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一種F-P標(biāo)準(zhǔn)具平行度檢測(cè)校準(zhǔn)方法

文檔序號(hào):40632776發(fā)布日期:2025-01-10 18:38閱讀:3來(lái)源:國(guó)知局
一種F-P標(biāo)準(zhǔn)具平行度檢測(cè)校準(zhǔn)方法

本發(fā)明屬于光學(xué)領(lǐng)域,具體涉及一種f-p標(biāo)準(zhǔn)具平行度檢測(cè)校準(zhǔn)方法。


背景技術(shù):

1、f-p(法珀)標(biāo)準(zhǔn)具主要由兩塊平行的熔石英平板組成,平板內(nèi)側(cè)鍍有高反射率膜層,平板間的介質(zhì)為空氣,平板間的距離通過(guò)墊片(或隔圈)固定。法珀標(biāo)準(zhǔn)具基于多光束干涉原理,光進(jìn)入法珀腔在兩塊平板間多次反射后形成多光束干涉。由于法珀標(biāo)準(zhǔn)具有光譜分辨率高、測(cè)量精度準(zhǔn)、穩(wěn)定性好以及易于集成等優(yōu)點(diǎn),廣泛應(yīng)用于光譜學(xué)、激光技術(shù)、光通信、天文學(xué)、生物醫(yī)學(xué)和工業(yè)檢測(cè)等領(lǐng)域。

2、法珀標(biāo)準(zhǔn)具兩塊平板的平行度決定了標(biāo)準(zhǔn)具的譜線半寬和透過(guò)光強(qiáng),是評(píng)估標(biāo)準(zhǔn)具性能的關(guān)鍵參數(shù)。目前測(cè)量平行度的方法主要有:機(jī)械測(cè)量法,使用機(jī)械裝置直接測(cè)量?jī)蓚€(gè)平板之間的間距變化,這類方法屬于接觸式測(cè)量,會(huì)對(duì)平板的反射面造成物理?yè)p害或污染,同時(shí)測(cè)量精度較低,僅可以達(dá)到微米量級(jí);自準(zhǔn)直法,該方法利用自準(zhǔn)直原理,激光器發(fā)出的光束分別被兩個(gè)工作面反射,然后成像在焦面上,根據(jù)像點(diǎn)的相對(duì)位置來(lái)計(jì)算兩塊平板的平行度,這種測(cè)量方法雖然不會(huì)對(duì)反射面造成物理?yè)p害,但測(cè)量精度同樣較低,也為微米量級(jí);干涉測(cè)量法,通過(guò)改變干涉光束的相位差,分析干涉條紋的計(jì)數(shù)、均勻性以及變化情況,獲得兩塊平板間的平行度,傳統(tǒng)的干涉測(cè)量方法由于受到人為經(jīng)驗(yàn)和成像系統(tǒng)分辨率等因素的限制,測(cè)量精度只能做到λ/10-λ/20,后來(lái)通過(guò)采用精密的移相機(jī)械結(jié)構(gòu)和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng),測(cè)量精度提高到λ/50,再后來(lái)通過(guò)采用波長(zhǎng)可調(diào)的激光器進(jìn)行移相,短期內(nèi)的測(cè)量精度可達(dá)到0.3nm,但這種方法是根據(jù)改變相位差引起的干涉條紋變化情況來(lái)判斷平行度,對(duì)移相機(jī)構(gòu)的精度、激光光源的穩(wěn)定性,以及測(cè)量環(huán)境都有很高的要求,一旦無(wú)法保證這些條件就會(huì)影響測(cè)量的準(zhǔn)確性,從而大大增加了檢測(cè)系統(tǒng)的復(fù)雜程度和成本。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明提供了一種法珀標(biāo)準(zhǔn)具平行度檢測(cè)校準(zhǔn)方法,旨在解決的技術(shù)問(wèn)題是采用具有子孔徑的掩膜對(duì)法珀標(biāo)準(zhǔn)具的通光孔徑進(jìn)行分割,光束通過(guò)各子孔徑對(duì)應(yīng)的法珀標(biāo)準(zhǔn)具局部區(qū)域后,產(chǎn)生相應(yīng)的光譜曲線,通過(guò)對(duì)比各光譜曲線的相對(duì)偏移,精確測(cè)量各局部區(qū)域平板間距的差異。

2、一種f-p(法珀)標(biāo)準(zhǔn)具平行度檢測(cè)校準(zhǔn)方法,所述法珀標(biāo)準(zhǔn)具由兩塊平行的平板組成,所述平板為熔石英材質(zhì),且設(shè)有通光孔徑,具體包括如下步驟:

3、步驟1:在法珀標(biāo)準(zhǔn)具的通光孔徑上放置掩膜,掩膜邊緣四周成對(duì)分布n個(gè)通光的子孔徑,每個(gè)子孔徑與法珀標(biāo)準(zhǔn)具的區(qū)域相匹配,且對(duì)應(yīng)區(qū)域的平板間距為hn;

