3d觸控面板及其制備方法、觸控驅(qū)動(dòng)裝置、顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種3D觸控面板及其制備方法、觸控驅(qū)動(dòng)裝置、顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]觸摸屏(touchscreen)又稱為觸控面板，隨著顯示技術(shù)的飛速發(fā)展，其已經(jīng)在各種電子產(chǎn)品中廣泛應(yīng)用并遍及人們的生活中。電容觸控面板是常用觸控面板中的一種，其原理是利用手指接近電容觸控層時(shí)所產(chǎn)生的電容變化來(lái)實(shí)現(xiàn)觸控位置的探測(cè)。
[0003]傳統(tǒng)的電容觸控面板只能提供觸控位置探測(cè)，但隨著觸控技術(shù)的不斷發(fā)展，越來(lái)越多的產(chǎn)品利用觸控面板來(lái)直接完成對(duì)目標(biāo)對(duì)象的操作。在觸控面板上增加觸控力度探測(cè)部件，實(shí)現(xiàn)觸控力度探測(cè)功能，能觸發(fā)更多不同的操作，不僅會(huì)給用戶操作提供方便，也會(huì)為用戶帶來(lái)使用樂(lè)趣。因此，具備觸控力度探測(cè)功能的電容觸控面板越來(lái)越受到觸控面板廠家的青睞。
[0004]現(xiàn)有的電容觸控面板主要是通過(guò)分別設(shè)置觸控感應(yīng)片和壓力感應(yīng)片，并將觸控感應(yīng)片和壓力感應(yīng)片通過(guò)光學(xué)膠貼合后固定于蓋板上，來(lái)實(shí)現(xiàn)觸控位置探測(cè)和觸控力度的探測(cè)。然而現(xiàn)有的電容觸控面板其觸控感應(yīng)片和壓力感應(yīng)片均需單獨(dú)占用顯示設(shè)備內(nèi)部空間，空間利用率低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，本發(fā)明提供一種3D觸控面板及其制備方法、觸控驅(qū)動(dòng)裝置、顯示裝置，將電容式壓力觸控器件集成于位于顯示背板和蓋板之間的隔墊物位置處，實(shí)現(xiàn)觸控力度探測(cè)功能，提高顯示裝置內(nèi)部空間利用率。
[0006]具體來(lái)說(shuō)，本發(fā)明提出了以下技術(shù)方案:
[0007]第一方面，本發(fā)明提供一種3D觸控面板，包括顯示背板和蓋板，所述顯示背板和蓋板相互對(duì)合；
[0008]所述顯示背板包括顯示基底、形成于所述顯示基底朝向所述蓋板的一面上的多個(gè)第一觸控電極以及與多個(gè)第一觸控電極相連的第一走線、形成于各第一觸控電極之上的多個(gè)隔墊物；
[0009]所述蓋板包括蓋板基底、形成在所述蓋板基底朝向所述顯示背板的一面上的多個(gè)第二觸控電極以及與多個(gè)第二觸控電極相連的第二走線、形成在所述蓋板基底的背離所述顯示背板的一面上的位置觸控層;所述位置觸控層用于檢測(cè)觸控位置;各個(gè)第一觸控電極與各個(gè)第二觸控電極的位置相對(duì)應(yīng)，且均位于隔墊物位置處。
[0010]優(yōu)選地，所述顯示背板還包括形成在所述顯示基底上的多個(gè)像素單元，每一個(gè)像素單元包括像素電極、有機(jī)發(fā)光層和公共電極，各個(gè)像素電極與所述第一觸控電極同層形成。
[0011]優(yōu)選地，所述顯示背板還包括:形成在各個(gè)第一觸控電極與各個(gè)像素電極之間的像素界定層。
[0012]優(yōu)選地，所述隔墊物和所述像素界定層材質(zhì)相同。
[0013]第二方面，本發(fā)明還提供一種3D觸控面板的制備方法，包括:
[0014]制備顯示背板；
[0015]制備蓋板；
[0016]將所述顯示背板與所述蓋板對(duì)合；
[0017]其中，制備顯示背板的步驟包括:
[0018]在顯示基底朝向所述蓋板的一面上形成多個(gè)第一觸控電極以及與多個(gè)第一觸控電極相連的第一走線；
[0019]在所述各第一觸控電極上形成多個(gè)隔墊物，所述隔墊物與所述第一觸控電極在所述顯示基底上的投影區(qū)域相同；
[0020]制備蓋板的步驟包括:
[0021]在所述蓋板基底朝向所述顯示背板的一面上形成多個(gè)第二觸控電極以及與多個(gè)第二觸控電極相連的第二走線;各個(gè)第一觸控電極與各個(gè)第二觸控電極的位置相對(duì)應(yīng)，且均位于隔墊物位置處；
[0022]在所述蓋板基底背離所述顯示背板的一面上形成位置觸控層;所述位置觸控層用于檢測(cè)觸控位置。
[0023]優(yōu)選地，所述制備顯示背板還包括:在所述顯示基底上形成多個(gè)像素單元;每一個(gè)像素單元包括像素電極、有機(jī)發(fā)光層和公共電極；
[0024]其中，形成各個(gè)像素電極的步驟包括:在形成各個(gè)第一觸控電極的同一工藝中形成各個(gè)像素電極。
[0025]優(yōu)選地，所述制備顯示背板還包括:
[0026]在各個(gè)第一觸控電極與各個(gè)像素電極之間形成像素界定層。
[0027]優(yōu)選地，形成隔墊物和形成像素界定層的步驟包括:在第一觸控電極上形成絕緣材料層；
