及在相同應(yīng)變下之電阻變 化量的比例關(guān)系，疏敏感柵與密甲敏感柵的電阻和減去中甲敏感柵的電阻值，再除以疏敏 感柵中心與密甲敏感柵中心的距離為應(yīng)變的橫向一階數(shù)值偏導(dǎo)，按照數(shù)值微分理論這是密 甲敏感柵中心向下側(cè)h距離處的橫向一階數(shù)值偏導(dǎo)，這里的h當然等于疏敏感柵中心到密 甲敏感柵中心之間距離的一半；同樣，疏敏感柵與密乙敏感柵的電阻和減去中乙敏感柵的 電阻值，再除以疏敏感柵中心與密乙敏感柵中心的距離為應(yīng)變的橫向一階數(shù)值偏導(dǎo)，按照 數(shù)值微分理論這是密乙敏感柵中心向下側(cè)h距離處的橫向一階數(shù)值偏導(dǎo)，這里的h當然等 于疏敏感柵中心到密乙敏感柵中心之間距離的一半。上述兩處位置的橫向一階偏導(dǎo)可通過 對疏敏感柵的分時復(fù)用幾乎同時測量。因此該應(yīng)變片的優(yōu)勢在于其下側(cè)可用于測量工件角 落、邊緣等一般應(yīng)變片由于尺寸限制無法測量部位的兩處相近位置的橫向一階偏導(dǎo)。
[0026] 在工藝上應(yīng)注意保持疏敏感柵、中甲敏感柵、中乙敏感柵、密甲敏感柵和密乙敏感 柵過渡段總電阻以及過渡段電阻在外部應(yīng)變下之變化量呈3 :8 :8 :5 :5的數(shù)值關(guān)系以調(diào)高 測量精度，如果過渡段的電阻以及應(yīng)變下電阻變化量不可忽略，也能作為系統(tǒng)誤差在檢測 時加以消除。
[0027] 進一步，所述金屬應(yīng)變片還包括蓋片，所述蓋片覆蓋于所述敏感柵和基底上。
[0028] 再進一步，所述敏感柵為絲式、箱式、薄膜式或厚膜式敏感柵。
[0029] 更進一步，所述基底為膠膜基底、玻璃纖維基底、石棉基底、金屬基底或臨時基底。
[0030] 所述五個敏感柵上、中、下布置在基底上。當然，也可以為其他的布置方式。
[0031] 本發(fā)明的有益效果主要表現(xiàn)在：通過分時復(fù)用疏敏感柵，應(yīng)變片可幾乎同時檢測 密甲敏感柵中心下外側(cè)一處和密乙敏感柵中心下外側(cè)一處的橫向一階偏導(dǎo)，其中密甲敏感 柵中心下外側(cè)處軸向上與密甲敏感柵中心無偏差，橫向上該處與密甲敏感柵中心的間距等 于中甲敏感柵中心與密甲敏感柵中心的間距；密乙敏感柵中心下外側(cè)處軸向上與密乙敏感 柵中心無偏差，橫向上該處與密乙敏感柵中心的間距等于中乙敏感柵中心與密乙敏感柵中 心的間距。因此應(yīng)變片的下側(cè)可測量工件角落、邊緣等對應(yīng)變片有尺寸限制部位的兩處相 近位置橫向一階偏導(dǎo)。
【附圖說明】
[0032] 圖1是可測量單側(cè)雙偏置敏感柵外側(cè)橫向偏導(dǎo)的橫向分布五敏感柵中叉指金屬 應(yīng)變片的不意圖。
[0033] 圖2是可測量單側(cè)雙偏置敏感柵外側(cè)橫向偏導(dǎo)的橫向分布五敏感柵中叉指金屬 應(yīng)變片的俯視圖。
[0034] 圖3是測量電橋示意圖。
[0035] 圖4是敏感柵之兩種敏感段長度配置計算說明圖。
【具體實施方式】
[0036] 下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步描述。
[0037] 參照圖1~圖3, 一種可測量單側(cè)雙偏置敏感柵外側(cè)橫向偏導(dǎo)的橫向分布五敏感 柵中叉指金屬應(yīng)變片，包括基底，所述金屬應(yīng)變片還包括五個敏感柵，每個敏感柵的兩端分 別連接一根引腳，所述基底上固定所述五個敏感柵；
[0038] 每一敏感柵包括敏感段和過渡段，所述敏感段的兩端為過渡段，所述敏感段呈細 長條形，所述過渡段呈粗短形，所述敏感段的電阻遠大于所述過渡段的電阻，相同應(yīng)變狀態(tài) 下所述敏感段的電阻變化值遠大于所述過渡段的電阻變化值，所述過渡段的電阻變化值接 近于〇;
