。然而，如果是該總透光率，只要是不尋求這樣高的水平的透明性的例如噪聲片等 用途(例如，噪聲屏蔽等)就是能夠充分使用的水平。
[0114] 為了評價金屬氧化物層的特性，與上述的順序同樣地制作僅金屬氧化物層(單層） 的樣品。與上述的順序同樣地進行該樣品的評價。將評價的結(jié)果示于表2中。另外，表2的吸 收率是使用以分光器測得的透過率和反射率的測定結(jié)果以100-透過率-反射率=吸收率的 式子求得的值。該吸收率是波長380nm下的值。
[0115] [表 2]
[0116]
[0117] 如表2所示，確認了即使各實施例的金屬氧化物層含有ZnO作為主成分，通過含有 In2〇3和Ti02作為副成分，并且為規(guī)定的Ti02含有率，從而也可以兼顧耐腐蝕性和耐堿性的 提高與高的導(dǎo)電性。另外，確認了如果將ZnO和In 2〇3的含量設(shè)定為優(yōu)選的范圍，則吸收率充 分低。
[0118] [實施例14~24]
[0119] 除了改變制作金屬層時的靶的組成，并且如表3所示變更金屬層的組成和/或變更 金屬層的厚度以外，與實施例1同樣地制作透明導(dǎo)電體。即，在實施例14~20中改變了金屬 層的厚度。在實施例21中，使用六 8恥(：1^8:制:〇1 = 99.0:0.5:0.5(質(zhì)量％))靶來形成金屬 層。在實施例22中，使用4 811^11以8:111:311 = 99.0:0.5:0.5(質(zhì)量％))靶來形成金屬層。在實 施例23中，使用4 831^以8:311:3& = 99.0:0.5:0.5(質(zhì)量％))靶來形成金屬層。在實施例24 中，使用厶8(：11(厶8:〇1 = 99.5:0.5(質(zhì)量％))革巴來形成金屬層。
[0120] 與實施例1同樣地進行制得的實施例14~24的透明導(dǎo)電體的評價。評價結(jié)果如表3 所示。另外，實施例14~24的金屬氧化物層的組成以及厚度與實施例1相同。
[0121] [表 3]
[0122]
[0123] 根據(jù)表3所示的結(jié)果，任一的實施例中蝕刻特性以及耐堿性的評價都為"A"。由此 確認了，實施例14~24的透明導(dǎo)電體中的金屬氧化物層和金屬層可以容易地除去，而且具 有優(yōu)異的耐堿性。另外，如果金屬層的厚度變大，則確認有表面電阻變小的傾向，并且有總 透光率降低的傾向。另外，在銀合金含有Pd的情況下，確認保存穩(wěn)定性特別優(yōu)異。
[0124] [比較例1~7]
[0125] 除了作為形成第1金屬氧化物層以及第2金屬氧化物層時的靶使用具有表4所示的 組成的靶以外，與實施例1同樣地制作比較例1~4的透明導(dǎo)電體。在各個比較例中，第1金屬 氧化物層和第2金屬氧化物層使用具有相同的組成的靶來形成。各比較例中的第1金屬氧化 物層和第2金屬氧化物層的組成如表4所示。與實施例1同樣地評價了各比較例的透明導(dǎo)電 體的各個特性。結(jié)果如表4所示。
[0126] [表 4]
[0127]
[0128] 如表4所示，確認了具有雖然含有Zn〇-In2〇3-Ti02的三種成分，但是具有Ti0 2的含 有率在本申請發(fā)明的范圍外的金屬氧化物層的透明導(dǎo)電體不能兼顧蝕刻特性以及耐堿性。
[0129] 產(chǎn)業(yè)上利用的可能性
[0130] 根據(jù)本公開的內(nèi)容，可以提供能夠通過蝕刻容易地除去金屬氧化物層和金屬層， 并且耐堿性優(yōu)異且高透過率、低電阻的透明導(dǎo)電體。另外，根據(jù)本公開的內(nèi)容，通過使用這 樣的透明導(dǎo)電體，可以提供能夠容易地制造的觸摸屏。
【主權(quán)項】
1. 一種透明導(dǎo)電體，其中， 依次層疊有透明樹脂基材、第1金屬氧化物層、含有銀合金的金屬層、以及第2金屬氧化 物層， 所述第2金屬氧化物層含有ZnO作為主成分，并且含有In2〇3和Ti02作為副成分， Ti〇2的含量相對于ZnO、In2〇3以及Ti02這3種成分的合計為6~15mol%。2. 如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電體，其中， 在所述第2金屬氧化物層中，ZnO的含量相對于ZnO、In2〇3以及Ti02這3種成分的合計為 73~84mol%，In2〇3的含量相對于所述3種成分的合計為9~18mol%。3. 如權(quán)利要求域2所述的透明導(dǎo)電體，其中， 所述金屬層的厚度為4~llnm。4. 如權(quán)利要求1~3中任一項所述的透明導(dǎo)電體，其中， 所述第1金屬氧化物層含有ZnO作為主成分，并且含有In2〇3和Ti02作為副成分，Ti0 2的含 量相對于ZnO、In2〇3以及Ti02這3種成分的合計為6~15mol %。5. 如權(quán)利要求1~4中任一項所述的透明導(dǎo)電體，其中， 所述銀合金為Ag與選自？(1、(：11、陽、111、311以及313中的至少一種金屬的合金。6. -種觸摸屏，其中， 所述觸摸屏在面板上具有傳感器薄膜，所述傳感器薄膜由權(quán)利要求1~5中任一項所述 的透明導(dǎo)電體構(gòu)成。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種能夠通過蝕刻容易地除去金屬氧化物層和金屬層并且耐堿性優(yōu)異的透明導(dǎo)電體。本發(fā)明提供一種透明導(dǎo)電體(100)，其依次層疊有透明樹脂基材(10)、第1金屬氧化物層(12)、含有銀合金的金屬層(16)、以及第2金屬氧化物層(14)，第2金屬氧化物層(14)含有ZnO作為主成分，并且含有In2O3和TiO2作為副成分，TiO2的含量相對于ZnO、In2O3以及TiO2這3種成分的合計為6～15mol％。
【IPC分類】G06F3/041
【公開號】CN105700735
【申請?zhí)枴緾N201510898460
【發(fā)明人】新開浩
【申請人】Tdk株式會社
【公開日】2016年6月22日
【申請日】2015年12月8日