4、步驟2:寬波段連續(xù)譜光源發(fā)射的光經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直后形成準(zhǔn)直光束,分別射入掩膜上的n個(gè)子孔徑及其對(duì)應(yīng)的法珀標(biāo)準(zhǔn)具區(qū)域,然后經(jīng)過(guò)成像鏡匯聚到焦面上;

5、步驟3:遮擋掩膜上的子孔徑,僅保留一對(duì)方向?qū)?yīng)的子孔徑通光,用光譜儀測(cè)量焦面上像點(diǎn)的光譜曲線;

6、當(dāng)法珀標(biāo)準(zhǔn)具的兩塊平板不平行時(shí),則兩個(gè)子孔徑對(duì)應(yīng)的平板間距hn不一致,此時(shí)兩個(gè)子孔徑得到兩條光譜曲線;

7、步驟4:比對(duì)上述兩條光譜曲線的偏移量δλ,

8、(1)

9、其中,h為間距,λ為波長(zhǎng)

10、并根據(jù)公式(1)計(jì)算出兩個(gè)子孔徑對(duì)應(yīng)的平板間距的差值δh;

11、步驟5:兩個(gè)子孔徑的中心距離為l,

12、(2)

13、根據(jù)公式(2)及這對(duì)子孔徑的方向得到法珀標(biāo)準(zhǔn)具的兩塊平板在此方向上的相對(duì)傾斜量δθ;

14、步驟6:根據(jù)平板傾斜量δθ及傾斜方向,調(diào)整法珀標(biāo)準(zhǔn)具兩塊平板間的墊片(或隔圈),同時(shí)觀察兩條光譜曲線的平移情況,當(dāng)兩條光譜曲線完全重合時(shí),則說(shuō)明法珀標(biāo)準(zhǔn)具在此方向平行;

15、步驟7:更換掩膜上的通光子孔徑,重復(fù)步驟3到步驟6;

16、步驟8:令掩膜上的所有子孔徑都通光,當(dāng)所有子孔徑的光譜曲線都重合時(shí),則f-p標(biāo)準(zhǔn)具的兩塊平板完全平行。

17、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果為:

18、(1)本發(fā)明同時(shí)獲得f-p(法珀)標(biāo)準(zhǔn)具不同區(qū)域的光譜曲線,通過(guò)比對(duì)光譜曲線的相對(duì)偏移對(duì)法珀標(biāo)準(zhǔn)具的平行度進(jìn)行檢測(cè)并校準(zhǔn),不需要精密的移動(dòng)機(jī)構(gòu)、不受光源穩(wěn)定性和檢測(cè)環(huán)境的影響,測(cè)量和校準(zhǔn)效果更好;

19、(2)本發(fā)明通過(guò)光譜儀測(cè)量法珀標(biāo)準(zhǔn)具局部區(qū)域的光譜曲線,所以檢測(cè)和校準(zhǔn)精度取決于使用的光譜儀,由于光譜儀具有較高的光譜分辨率,所以本發(fā)明的檢測(cè)和校準(zhǔn)精度較高,可以達(dá)到納米量級(jí);

20、(3)本發(fā)明根據(jù)掩膜上子孔徑的方位,可以明確法珀標(biāo)準(zhǔn)具平板的傾斜方向,并通過(guò)觀察光譜曲線,對(duì)法珀標(biāo)準(zhǔn)具的平行度進(jìn)行實(shí)時(shí)校準(zhǔn)。



技術(shù)特征:

1.一種f-p標(biāo)準(zhǔn)具平行度檢測(cè)校準(zhǔn)方法,所述f-p標(biāo)準(zhǔn)具由兩塊平行的平板組成,所述平板為熔石英材質(zhì),且設(shè)有通光孔徑,其特征在于,具體包括如下步驟:


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明屬于光學(xué)領(lǐng)域,本發(fā)明公開(kāi)了一種F?P標(biāo)準(zhǔn)具平行度檢測(cè)校準(zhǔn)方法,具體是采用帶有子孔徑的掩膜對(duì)法珀標(biāo)準(zhǔn)具的通光孔徑進(jìn)行分割,通過(guò)光譜儀同時(shí)獲取法珀標(biāo)準(zhǔn)具不同區(qū)域的光譜曲線,通過(guò)比對(duì)標(biāo)準(zhǔn)具局部區(qū)域光譜曲線的相對(duì)偏移,精確測(cè)量各局部區(qū)域平板間距的差異,實(shí)現(xiàn)法珀標(biāo)準(zhǔn)具平行度的檢測(cè)和實(shí)時(shí)校準(zhǔn),不需要精密的移動(dòng)機(jī)構(gòu)、不受光源穩(wěn)定性和檢測(cè)環(huán)境的影響,測(cè)量和校準(zhǔn)精度可以達(dá)到納米量級(jí)。

技術(shù)研發(fā)人員:馬琳,金振宇,朱瑾,常亮
受保護(hù)的技術(shù)使用者:中國(guó)科學(xué)院云南天文臺(tái)
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/9
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