專(zhuān)利名稱(chēng)：一種用于蝕刻的廢氣處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及廢氣處理技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種用于蝕刻的廢氣處理裝置，可 用于觸摸屏線(xiàn)路及面板等蝕刻加工排放出來(lái)的廢氣處理。
背景技術(shù)：
在觸摸屏等產(chǎn)品的加工過(guò)程中，一般需對(duì)觸摸屏線(xiàn)路及面板通過(guò)蝕刻進(jìn)行蝕刻線(xiàn) 作業(yè)，而目前，現(xiàn)有技術(shù)中，蝕刻裝置一般都直接外露與空氣中，直接與外部空氣接通，蝕刻 時(shí)直接將廢氣排放到空氣當(dāng)中，并沒(méi)有專(zhuān)門(mén)的廢氣處理裝置對(duì)蝕刻產(chǎn)生的廢氣進(jìn)行處理， 因此現(xiàn)有的技術(shù)存在著以下缺陷(1)在蝕刻工藝中，酸性蝕刻工序和酸洗工序均使用了 硫酸及鹽酸溶液，加工時(shí)會(huì)有鹽酸等酸性氣體揮發(fā)出來(lái)，而堿性蝕刻工序中，主要使用了堿 性氯化銅蝕刻液，其基本成分為氯化銅、氯化銨、氨水，加工時(shí)會(huì)有氨氣等堿性氣體揮發(fā)出 來(lái)，因此，蝕刻線(xiàn)排放出來(lái)的廢氣成分包含有酸性氣體、堿性氣體等，若直接排放到空氣當(dāng) 中，則會(huì)對(duì)地球的環(huán)境造成很大的空氣污染；(2)蝕刻線(xiàn)產(chǎn)生的廢氣直接排放到空氣中，酸 性氣體對(duì)人體皮膚有直接的傷害；(3)蝕刻線(xiàn)屬于室里操作設(shè)備，觸摸屏等產(chǎn)品生產(chǎn)中的 原材料對(duì)蝕刻線(xiàn)排放出來(lái)廢氣中的酸性氣體非常敏感，原材料導(dǎo)電層容易被氧化，造成原 材料報(bào)廢，從而影響觸摸屏等產(chǎn)品的生產(chǎn)質(zhì)量及大大提高原料成本。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)與不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、合理，可 有效對(duì)蝕刻產(chǎn)生的廢氣進(jìn)行處理，從而保持保護(hù)周?chē)h(huán)境空氣清新的用于蝕刻的廢氣處理
直ο本實(shí)用新型的目的通過(guò)下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)一種用于蝕刻的廢氣處理裝置，包括 蝕刻裝置、廢氣抽取機(jī)構(gòu)和廢氣過(guò)濾箱，所述蝕刻裝置和廢氣過(guò)濾箱均為封閉的箱體，蝕刻 裝置通過(guò)廢氣管與廢氣抽取機(jī)構(gòu)連接，廢氣抽取機(jī)構(gòu)通過(guò)廢氣管與廢氣過(guò)濾箱連接，廢氣 過(guò)濾箱外部還連接有排出管，所述排出管的管口外露于空氣中；所述廢氣抽取機(jī)構(gòu)還連接 有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述廢氣過(guò)濾箱內(nèi)裝有廢氣處理液。所述廢氣處理液為堿水。所述堿水優(yōu)選為氫氧化鈉溶液。所述堿水的質(zhì)量濃度為6 8 %。所述廢氣抽取機(jī)構(gòu)為一真空泵，所述廢氣管包括廢氣抽出管和廢氣排入管，所述 廢氣抽出管連接蝕刻裝置和真空泵，所述廢氣排入管連接廢氣過(guò)濾箱和真空泵。所述廢氣排入管的一端管口置于廢氣過(guò)濾箱的廢氣處理液內(nèi)。所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為一電機(jī)，所述電機(jī)與真空泵連接。所述蝕刻裝置包括傳送機(jī)構(gòu)、酸槽、堿槽、水洗裝置和烘干裝置，所述傳送機(jī)構(gòu)、酸 槽、堿槽、水洗裝置和烘干裝置均放置于密封的箱體內(nèi)；所述酸槽、堿槽、水洗裝置和烘干裝 置依次與傳送機(jī)構(gòu)連接，且均分別與所述廢氣抽出管連通。傳送機(jī)構(gòu)、酸槽、堿槽、水洗裝置和烘干裝置的結(jié)構(gòu)可采用傳統(tǒng)技術(shù)的結(jié)構(gòu)。酸槽中裝有用于蝕刻的酸性蝕刻液，酸性蝕刻液采用傳統(tǒng)技術(shù)的溶液，如硫酸及 鹽酸溶液、三氯化鐵蝕刻液或酸性氯化銅蝕刻液等；堿槽中裝有用于蝕刻的堿性蝕刻液，堿 性蝕刻液采用傳統(tǒng)技術(shù)的溶液，如堿性氯化銅溶液等。