[0039] 每個敏感段的所有橫截面形心構(gòu)成敏感段軸線，該敏感段軸線為一條直線段，所 述五個敏感柵中各敏感段的軸線平行并且位于同一平面中，敏感段軸線所確定平面內(nèi)，沿 所述敏感段軸線方向即軸向，與軸向垂直的方向為橫向；每個敏感段上存在其兩側(cè)電阻值 相等的一個橫截面，取該截面形心位置并以該敏感段電阻值為名義質(zhì)量構(gòu)成所在敏感段的 名義質(zhì)點，各個敏感段的名義質(zhì)點共同形成的質(zhì)心位置為敏感柵的中心；
[0040] 各敏感柵中心之間在軸向上無偏差，在橫向上有偏差；各敏感柵按敏感柵中心位 置的順序，沿橫向從上至下依次為疏敏感柵、中甲敏感柵、中乙敏感柵、密甲敏感柵和密乙 敏感柵，疏敏感柵中心與中甲敏感柵中心之間距離為△yA，中甲敏感柵中心與密甲敏感柵 中心之間距離也為八7^疏敏感柵中心與中乙敏感柵中心之間距離為AyB，中乙敏感柵中 心與密乙敏感柵中心之間距離也為AyB，AyB>AyA;中甲敏感柵中心與中乙敏感柵中心 的距離為Ayi，密甲敏感柵中心與密乙敏感柵中心之間距離為2Ayi，Ayi=AyB-AyA;
[0041] 各敏感段軸線所確定平面上，中部中甲敏感柵與中乙敏感柵之間呈叉指布置，下 部密甲敏感柵和密乙敏感柵之間呈叉指布置，無其他敏感柵之間的叉指布置；
[0042] 疏敏感柵、中甲敏感柵、中乙敏感柵、密甲敏感柵和密乙敏感柵的敏感段總電阻呈 3 :8 :8 :5 :5的比例關(guān)系，疏敏感柵、中甲敏感柵、中乙敏感柵、密甲敏感柵和密乙敏感柵的 敏感段在相同的應(yīng)變下敏感段的總電阻變化值也呈3 :8 :8 :5 :5的比例關(guān)系。
[0043] 進一步，每個敏感段的所有橫截面形狀尺寸一致，取每個敏感段的軸線中點位置 并以該敏感段電阻值為名義質(zhì)量構(gòu)成所在敏感段的名義質(zhì)點，所述疏敏感柵、中甲敏感柵、 中乙敏感柵、密甲敏感柵和密乙敏感柵的敏感段總長度呈3 :8 :8 :5 :5的比例關(guān)系。該方案 為一種可以選擇的方案，名義質(zhì)點的位置只要符合其兩側(cè)電阻值相等的橫截面形心位置即 可，也可以是其他位置。
[0044] 更進一步，在五個敏感柵之中，除了上述兩對敏感柵之間呈叉指布置，無其他敏感 柵之間的叉指布置。所述叉指布置是指：兩敏感柵的各敏感段軸線所在平面上，在與敏感段 軸線垂直方向上兩敏感柵的敏感段錯落分布，對在該方向上兩敏感柵之敏感段分別出現(xiàn)的 次序和次數(shù)不做限制。
[0045] 本實施例的可測量單側(cè)雙偏置敏感柵外側(cè)橫向偏導(dǎo)的橫向分布五敏感柵中叉指 金屬應(yīng)變片，包括基底1，所述金屬應(yīng)變片還包括五個敏感柵，每個敏感柵的兩端分別連接 一根引腳，所述基底1上固定所述五個敏感柵。
[0046] 基底1之上可固定疏敏感柵2、中甲敏感柵3、中乙敏感柵4、密甲敏感柵5和密乙 敏感柵6,用于保持各敏感柵固定的形狀、位置和尺寸；基底1很薄，從而將試件表面的應(yīng)變 準確地傳遞到疏敏感柵2、中甲敏感柵3、中乙敏感柵4、密甲敏感柵5和密乙敏感柵6。基 底1可以是膠膜基底、玻璃纖維基底、石棉基底、金屬基底和臨時基底。通常用黏結(jié)、焊接、 陶瓷噴涂等方式將基底固定于測試件的被測部位?；?上還可印有一些用于應(yīng)變片定位 的線條。
[0047] 蓋片用紙或者膠等材料制成，覆蓋于疏敏感柵2、中甲敏感柵3、中乙敏感柵4、密 甲敏感柵5、密乙敏感柵6和基底1上，起防潮、防蝕、防損等作用的保護層。
[0048]引腳7用于連接敏感柵和測量電路，疏敏感柵2、中甲敏感柵3、中乙敏感柵4、密 甲敏感柵5和密乙敏感柵6各有兩個引腳7,對與箱式和膜式應(yīng)變片，引腳7與其所連接的 疏敏感柵2、中甲敏感柵3、中