本文的描述涉及檢查系統(tǒng)領(lǐng)域，更具體地說，涉及用于在檢查期間改善圖像質(zhì)量的系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

1、在集成電路(ic)的制造過程中，需要對未完成或已完成的電路部件進行檢查，以確保它們按照設(shè)計制造且沒有缺陷。使用光學(xué)顯微鏡的檢查系統(tǒng)通常具有低至幾百納米的分辨率；并且分辨率受光波長的限制。隨著ic部件的物理尺寸不斷減小到100納米以下甚至10納米以下，需要具有比使用光學(xué)顯微鏡的檢查系統(tǒng)更高的分辨率的檢查系統(tǒng)。

2、帶電粒子(例如，電子)束顯微鏡，諸如掃描電子顯微鏡(sem)或透射電子顯微鏡(tem)，其分辨率可低至納米以下，可用作檢查特征尺寸小于100納米的ic部件的實用工具。使用sem，單個初級電子束的電子或多個初級電子束的電子可聚焦在被檢查晶片的關(guān)注位置。初級電子與晶片相互作用，并且可能被背向散射或可導(dǎo)致晶片發(fā)射次級電子。包含背向散射電子和次級電子的電子束的強度可基于晶片的內(nèi)部和外部結(jié)構(gòu)的性質(zhì)而變化，從而可指示晶片是否有缺陷。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本公開的實施例提供了用于改善圖像質(zhì)量的裝置、系統(tǒng)和方法。在一些實施例中，系統(tǒng)、方法和非暫態(tài)計算機可讀介質(zhì)可以包括以下步驟：獲取樣品區(qū)域的多個圖像；通過相位多樣性分析確定：多個焦點相關(guān)值，其中多個焦點相關(guān)值中的每個焦點相關(guān)值與多個圖像中的每個圖像相關(guān)聯(lián)；多個圖像的最大似然估計；以及基于所確定的多個焦點相關(guān)值和所確定的最大似然估計生成該區(qū)域的焦點校正圖像。

2、在一些實施例中，系統(tǒng)、方法和非暫態(tài)計算機可讀介質(zhì)可以包括以下步驟：獲取樣品區(qū)域的多個圖像；通過相位多樣性分析確定：多個焦點相關(guān)值，其中多個焦點相關(guān)值中的每個焦點相關(guān)值與多個圖像中的每個圖像相關(guān)聯(lián)；多個圖像的最大似然估計；以及基于所確定的多個焦點相關(guān)值和所確定的最大似然估計來生成該區(qū)域的焦點調(diào)整圖像。

3、在一些實施例中，系統(tǒng)、方法和非暫態(tài)計算機可讀介質(zhì)可以包括以下步驟：獲取樣品視場中的區(qū)域的多個圖像，其中多個圖像中的第一圖像具有第一焦點相關(guān)值，并且多個圖像中的第二圖像具有不同于第一焦點相關(guān)值的第二焦點相關(guān)值；并且使用第一和第二圖像生成視場中的區(qū)域的焦點調(diào)整圖像。

技術(shù)特征：

1.一種用于提高圖像質(zhì)量的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述多個焦點相關(guān)值中的每個焦點相關(guān)值包括離焦值。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述多個圖像中的每個圖像具有不同的相關(guān)聯(lián)的焦點相關(guān)值。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述多個焦點相關(guān)值包括焦點相關(guān)值的范圍。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中焦點相關(guān)值的范圍對應(yīng)于與物鏡相關(guān)聯(lián)的電壓范圍。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述區(qū)域位于所述樣品的視場內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述mle是基于所確定的所述多個焦點相關(guān)值來確定的。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中：

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中所述電路系統(tǒng)被配置為使得所述系統(tǒng)還執(zhí)行：

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中所述電路系統(tǒng)被配置為使得所述系統(tǒng)還執(zhí)行：

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述電路系統(tǒng)被配置為使得所述系統(tǒng)還執(zhí)行：

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中所述多個焦點相關(guān)值中的每個焦點相關(guān)值與基于所述高斯分布建模的所述多個圖像中的每個經(jīng)去噪的圖像相關(guān)聯(lián)。

13.一種改善圖像質(zhì)量的方法，所述方法包括：

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中所述多個焦點相關(guān)值中的每個焦點相關(guān)值包括離焦值。

15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中所述多個圖像中的每個圖像具有不同的相關(guān)聯(lián)的焦點相關(guān)值。

技術(shù)總結(jié)
用于改善圖像質(zhì)量的系統(tǒng)、裝置和方法。在一些實施例中，方法可以包括：獲取樣品區(qū)域的多個圖像；經(jīng)由相位多樣性分析確定：多個焦點相關(guān)值，其中多個焦點相關(guān)值中的每個焦點相關(guān)值與多個圖像中的每個圖像相關(guān)聯(lián)；多個圖像的最大似然估計；以及基于確定的多個焦點相關(guān)值和確定的最大似然估計生成該區(qū)域的焦點校正圖像。

技術(shù)研發(fā)人員：M·R·古森
受保護的技術(shù)使用者：ASML荷蘭有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/23