本實(shí)用新型的作用過(guò)程將產(chǎn)品放置于傳送機(jī)構(gòu)上，經(jīng)傳送機(jī)構(gòu)的傳送，產(chǎn)品依次 經(jīng)酸槽、堿槽、水洗裝置和烘干裝置進(jìn)行蝕刻加工；同時(shí)，電機(jī)啟動(dòng)，使得真空泵形成負(fù)壓， 從而通過(guò)廢氣抽出管抽取蝕刻裝置中酸槽、堿槽、水洗裝置和烘干裝置加工時(shí)排放的廢氣； 廢氣經(jīng)廢氣抽出管流經(jīng)真空泵，再由廢氣排入管流入廢氣過(guò)濾箱，廢氣過(guò)濾箱里的堿水對(duì) 廢氣里的酸性氣體、堿性氣體等進(jìn)行中和處理，并通過(guò)排出管排放到外面。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有如下優(yōu)點(diǎn)和有益效果1、本實(shí)用新型設(shè)有廢氣過(guò)濾箱，可有效地通過(guò)堿水的中和作用，將蝕刻產(chǎn)生的廢 氣進(jìn)行有效處理，從而保持保護(hù)周?chē)h(huán)境空氣清新，大大減低了環(huán)境污染的程度。2、本實(shí)用新型對(duì)于蝕刻線(xiàn)產(chǎn)生的廢氣不會(huì)直接排放到空氣中，需廢氣過(guò)濾箱過(guò)濾 處理后再排出，使得人體皮膚不會(huì)受酸性氣體等氣體的傷害，可有效保證人體身體健康。3、本實(shí)用新型的蝕刻裝置和廢氣過(guò)濾箱均為封閉的結(jié)構(gòu)，使得蝕刻線(xiàn)排放出來(lái)的 廢氣不會(huì)對(duì)觸摸屏等產(chǎn)品生產(chǎn)中的原材料造成影響，觸摸屏等產(chǎn)品生產(chǎn)中的原材料不會(huì)被 氧化，大大減低了其原材料成本、減少原材料的報(bào)廢數(shù)量，從而大大提高了觸摸屏等產(chǎn)品的 生產(chǎn)質(zhì)量。4、本實(shí)用新型的構(gòu)件較少，維護(hù)比較方便。
圖1是本實(shí)用新型的具體結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合實(shí)施例及附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的描述，但本實(shí)用新型的實(shí)施 方式不限于此。實(shí)施例1如圖1所示，本用于蝕刻的廢氣處理裝置，包括蝕刻裝置、廢氣抽取機(jī)構(gòu)和廢氣過(guò) 濾箱12，所述蝕刻裝置和廢氣過(guò)濾箱12均為封閉的箱體，蝕刻裝置通過(guò)廢氣管與廢氣抽取 機(jī)構(gòu)連接，廢氣抽取機(jī)構(gòu)通過(guò)廢氣管與廢氣過(guò)濾箱12連接，廢氣過(guò)濾箱12外部還連接有排 出管14，所述排出管14的管口外露于空氣中；所述廢氣抽取機(jī)構(gòu)還連接有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述 廢氣過(guò)濾箱12內(nèi)裝有廢氣處理液13。所述廢氣處理液13為氫氧化鈉溶液，其質(zhì)量濃度為6%。所述廢氣抽取機(jī)構(gòu)為一真空泵9，所述廢氣管包括廢氣抽出管8和廢氣排入管10， 所述廢氣抽出管8連接蝕刻裝置和真空泵9，廢氣排入管10連接廢氣過(guò)濾箱12和真空泵 9，且廢氣排入管10的一端管口 11置于廢氣過(guò)濾箱12的廢氣處理液13內(nèi)。所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為一電機(jī)7，所述電機(jī)7與真空泵9連接。所述蝕刻裝置包括傳送機(jī)構(gòu)2、酸槽3、堿槽4、水洗裝置5和烘干裝置6，所述傳送 機(jī)構(gòu)1、酸槽2、堿槽3、水洗裝置4和烘干裝置5均放置于密封的箱體1內(nèi)；所述酸槽2、堿
4槽3、水洗裝置4和烘干裝置5依次與傳送機(jī)構(gòu)1連接，且均分別與廢氣抽出管8連通。酸槽3中裝有用于蝕刻的酸性蝕刻液，酸性蝕刻液采用傳統(tǒng)技術(shù)的溶液，如硫酸 及鹽酸溶液、三氯化鐵蝕刻液或酸性氯化銅蝕刻液等；堿槽4中裝有用于蝕刻的堿性蝕刻 液，堿性蝕刻液采用傳統(tǒng)技術(shù)的溶液，如堿性氯化銅溶液等；水洗裝置5中裝有純水，用于 清洗蝕刻的產(chǎn)品；烘干裝置6對(duì)蝕刻的產(chǎn)品進(jìn)行加溫烘干。蝕刻裝置在蝕刻加工時(shí)排放的廢氣主要成分包括硫酸、鹽酸、硝酸、硫氧化物等揮 發(fā)出來(lái)的酸性氣體以及氨氣等堿性氣體。本實(shí)施例的作用過(guò)程將產(chǎn)品放置于傳送機(jī)構(gòu)2上，經(jīng)傳送機(jī)構(gòu)2的傳送，產(chǎn)品依 次經(jīng)酸槽3、堿槽4、水洗裝置5和烘干裝置6進(jìn)行蝕刻加工；同時(shí)，電機(jī)7啟動(dòng)，使得真空泵 9形成負(fù)壓，從而通過(guò)廢氣抽出管8抽取蝕刻裝置中酸槽3、堿槽4、水洗裝置5和烘干裝置 6加工時(shí)排放的廢氣；廢氣經(jīng)廢氣抽出管8流經(jīng)真空泵9，再由廢氣排入管10流入廢氣過(guò)濾 箱12，廢氣過(guò)濾箱12里的堿水對(duì)廢氣里的酸性氣體、堿性氣體等進(jìn)行中和處理，并通過(guò)排 出管14排放到外面。