[0028]使用半掩膜工藝對(duì)所述絕緣材料層進(jìn)行圖案化得到絕緣材料層圖形;所述絕緣材料層圖形包括各個(gè)隔墊物和所述像素界定層。
[0029]第三方面，本發(fā)明還提供一種觸控驅(qū)動(dòng)裝置，用于對(duì)上述任一3D觸摸面板進(jìn)行觸控驅(qū)動(dòng)，包括:
[0030]位置檢測(cè)模塊，用于驅(qū)動(dòng)所述位置觸控層進(jìn)行觸控觸控檢測(cè)，確定觸控位置；
[0031]力度檢測(cè)模塊，用于通過(guò)第一走線、第二走線檢測(cè)第一觸控電極與第二觸控電極之間的電容的變化值，確定觸控力度。
[0032]優(yōu)選地，所述力度檢測(cè)模塊具體用于通過(guò)檢測(cè)第一觸控電極與第二觸控電極之間的電容的變化值，確定觸控力度包括:檢測(cè)第一觸控電極與第二觸控電極之間的電容的變化值;判斷所述變化值是否大于預(yù)設(shè)值;并僅在判斷為是時(shí)，根據(jù)所述變化值確定觸控力度。
[0033]第四方面，本發(fā)明還提供一種顯示裝置，包括上述任一 3D觸控面板和上述任一觸控驅(qū)動(dòng)裝置。
[0034]相比于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明將用于實(shí)現(xiàn)觸控力度探測(cè)的第一觸控電極、第二觸控電極分別集成到顯示基底、蓋板基底上，且均位于隔墊物位置處，充分利用隔墊物的空間，使隔墊物在作為顯示基底與蓋板基底的支撐件的同時(shí)，充當(dāng)由第一觸控電極、第二觸控電極構(gòu)成的觸控電容的電容介質(zhì)，使得本發(fā)明在實(shí)現(xiàn)觸控力度探測(cè)的同時(shí)，節(jié)省顯示裝置內(nèi)部空間，提高空間利用率；另外，結(jié)合蓋板基底上的位置觸控層進(jìn)行位置探測(cè)，能實(shí)現(xiàn)觸控面板的3D觸控探測(cè)。
【附圖說(shuō)明】
[0035]通過(guò)參考附圖會(huì)更加清楚的理解本發(fā)明的特征和優(yōu)點(diǎn)，附圖是示意性的而不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明進(jìn)行任何限制，在附圖中:
[0036]圖1是本發(fā)明一實(shí)施例提供的3D觸控面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖2為本發(fā)明另一實(shí)施例提供的3D觸控面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]圖3是本發(fā)明一實(shí)施例提供的3D觸控面板中觸控電極以及公共陰極的布線示意圖；
[0039]圖4是本發(fā)明一實(shí)施例提供的觸控驅(qū)動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖5是本發(fā)明采用本發(fā)明一實(shí)施例提供的觸控驅(qū)動(dòng)裝置對(duì)3D觸控面板進(jìn)行觸控驅(qū)動(dòng)過(guò)程中，觸控電容的電容變化值隨觸控外力強(qiáng)度變化的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0041]下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0042]圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的3D觸控面板的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖1所示，該3D觸控面板包括顯示背板和蓋板，顯示背板和蓋板相互對(duì)合；
[0043]其中，顯示背板包括顯示基底1、形成于顯示基底I朝向蓋板的一面(顯示基底I上表面)上的多個(gè)第一觸控電極2以及與多個(gè)第一觸控電極2相連的第一走線、形成于各第一觸控電極2之上的多個(gè)隔墊物3;
[0044]蓋板包括蓋板基底4、形成在蓋板基底4朝向顯示背板的一面(蓋板基底4下表面)上的多個(gè)第二觸控電極5以及與多個(gè)第二觸控電極5相連的第二走線、形成在蓋板基底4的背離顯示背板的一面(蓋板基底4上表面)上的位置觸控層6;各個(gè)第一觸控電極2與各個(gè)第二觸控電極5的位置相對(duì)應(yīng)，且均位于隔墊物3位置處。
[0045]本發(fā)明實(shí)施例提供的3D觸控面板，通過(guò)在顯示基底I上形成多個(gè)第一觸控電極2，在蓋板基底4上形成與各個(gè)第一觸控電極2位置對(duì)應(yīng)的多個(gè)第二觸控電極5，并均位于隔墊物3位置處，第一觸控電極2和第二觸控電極5構(gòu)成觸控電容，隔墊物3充當(dāng)觸控電容的電容介質(zhì)。當(dāng)有觸控發(fā)生時(shí)，蓋板基底4在對(duì)應(yīng)的觸控位置處的第二觸控電極5會(huì)受到相應(yīng)的觸控壓力發(fā)生形變，從而引起第一觸控電極2和第二觸控電極5之間的距離發(fā)生變化，進(jìn)