實(shí)施例2本實(shí)施例除下述特征外其他結(jié)構(gòu)同實(shí)施例1 所述廢氣處理液13為氫氧化鈉溶 液，其質(zhì)量濃度為8%。實(shí)施例3本實(shí)施例除下述特征外其他結(jié)構(gòu)同實(shí)施例1 所述廢氣處理液13為氫氧化鈉溶 液，其質(zhì)量濃度為。上述各實(shí)施例為本實(shí)用新型較佳的實(shí)施方式，但本實(shí)用新型的實(shí)施方式并不受上 述實(shí)施例的限制，其他的任何未背離本實(shí)用新型的精神實(shí)質(zhì)與原理下所作的改變、修飾、替 代、組合、簡(jiǎn)化，均應(yīng)為等效的置換方式，都包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求一種用于蝕刻的廢氣處理裝置，其特征在于包括蝕刻裝置、廢氣抽取機(jī)構(gòu)和廢氣過(guò)濾箱，所述蝕刻裝置和廢氣過(guò)濾箱均為封閉的箱體，蝕刻裝置通過(guò)廢氣管與廢氣抽取機(jī)構(gòu)連接，廢氣抽取機(jī)構(gòu)通過(guò)廢氣管與廢氣過(guò)濾箱連接，廢氣過(guò)濾箱外部還連接有排出管，所述排出管的管口外露于空氣中；所述廢氣抽取機(jī)構(gòu)還連接有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述廢氣過(guò)濾箱內(nèi)裝有廢氣處理液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于蝕刻的廢氣處理裝置，其特征在于所述廢氣處理液為 堿水。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于蝕刻的廢氣處理裝置，其特征在于所述堿水為氫氧化 鈉溶液。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于蝕刻的廢氣處理裝置，其特征在于所述廢氣抽取機(jī)構(gòu) 為一真空泵，所述廢氣管包括廢氣抽出管和廢氣排入管，所述廢氣抽出管連接蝕刻裝置和 真空泵，所述廢氣排入管連接廢氣過(guò)濾箱和真空泵。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于蝕刻的廢氣處理裝置，其特征在于所述廢氣排入管的 一端管口置于廢氣過(guò)濾箱的廢氣處理液內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于蝕刻的廢氣處理裝置，其特征在于所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為一 電機(jī)，所述電機(jī)與真空泵連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于蝕刻的廢氣處理裝置，其特征在于所述蝕刻裝置包括 傳送機(jī)構(gòu)、酸槽、堿槽、水洗裝置和烘干裝置，所述傳送機(jī)構(gòu)、酸槽、堿槽、水洗裝置和烘干裝 置均放置于密封的箱體內(nèi)；所述酸槽、堿槽、水洗裝置和烘干裝置依次與傳送機(jī)構(gòu)連接，且 均分別與所述廢氣抽出管連通。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型提供了一種用于蝕刻的廢氣處理裝置，包括蝕刻裝置、廢氣抽取機(jī)構(gòu)和廢氣過(guò)濾箱，所述蝕刻裝置和廢氣過(guò)濾箱均為封閉的箱體，蝕刻裝置通過(guò)廢氣管與廢氣抽取機(jī)構(gòu)連接，廢氣抽取機(jī)構(gòu)通過(guò)廢氣管與廢氣過(guò)濾箱連接，廢氣過(guò)濾箱外部還連接有排出管，所述排出管的管口外露于空氣中；所述廢氣抽取機(jī)構(gòu)還連接有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述廢氣過(guò)濾箱內(nèi)裝有廢氣處理液。本實(shí)用新型可對(duì)蝕刻產(chǎn)生的廢氣進(jìn)行有效處理，從而保持保護(hù)周?chē)h(huán)境空氣清新，具有廢氣處理效果好、環(huán)境污染小、維護(hù)方便等優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)G06F3/041GK201768485SQ20102013914
公開(kāi)日2011年3月23日 申請(qǐng)日期2010年3月19日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月19日
發(fā)明者李林波 申請(qǐng)人:東莞市平波電子有限公司